专利名称：一种印章的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种印章，尤其是涉及一种双面印章，属于印章技术领域。
背景技术：
目前，公知技术的公章与私章是分开的，随着创业热浪的进一步开展，许多个人独资企业纷纷开业，伴随着的刻制公章与私章能合并在一起会给他们创业成本降低，也方便使用，但在本实用新型未作出之前，市场上无双面印章，也无双面印章的技术方案公开。
发明内容
为了克服现有技术中无双面印章的不足，本实用新型的目的是为了提供一种双面印章，该双面印章底部大圆形，用于刻制企业公章，上面小圆形用于刻制私人方章，若采用玉石或名贵石，有篆刻家刻制，在私人方章上刻上企业开创者的名字，对他绝对是一种鼓励，也是一种激励，同时节约了开支。
为了达到本实用新型的目的，本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是由刻私章面、章体、刻公章面组成，其特征在于章体的上端是呈小圆形用于刻私章面，章体的下端是大圆形面即刻公章面用于刻公章，在刻私章时可通过篆刻家在小圆形的刻私章面上刻出方章。
本实用新型的有益效果是设计简单，容易制作，有利于收藏，具有实用性。
以下结合附图和实施例对本实用新型作进一步说明。
图1是本实用新型示意图。
图中1.刻私章面，2.章体，3.刻公章面。
具体实施方式
实施例 本实用新型由刻私章面(1)、章体(2)、刻公章面(3)组成，其特征在于章体(2)的上端是呈小圆形用于刻私章面(3)，章体(2)的下端是大圆形面即刻公章面(3)用于刻公章，在刻私章时可通过篆刻家在小圆形的刻私章面(1)上刻出方章。
权利要求1.一种印章，由刻私章面(1)、章体(2)、刻公章面(3)组成，其特征在于章体(2)的上端是呈小圆形面用于刻私章面(3)，章体(2)的下端是大圆形面即刻公章面(3)用于刻公章。
专利摘要本实用新型公开了一种印章，属于印章技术领域，由刻私章面、章体、刻公章面组成，其特征在于章体的上端是呈小圆形用于刻私章面，章体的下端是大圆形面即刻公章面用于刻公章，在刻私章时可通过篆刻家在小圆形的刻私章面上刻出方章，其有益效果是设计简单，容易制作，有利于收藏，具有实用性。
文档编号B41K1/04GK201136343SQ200720194369
公开日2008年10月22日 申请日期2007年12月14日 优先权日2007年12月14日
发明者吴伟明 申请人:吴伟明