用于制造防伪元件转印材料的方法和防伪元件转印材料与流程

本发明涉及一种用于制造防伪元件转印材料的方法，所述防伪元件转印材料具有提供在支承基底上的构造为转印元件的防伪元件，所述方法包括

a)提供支承基底，该支承基底依次配设有防伪元件层复合件和具有凹空的掩膜，其中，防伪元件层复合件具有与支承基底能够分离地连接的显示光学可变效应的特征层和胶粘剂层，所述特征层在防伪元件转移到有价文件基底上之后朝向观察者，其中，沿掩膜的凹空构造有待转印到有价文件的基底上的、配设有冲压线的防伪元件层复合件，

b)将掩膜连同被掩膜掩蔽的、存在于掩膜的凹空之外的防伪元件层复合件从支承基底上剥离。

此外，本发明涉及一种通过本发明可获得的防伪元件转印材料。

有价物品、例如名牌商品或者有价文件、尤其钞票往往设计具有防伪元件，该防伪元件允许核查有价物品的真实性并且同时用于防止未经允许的复制。为此使用的防伪元件经常不是单独提供的，而是以具有多个构造为转印元件的防伪元件的转印带的形式提供。转印带的特征在于，防伪元件在支承层上制备，其中，转印元件的层的顺序必须是与其稍后存在于待保护的物品上的顺序相反。在转印过程中通常从防伪元件的层结构中去除支承层。转印带在支承层对置的侧面上具有胶粘剂层、大多由在转移防伪元件时熔化并且将该防伪元件与待防伪的物品粘接的热封胶或者热封漆构成。转印带利用热封胶层施加在物品上，并且借助加热的转印压模或者转印辊压紧，并且以加热的转印压模的轮廓形状转移到物品上。例如在专利文献ep0420261b1和wo2005/108108a2中描述了转印元件、转印带以及转印元件到目标基底上的转移。

实践表明，恰恰在使用更稳定的和/或更柔性的uv压印漆时，转印元件、例如转印贴片在加热区域的边缘上不能被干净地撕下。这导致边缘不干净，并且还可能导致从非粘合区域中的层复合件撕下的膜复合件的残留物残留在被转移的贴片上。此残留物是不希望的，因为它之后会剥离并且以杂质的形式影响后续的处理步骤、例如印制过程。

除了通过转印压模在转移过程中使转印元件成型之外，每个转印元件也可以已经预先加工为希望的轮廓形状地存在于转印带上。当防伪元件具有层结构时，对分隔开的单个防伪元件进行预先加工是有意义的，该层结构使在转印过程期间精确地分离整个层结构变得困难。例如当待转移的防伪元件的层结构具有永久性支承基底、例如塑料膜时则是这种情况。当防伪元件必须特别牢固地构造时，例如当由于该防伪元件应当被用于关闭待防伪的物品中的连续的开口而必须是自承载式时，防伪元件的层结构之内的支承基底是符合目的的。根据物品和待关闭的开口的大小不同，在此可能对防伪元件的稳固性提出较高的需求。例如钞票在流通过程中遭受较高的负荷、抓取、弯折并且在某些情况下还暴露于潮湿。如同钞票纸本身，防伪元件必须同样承受住这些负荷，因为否则会有在一段流通时间后暴露钞票中的连续的开口的风险。

那些其层结构包括牢固的支承基底、通常塑料膜的防伪元件必须作为预先加工过的单个元件存在于转印元件上，这指的是，必须在防伪元件材料中预先切割防伪元件的轮廓形状。预先切割例如可以借助激光实施。

在此产生了问题，即，必须极其精确地控制切割深度，一方面为了切断防伪元件的整个层结构，但另一方面为了不损害在转印时被分离的支承材料。作为支承材料通常使用塑料膜。塑料膜虽然具有较高的抗撕裂强度，但具有较低的抗继续撕裂强度。撕开塑料膜时难以避免的是，在将防伪元件转移到有价物品上的过程中作为连续材料存在的防伪元件转印材料在多个部位上撕裂。还必须注意，待切断的层结构或者非待切断的支承膜是具有微米级的厚度的材料。防伪元件的层结构通常具有大约20μm至30μm的厚度，并且支承膜通常具有10μm至20μm的厚度。考虑到这里所需的精确度，困难的是如此实施切割过程，即，尽管完全切断防伪元件的层结构，但如此及时地停止切割过程，使得支承膜不在任何部位上被切割。然而，由于支承膜被部分切割，防伪元件转印材料失去稳固性、甚至可能撕裂，因此不再保证精确地并且无摩擦地将防伪元件从连续材料施放在待防护的产品上。

