转印膜清理设备、激光转印裝置及转印膜清理方法与流程

本申请涉及激光转印，特别是涉及转印膜清理设备、激光转印裝置及转印膜清理方法。

背景技术：

1、金属化是光伏电池片制备的关键工艺之一，目前光伏电池金属化方案有丝网印刷、激光转印、电镀等一些方法。其中，激光转印具有节省浆料、栅线线宽窄等优点，被广泛应用。

2、目前的激光转印技术，通过在转印膜上设置所需要的浆料形状的沟槽，将浆料填充在沟槽内并朝向电池片，采用激光束从沟槽对侧对沟槽图形进行扫描，将浆料从沟槽中转移至电池片表面，形成栅线。然而，使用过后的转印膜直接报废处理，物料成本较高。

技术实现思路

1、基于此，提供一种转印膜清理设备，能够对于转印膜进行清理并循环使用，降低成本。

2、本申请第一方面的实施例提出了一种转印膜清理设备，包括：

3、湿式清洗组件，所述湿式清洗组件用于清洗转印膜；

4、烘干组件，所述烘干组件设置于所述湿式清洗组件下游，用于将所述湿式清洗组件清洗后的所述转印膜烘干；

5、干式清洗组件，所述干式清洗组件设置于所述烘干组件下游，用于将所述烘干组件烘干后的所述转印膜清洗。

6、在其中一个实施例中，所述湿式清洗组件包括超声波清洗单元，所述超声波清洗单元设置有用于清洗所述转印膜的清洗剂。

7、在其中一个实施例中，超声波清洗单元包括：

8、初次沉淀池，所述初次沉淀池设置有第一超声波清洗机；

9、叠加清洗池，所述叠加清洗池连接于所述初次沉淀池的下游，所述叠加清洗池设置有第二超声波清洗机；所述叠加清洗池设置有一个或多个。

10、在其中一个实施例中，所述初次沉淀池底部设置有回收口。

11、在其中一个实施例中，所述超声波清洗单元连接有降温单元，所述降温单元包括若干毛细管和液冷元件，所述毛细管连接所述液冷元件以及所述超声波清洗单元的所述清洗剂。

12、在其中一个实施例中，所述烘干组件包括设置于所述湿式清洗组件下游的烘干腔室，所述烘干腔室内设置有烘干风体供应元件。

13、在其中一个实施例中，所述干式清洗组件包括设置于所述烘干组件下游的高压气体吹扫单元，所述高压气体吹扫单元设置有用于吹扫所述转印膜的高压气体。

14、在其中一个实施例中，所述高压气体吹扫单元包括吹扫管路，所述吹扫管路设置有朝向所述转印膜的沟槽的吹扫狭缝；

15、所述吹扫管路连接有压缩气源，所述压缩气源将高压气体供应于所述吹扫管路内，且通过所述吹扫狭缝吹向所述转印膜的沟槽。

16、本申请第二方面的实施例提出了一种激光转印裝置，包括依次连接的激光转印设备、如上述任一项实施例所述的转印膜清理设备以及浆料填充设备；

17、其中，所述转印膜依次通过所述激光转印设备、所述转印膜清理设备以及浆料填充设备后，循环供应回所述激光转印设备。

18、本申请第三方面的实施例提出了一种转印膜清理方法，包括：

19、采用湿式清洗法清理转印膜；

20、对湿式清洗法清理后的转印膜烘干；

21、采用干式清洗法清理烘干后的转印膜。

22、根据本申请实施例的转印膜清理设备、激光转印裝置及转印膜清理方法，转印膜使用完毕后，先用湿式清洗组件清洗转印膜，然后将清洗后的转印膜传输至烘干组件处，烘干组件将转印膜烘干，然后再用干湿清洗组件对转印膜进行再次的清洗，且干湿清洗组件清洗完的转印膜无需再次烘干，提升转印膜的清洁度，以便于转印膜循环使用，降低成本。将转印膜清理设备应用于激光转印裝置上，能够使得激光转印完的转印膜直接输送至转印膜清理设备上，在转印膜清理设备清理完毕直接输送至浆料填充设备，以供激光转印设备进行激光转印，使得激光转印裝置结构紧凑的同时，能够对转印膜进行清理并循环使用，降低成本，提升生产效率。

技术特征：

1.一种转印膜清理设备，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的转印膜清理设备，其特征在于，所述湿式清洗组件包括超声波清洗单元，所述超声波清洗单元设置有用于清洗所述转印膜的清洗剂。

3.根据权利要求2所述的转印膜清理设备，其特征在于，超声波清洗单元包括：

4.根据权利要求3所述的转印膜清理设备，其特征在于，所述初次沉淀池底部设置有回收口。

5.根据权利要求2所述的转印膜清理设备，其特征在于，所述超声波清洗单元连接有降温单元，所述降温单元包括若干毛细管和液冷元件，所述毛细管连接所述液冷元件以及所述超声波清洗单元的所述清洗剂。

6.根据权利要求1所述的转印膜清理设备，其特征在于，所述烘干组件包括设置于所述湿式清洗组件下游的烘干腔室，所述烘干腔室内设置有烘干风体供应元件。

7.根据权利要求1所述的转印膜清理设备，其特征在于，所述干式清洗组件包括设置于所述烘干组件下游的高压气体吹扫单元，所述高压气体吹扫单元设置有用于吹扫所述转印膜的高压气体。

8.根据权利要求7所述的转印膜清理设备，其特征在于，所述高压气体吹扫单元包括吹扫管路，所述吹扫管路设置有朝向所述转印膜的沟槽的吹扫狭缝；

9.一种激光转印裝置，其特征在于，包括依次连接的激光转印设备、如权利要求1-8任一项所述的转印膜清理设备以及浆料填充设备；

10.一种转印膜清理方法，其特征在于，包括：

技术总结
本申请涉及一种转印膜清理设备、激光转印裝置及转印膜清理方法。转印膜清理设备包括湿式清洗组件、烘干组件和干式清洗组件，湿式清洗组件用于清洗转印膜；烘干组件设置于湿式清洗组件下游，用于将湿式清洗组件清洗后的转印膜烘干；干式清洗组件设置于烘干组件下游，用于将烘干组件烘干后的转印膜清洗。本申请实施例的转印膜清理设备、激光转印裝置及转印膜清理方法，将转印膜清理设备应用于激光转印裝置上，能够使得激光转印完的转印膜直接输送至转印膜清理设备上，在转印膜清理设备清理完毕直接输送至浆料填充设备，以供激光转印设备进行激光转印，使得激光转印裝置结构紧凑的同时，能够对转印膜进行清理并循环使用，降低成本，提升生产效率。

技术研发人员：雍文炯,韩玉浩
受保护的技术使用者：天合光能股份有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/5/9