一种适用于广域环境的大幅面绘图仪吸纸平台装置的制作方法

本发明属于恶劣环境或野外作业用专业绘图仪，特别是一种适用于广域环境的大幅面绘图仪吸纸平台装置。

背景技术：

1、大幅面彩色绘图仪作为一种计算机的输出设备，多为喷墨打印方式，主要用于绘制各种测绘图、建筑设计图、布线图与照片影像等，随着绘图仪逐渐用于地形图、航空图、海岸图和高精度影像资料等涉及国家秘密和商业秘密的介质输出，其打印介质也呈现多样化，大克重白纸、硫酸纸及相片纸也随之得到广泛应用。

2、适用于广域环境的大幅面绘图仪不同于传统商用绘图仪，因其要满足高低温、振动冲击、湿热、盐雾、霉菌及电磁兼容性等要求，其结构为非开放式，是一个相对封闭的密闭式结构，只是在出纸口有经过屏蔽处理的狭长缝隙。传统绘图仪中打印平台吸纸机构难以满足此类应用中对介质吸附的要求。

3、传统的商用及工业用绘图仪均为开放式结构，介质吸附装置可以利用绘图仪内外部空气流动能够的压力差来吸附介质。其介质吸附装置多为在吸附平台下设置单一大空腔，两端或下部装有风机，吸附平台上有均匀分布的过风小孔，这种装置因风机及过风孔相对固定，风机风量也不可调速，造成的吸力也较固定。广域环境大幅面绘图仪因其相对密闭结构，无法像传统绘图仪一样利用内外气流造成的压力差吸附介质，只能在内部空间营造微环境来实现在特定环境中吸附专用打印介质，针对不同打印介质在恶劣环境进行正常打印。才能满足特定场合的应用。尤其是船载车载中相关要求。

技术实现思路

1、本发明的目的在于克服现有技术的不足，提供一种适用于广域环境的大幅面绘图仪吸纸平台装置，可实现在相对密闭的绘图仪空间内营造微环境，通过调节风机转速、风腔活动遮布等组件在吸纸平台的导风板上下方形成压力差，使打印介质吸附于导风板，能够吸附不同幅面不同打印介质，满足大幅面彩色绘图仪的船载车载要求，适用于广域环境。

2、本发明解决其技术问题是通过以下技术方案实现的：

3、一种适用于广域环境的大幅面绘图仪吸纸平台装置，包括绘图仪机箱，绘图仪机箱内部设置有介质轴、纸路单元、打印介质驱动单元、墨车及打印头单元、裁纸刀单元、吸纸平台，打印介质驱动单元带动打印介质自介质轴沿纸路单元输送经过墨车及打印头单元、裁纸刀单元，并经绘图仪的出纸口输出，其特征在于：所述吸纸平台包括第一级吸附单元及第二级吸附单元；在所述墨车及打印头单元下部设置有第一级吸附单元，该第一级吸附单元包括第一风腔及连通第一风腔的一级风机单元，第一风腔上部水平设置有一级导风板，该一级导风板制有过风孔，在第一风腔内设置有对开的活动遮布单元，该活动遮布单元包括对称的位于一级导风板下部沿其下表面移动的风腔活动遮布，该风腔活动遮布对一级导风板的过风孔进行调整式遮挡；在所述裁纸刀单元下部设置有第二级吸附单元，该第二级吸附单元包括第二风腔及连通第二风腔内部的二级风机单元，第二风腔上表面设置有二级导风板，该二级导风板制有过风孔。

4、而且，所述活动遮布单元包括对称设置的第一活动遮布单元及第二活动遮布单元；所述第一活动遮布单元、第二活动遮布单元均包括风腔活动遮布、遮布驱动电机、电机支架、遮布齿条、齿轮及遮布轨道，其电机支架均固定安装于第一风腔内的两端部，遮布驱动电机安装于电机支架上，遮布驱动电机两端安装齿轮，遮布的两个侧边固定安装遮布齿条，在第一风腔内部固定安装横向u形的遮布轨道，该遮布齿条与所述齿轮啮合，并导向运行于所述遮布轨道；所述横向u形的遮布轨道的上层及下层长度为1/2的一级导风板的长度，该遮布齿条的长度均略大于u形遮布轨道的上层或下层的长度，风腔活动遮布运行至遮布轨道下层，则风腔活动遮布上部的一级导风板过风孔导通，吸附面积加大，风腔活动遮布运行至遮布轨道上层，则遮住一级导风板的部分过风孔，吸附面积减小。

5、而且，在绘图仪机箱内部一级导风板的打印介质进入侧安装有第一传感器，该第一传感器将打印介质到位信号传输至绘图仪主机，绘图仪主机进而控制一级风机单元及活动遮布单元的遮布驱动电机，在第一级吸附单元的一级导风板下部形成吸附打印介质的稳定压力负差。

6、而且，在绘图仪机箱内部二级导风板的打印介质进入侧安装有第二传感器，该第二传感器将打印介质到位信号传输至绘图仪主机，绘图仪主机进而控制二级风机单元，在第一级吸附单元的一级导风板下部形成吸附打印介质的稳定压力负差。

7、而且，所述一级风机单元、二级风机单元均由一组间隔布置的调速风机构成。

8、而且，所述绘图仪机箱为相对密闭式结构，所述出纸口为狭长、介质厚度的缝隙。

9、本发明的优点和有益效果为：

10、1.本发明的适用于广域环境的大幅面绘图仪吸纸平台装置，可实现在相对密闭的绘图仪空间内营造微环境，通过调节风机转速、风腔活动遮布等组件在平台导风板上下方形成压力差，使打印介质吸附于导风板，能够吸附不同幅面不同打印介质，满足大幅面彩色绘图仪的船载车载要求，适用于广域环境。