由专利文献wo2010/031543a1已知以连续材料的形式的防伪元件转印材料，其中将防伪元件预先切割成希望的轮廓形状，然后可将经预先切割的元件没有支承材料可能撕裂的风险地转移到待防伪的产品上。防伪元件转印材料是连续材料、尤其具有几百米长和几厘米/分米直至几米宽的带状材料。防伪元件转印材料具有防伪元件层复合件、即实际的防伪元件材料和临时的支承件、即防伪元件“储存”在其上的材料。临时的支承件基于由第一和第二临时支承基底组成的支承层复合件，该第一和第二支承基底借助胶粘剂层不可剥离地粘合。防伪元件的层复合件与临时的支承件直接连接或者借助分离层连接。分离层是常规类型，并且促进防伪元件在转移到有价物品上时从临时的支承件剥离。临时的支承件位于防伪元件层复合件的、在转移防伪元件之后朝向观察者的侧面上。术语“临时的”支承基底表示此支承基底与“永久性的”支承基底相反、不是防伪元件的组成部分。临时的支承件构造为支承件层复合件避免了在切割防伪元件的轮廓形状时通过撕开临时的支承件而不利地影响临时的支承件的稳固性。因为塑料膜的抗继续撕裂强度较低、即，即使只是很少量地切割膜，该膜也轻易地继续撕裂并且可能完全撕开，所以将单一的临时支承膜相应地构造得更厚不能够轻易地实现可比较的结果。此外在由借助胶粘剂层不可剥离地粘合的第一和第二临时支承基底组成的支承层复合件中：即使临时的支承基底之一被完全切断，其他的临时的支承基底(或者必要时多个其他的临时的支承基底)也通常保持不被损伤并且相应地保持稳固。此外，胶粘剂还构成临时的支承基底之间的额外的“缓冲区”。

在专利文献wo2010/031543a1中描述的方法在于，在施放之前对贴片膜进行除废料(entgittern)。为此用冲头在待转移的层中冲压出贴片的形状，换句话说，用冲头打通这些层。然后在除废料时，使这些层在贴片之外的区域中剥离，同时在贴片区域中保留在支承膜上。因此确保了，在施放之后，贴片具有干净的边缘。然而此方法的缺点在于，层结构必须具有足够用于除废料的稳固性，这可能例如通过置入稳固用的膜层来实现。然而这再次与制造出的贴片的厚度增加有关，这在实际中是不希望的。

本发明所要解决的技术问题在于，提供一种相对于现有技术改善的用于制造转印元件、例如转印贴片的方法。尤其一方面应实现制造出的贴片的厚度较小，另一方面应实现可靠地转印具有干净边缘的贴片。

该技术问题通过在独立权利要求中以及在从属权利要求中定义的特征组合来解决。扩展方案是从属权利要求的主题。

发明概述

1、(本发明的第一方面)一种用于制造防伪元件转印材料的方法，所述防伪元件转印材料具有提供在支承基底上的、构造为转印元件的防伪元件，所述方法包括

a)提供支承基底，所述支承基底依次配设有防伪元件层复合件和具有至少一个凹空的掩膜(maskenfolie)，其中防伪元件层复合件具有与支承基底能够分离地连接的显示光学可变效应的特征层和胶粘剂层，所述特征层在防伪元件转移到有价文件基底上之后朝向观察者，其中，沿掩膜的凹空构造有待转印到有价文件的基底上的、配设有冲压线的防伪元件层复合件，

b)将掩膜连同被掩膜掩蔽的、存在于掩膜的凹空之外的防伪元件层复合件一起从支承基底上剥离。

防伪元件层复合件的胶粘剂层不一定必须整面地沿整个防伪元件层复合件存在，而是可以根据变型方案仅在待制造的、构造为转印元件的防伪元件的区域中存在。在这种情况下制造例如可以如此进行：

-提供支承基底；

-给支承基底配设防伪元件的层复合件和具有至少一个凹空的掩膜，其中，防伪元件层复合件具有与支承基底可分离地连接的、显示光学可变效应的特征层，所述特征层在防伪元件转移到有价文件基底上之后朝向观察者，其中，沿掩膜的凹空构造有待转印到有价文件的基底上的、配设有冲压线的防伪元件层复合件；

