本发明涉及热转印技术领域,尤其涉及一种制作幻彩光栅热转印膜的方法及装置。
背景技术:
热转印装饰工艺是通过热转印膜一次性加热,将热转印上的装饰图案转印于被装饰建材表面上,形成优质饰面膜的过程。在热转印过程中,利用热和压力的共同作用使保护层及图案层从聚酯基片上分离,使整个装饰层与基材永久胶合。
传统的热转印工艺,只能把整个图案完完整整的通过印刷或涂布到转印膜,然后通过热转印工艺使图案转移到基材表面。但如果我们想要得到的图案是不连续的、被分割的,从而使得热转印膜产生一条条的光栅效果,从不同角度看的话,还能够得到不同的颜色,这样通过传统的工艺显然很难达到。
技术实现要素:
本发明的目的是为了解决上述背景问题中提出的问题,提供一种能够分割转印膜上图案,使得转印膜图案产生条状光栅效果,不同角度看能够得到不同颜色的装置。
为了达到上述目的,本发明公开了一种制作幻彩光栅热转印膜的装置,,它包括油墨槽,版辊,一号压辊,所述版辊底部设置在油墨槽内,所述一号压辊设置于版辊正上方并与版辊相抵,所述油墨槽内采用uv油墨或eb油墨,所述装置还包括二号压辊,光栅基膜,一号带轮,二号带轮,三号带轮,固化区,所述一号带轮、二号带轮及三号带轮呈三角分布,所述光栅基膜材质为透明的pet膜,所述光栅基膜表面均匀设置多个突起,所述光栅基膜,一号带轮,二号带轮及三号带轮形成一个带传动,所述带传动左侧设置有一个二号压辊,所述二号压辊与光栅基膜相抵,所述二号压辊右侧还设有一个固化区。
所述二号压辊呈逆时针方向旋转。
所述一号带轮,二号带轮及三号带轮呈顺时针方向旋转。
所述突起为圆点、条状、花纹或曲线。
所述固化区是uv固化灯或eb发生器。
一种制作幻彩光栅热转印膜的方法,所述方法包括以下步骤:
步骤一:确定基材薄膜材料为pet,确定使用uv油墨或eb油墨;
步骤二:使用凹版印刷涂布油墨图案层;
步骤三:二号压辊逆时针转动,光栅基膜与二号压辊相抵,光栅基膜表面的多个突起对基材薄膜表面图案进行分割;
步骤四:使用uv固化灯或者eb发生器进行固化;
步骤五:使用冷却辊冷却;
步骤六:成品收卷,裁切。
相比现有技术,本发明具有以下优点:
本发明所述的一种制作幻彩光栅热转印膜的方法及装置,可以使热转印膜上的图案得到分割,形成条状光栅效果,从不同角度看的话,还能够得到不同的颜色,相比传统的热转印膜,更为美观。
附图说明
图1为本发明所述的一种分割图案制作幻彩光栅效果热转印膜的装置结构示意图。
图2为本发明所述的一种分割图案制作幻彩光栅效果热转印膜装置的另一种实施方式的结构示意图,其中:
1、油墨槽;2、版辊;3、一号压辊;4、基材薄膜;5、二号压辊;6、突起;7、光栅基膜;8、一号带轮;9、二号带轮;10、三号带轮;11、固化区。
具体实施方案
下面结合附图和具体实施例对本发明加以说明:
如图1所示,本发明公开了一种制作幻彩光栅热转印膜的装置,它包括油墨槽1,版辊2,一号压辊3,所述版辊2底部设置在油墨槽1内,所述一号压辊3设置于版辊2正上方并与版辊2相抵,所述装置还包括二号压辊5,光栅基膜7,一号带轮8,二号带轮9,三号带轮10,固化区11,所述一号带轮8、二号带轮9及三号带轮10呈三角分布,所述光栅基膜7材质为透明的pet膜,所述光栅基膜7表面均匀设置多个突起6,所述光栅基膜7,一号带轮8,二号带轮9及三号带轮10形成一个带传动,所述带传动左侧设置有一个二号压辊5,所述二号压辊5与光栅基膜7相抵,所述二号压辊5逆时针方向旋转,所述一号带轮8,二号带轮9及三号带轮10呈顺时针方向旋转,所述二号压辊5右侧还设有一个固化区11。
所述突起6为圆点、条状、花纹或曲线。
所述二号带轮9设置于一号带轮8正上方,所述三号带轮10设置于一号带轮8及二号带轮9的右侧。
在本实施例中,所述油墨槽1内采用uv油墨,所述固化区11是uv固化灯。
在装置工作时,基材薄膜4首先在版辊2与一号压辊3之间涂布图案,二号压辊5与光栅基膜7相抵,随着基材薄膜4与条状突起6充分接触,基材薄膜4上的图案被分割,同时,二号压辊5右侧的固化区11为uv固化灯,油墨槽1采用的是uv油墨,短时间内uv固化灯可以将基材薄膜4上的uv油墨固化,得到条状图案,同时又因为采用了uv油墨,使得热转印膜产生一条条的光栅效果,从不同角度看的话,还能够得到不同的颜色。
工艺流程包括以下步骤:
步骤一:确定基材薄膜4材料为pet,确定使用uv油墨;
步骤二:使用凹版印刷涂布油墨图案层;
步骤三:二号压辊5逆时针转动,光栅基膜7与二号压辊5相抵,光栅基膜7表面的多个突起对基材薄膜表面图案进行分割;
步骤四:使用uv固化灯进行固化;
步骤五:使用冷却辊冷却;
步骤六:成品收卷,裁切。
实施例2:
如图2所示,在另一种实施方式中,所述油墨槽1内采用eb油墨,所述固化区11是eb发生器。
除上述实施例外,本发明还包括有其他实施方式,凡采用等同变换或者等效替换方式形成的技术方案,均应落入本发明权利要求的保护范围之内。