11、2.本发明的适用于广域环境的大幅面绘图仪吸纸平台装置，克服了因介质不同造成的拉力变化、摩擦力变化对绘图仪精确步进及打印质量的影响。

12、3.本发明的适用于广域环境的大幅面绘图仪吸纸平台装置，结构设计合理，采用本发明吸纸平台的绘图仪，适用于广域环境，具有高低温工作、防水防盐雾、抗电磁干扰、低电磁辐射的办公类打印输出设备。

技术特征：

1.一种适用于广域环境的大幅面绘图仪吸纸平台装置，包括绘图仪机箱(2)，绘图仪机箱(2)内部设置有介质轴(9)、纸路单元(11)、打印介质驱动单元、墨车及打印头单元(3)、裁纸刀单元(4)、吸纸平台，打印介质驱动单元带动打印介质自介质轴(9)沿纸路单元(11)输送经过墨车及打印头单元(3)、裁纸刀单元(4)，并经绘图仪的出纸口(6)输出，其特征在于：所述吸纸平台包括第一级吸附单元(8)及第二级吸附单元(5)；在所述墨车及打印头单元(3)下部设置有第一级吸附单元(8)，该第一级吸附单元(8)包括第一风腔(29)及连通第一风腔(29)的一级风机单元(15)，第一风腔(29)上部水平设置有一级导风板(18)，该一级导风板(18)制有过风孔，在第一风腔(29)内设置有对开的活动遮布单元，该活动遮布单元包括对称的位于一级导风板(18)下部沿其下表面移动的风腔活动遮布(14)，该风腔活动遮布(14)对一级导风板(18)的过风孔进行调整式遮挡；在所述裁纸刀单元(4)下部设置有第二级吸附单元(5)，该第二级吸附单元(5)包括第二风腔(30)及连通第二风腔(30)内部的二级风机单元(33)，第二风腔(30)上表面设置有二级导风板(22)，该二级导风板(22)制有过风孔。

2.根据权利要求1所述的用于广域环境的大幅面绘图仪吸纸平台装置，其特征在于：所述活动遮布单元包括对称设置的第一活动遮布单元(31)及第二活动遮布单元(32)；所述第一活动遮布单元(31)、第二活动遮布单元(32)均包括风腔活动遮布(14)、遮布驱动电机(16)、电机支架(26)、遮布齿条(23)、齿轮(24)及遮布轨道(25)，其电机支架(26)均固定安装于第一风腔(29)内的两端部，遮布驱动电机(16)安装于电机支架(26)上，遮布驱动电机(16)两端安装齿轮(24)，遮布的两个侧边固定安装遮布齿条(23)，在第一风腔(29)内部固定安装横向u形的遮布轨道(25)，该遮布齿条(23)与所述齿轮(24)啮合，并导向运行于所述遮布轨道(25)；所述横向u形的遮布轨道(25)的上层及下层长度为1/2的一级导风板(18)的长度，该遮布齿条(23)的长度均略大于u形遮布轨道(25)的上层或下层的长度，风腔活动遮布(14)运行至遮布轨道(25)下层，则风腔活动遮布(14)上部的一级导风板(18)过风孔导通，吸附面积加大，风腔活动遮布(14)运行至遮布轨道上层，则遮住一级导风板(18)的部分过风孔，吸附面积减小。

3.根据权利要求1所述的用于广域环境的大幅面绘图仪吸纸平台装置，其特征在于：在绘图仪机箱(2)内部一级导风板(18)的打印介质进入侧安装有第一传感器(19)，该第一传感器(19)将打印介质(7)到位信号传输至绘图仪主机(1)，绘图仪主机(1)进而控制一级风机单元(15)及活动遮布单元的遮布驱动电机(16)，在第一级吸附单元(8)的一级导风板(18)下部形成吸附打印介质(7)的稳定压力负差。

4.根据权利要求1所述的用于广域环境的大幅面绘图仪吸纸平台装置，其特征在于：在绘图仪机箱(2)内部二级导风板(22)的打印介质进入侧安装有第二传感器(21)，该第二传感器(21)将打印介质(7)到位信号传输至绘图仪主机，绘图仪主机进而控制二级风机单元(33)，在第一级吸附单元(8)的一级导风板(18)下部形成吸附打印介质(7)的稳定压力负差。

5.根据权利要求1所述的用于广域环境的大幅面绘图仪吸纸平台装置，其特征在于：所述一级风机单元(15)、二级风机单元(33)均由一组间隔布置的调速风机构成。

6.根据权利要求1所述的用于广域环境的大幅面绘图仪吸纸平台装置，其特征在于：所述绘图仪机箱(2)为相对密闭式结构，所述出纸口(6)为狭长、介质厚度的缝隙。

技术总结
本发明涉及一种适用于广域环境的大幅面绘图仪吸纸平台装置，包括绘图仪机箱，绘图仪机箱内部设置有介质轴、纸路单元、打印介质驱动单元、墨车及打印头单元、裁纸刀单元，在墨车及打印头单元下部设置有第一级吸附单元，在第一级吸附单元的第一风腔内设置有对开的活动遮布单元，该活动遮布单元包括对称的位于一级导风板下部沿其下表面移动的活动遮布，该活动遮布对一级导风板的过风孔进行调整式遮挡；在所述裁纸刀单元下部设置有第二级吸附单元。本发明可实现在相对密闭的绘图仪空间内营造微环境，在平台导风板上下方形成压力差，使打印介质吸附于导风板，能够吸附不同幅面不同打印介质，满足大幅面彩色绘图仪的船载车载要求，适用于广域环境。

技术研发人员：李刚,刁彦飞,刘九龙,张智杰,闫森森,杨青
受保护的技术使用者：天津七所精密机电技术有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/4/17