-至少在掩膜的凹空的区域中将胶粘剂层尤其以印刷技术施加在防伪元件层复合件上，其中邻接在凹空上的掩膜的部分按需也可以配设有胶粘剂层；

-将掩膜连同被掩膜掩蔽的、存在于掩膜的凹空之外的防伪元件层复合件一起从支承基底上剥离。

2、(优选的设计方案)根据规定1所述的方法，其中，

步骤a)提供支承基底，所述支承基底依次配设有防伪元件层复合件和具有至少一个凹空的掩膜，是如此实现的：首先将配设有至少一个凹空的掩膜施加在防伪元件层复合件上，然后将冲压线沿凹空引入防伪元件层复合件中。

3、(优选的设计方案)根据规定1所述的方法，其中，

步骤a)提供支承基底，所述支承基底依次配设有防伪元件层复合件和具有至少一个凹空的掩膜，是如此实现的：首先将冲压线引入防伪元件层复合件中，然后将配设有至少一个凹空的掩膜精确套准地施加在配设有冲压线的防伪元件层复合件上。

4、(优选的设计方案)根据规定1所述的方法，其中，

步骤a)提供支承基底，所述支承基底依次配设有防伪元件层复合件和具有至少一个凹空的掩膜，是如此实现的：首先将整面的掩膜借助其他的胶粘剂层施加在防伪元件层复合件上，其中，其他的胶粘剂层仅设置在掩膜中的待产生的凹空之外的区域中，然后在整面的掩膜中沿其他的胶粘剂层借助冲裁产生凹空并去除经冲裁的掩膜材料，其中，在冲裁步骤中同时进行将冲压线引入防伪元件层复合件中。

5、(优选的设计方案)根据前述规定1至4之一所述的方法，其中，

显示光学可变效应的特征层基于反光压印结构。

6、(优选的设计方案)根据规定5所述的方法，其中，

如下制造反光压印结构：(a)反光衍射结构，或者(b)以由多个反光镶嵌元件构成的镶嵌件的形式的反光微结构，该多个反光镶嵌元件通过大小、轮廓形状、凸纹形状、反射能力和空间定向这些参数表征，并且该多个反光镶嵌元件构成预先确定的图案，方式为多个具有不同表征参数的镶嵌元件的组将射入的光反射到不同的空间区域中，并且其中，镶嵌元件具有肉眼的分辨率极限值以下的侧边尺寸。

7、(优选的设计方案)根据规定5或6所述的方法，其中，

所述反光衍射结构(i)作为反射层具有不透明的金属层，或者(ii)作为反射层具有透明的、高折射性的层，或者(iii)作为反射层具有带有色移效应的薄层元件、尤其带有反射层和半透明层和布置在反射层和半透明层之间的介电层，或者(iv)作为反射层具有由液晶材料构成的层、尤其由胆甾相液晶材料构成的层，或者(v)作为反射层具有基于效应颜料成分的印刷层，所述印刷层具有根据观察角度决定的效应或者具有在反射光下观察时与在透射光下观察时不同的颜色，或者(vi)作为反射层具有以下的多层结构：两个半透明层和布置在两个半透明层之间的介电层，其中，所述多层结构一方面在反射光下观察时和另一方面在透射光下观察时具有不同的颜色。

8、(本发明的第二方面)一种通过根据前述规定1至7之一所述的方法能够获得的防伪元件转印材料，所述防伪元件转印材料具有提供在支承基底上的、构造为转印元件的防伪元件。

发明详述

在本发明的上下文中，在反射光下观察指的是从一个侧面照亮有价文件并且从同一侧面观察有价文件。因此当有价文件的正面被照亮并且也被观察时，就发生例如在反射光下观察。

在本发明的上下文中，在透射光下观察指的是从一个侧面照亮有价文件并且从另一侧面、尤其相反的侧面观察有价文件。因此当有价文件的背面被照亮并且有价文件的正面被观察时，则发生例如在透射光下观察。因此光透射穿过有价文件。

在本发明的上下文中，有价文件例如是钞票或者身份证件，或者还可以是证券、证书、邮票、支票、入场券、车票、机票、证件、visa贴纸等，以及标签、章、包装或者其他元件。因此在以下，简化的名称“有价文件”始终包括所述类型的文件。术语有价文件还包括用于制造钞票的防伪纸。术语钞票尤其包括纸钞、聚合物钞票或者膜复合物钞票。

转印元件、即待转移的防伪元件尤其可以是转印贴片或转印贴纸，或者转印条或转印线。在以下的详细描述中根据转印贴片的示例描述本发明，但不应被解释为限制于贴片。

作为术语“特征层”的替代，这里也使用术语“功能层”。功能层可以是单一的(功能)层或者多个(功能)层。

作为表述“具有至少一个凹空的掩膜”的替代，这里也使用术语“掩膜(lochmaske)”或者“开孔膜”。

在根据本发明的用于制造防伪元件转印材料的方法中，在除废料步骤中使用掩膜。在施放、即最终应用待制造的转印贴片之前从防伪元件转印材料上去除掩膜。根据本发明的方法类似于由现有技术wo2010/031543a1已知的方法，其中，冲裁出转印贴片并且中间区域在除废料中被去除。然而，与由专利文献wo2010/031543a1已知的方法不同的是，根据本发明的转印贴片本身并不再具有稳固用的膜。因此与由专利文献wo2010/031543a1已知的转印贴片材料比较给出以下的优点：

-施放或者最终应用转印贴片之前的层厚度更小。因此还能够实现绕在卷轴上的防伪元件转印材料的缠绕长度更长；

-施放或者最终应用转印贴片之后的层厚度更小。配设有贴片的有价文件基底、尤其防伪纸或者钞票的较小的层厚度对于在印制钞票中的处理是有利的，例如关于配设有贴片的纸张的平整度的改善和关于配设有贴片的钞票的更小的叠放高度；

-更高的防伪安保，因为无破坏地使贴片从配设有贴片的钞票上剥离变得困难。

根据本发明，转印材料可以根据以下优选的实施方式实现：

1、提供转印膜结构：

起点是常规的转印膜结构，正如其例如也用于施放转印条那样。这样的结构基于支承膜、一个或者多个存在于该支承膜上的功能层以及热封漆层。功能层提供光学可变防伪特征、即例如压印全息图、微镜元件、亚波长结构等。光学可变防伪特征通常通过压印漆、例如uv压印漆用模压在其中的微结构以及至少区域性地存在的金属镀层给出。通常这里还有其他的层、例如防护漆或者底漆，在其上最后则连接有热封漆。热封漆层实际上还可以由不同漆的多个层构成。功能层在支承膜上只具有较弱的附着能力，其可以例如通过压印漆在支承膜上的较差的附着能力或者通过置入特别的分离层实现。

2、施加掩膜：

根据本发明，在以上描述的转印膜结构上施加掩膜。掩膜可以尤其通过开孔膜给出，从该开孔膜冲裁出希望的贴片的形状。这样的开孔膜有利地层压在或者粘在转印膜结构上。这可以利用层压胶合粘结剂或者简单地通过使用本来存在的热封漆的粘附力实现。朝向热封漆的侧面可以在之前配设有底漆，该底漆能够实现将掩膜和功能层更好地粘合。掩膜和功能层还可以区域性地粘合。理论上，掩膜还可以在施放时才通过熔化热封漆与功能层粘合。但在实际上有利的是，通过至少区域性地粘合避免掩膜的滑动。

3、冲压：

在冲压步骤中，借助冲压工具或者借助切割工具置入冲压线，以便以这样的方式冲压出待产生的贴片形状，即，在转印复合件中冲压出贴片的轮廓。冲压出的形状有利地稍小于掩膜中的开孔。

4、去除掩膜：

然后将掩膜在除废料步骤中与被掩膜覆盖的热封漆层和功能层一起从支承膜上去除。因此贴片保留在支承膜上并且得到除废料后的转印贴片膜。

在施放或者最终应用中，像往常一样加热贴片，其中，热封漆熔化并且与(有价文件的)基底粘合。(有价文件的)基底例如可以是纸基底或者聚合物基底或者纸/聚合物-复合物基底。加热在此可以区域性地(即在稍大于贴片本身的区域中)或者整个面上实现。然后使支承膜与(有价文件的)基底分离，因此功能层在贴片区域中保留在(有价文件的)基底上，因为热封漆对于纸的附着能力比支承膜和功能层之间的附着能力更强。

根据其他的优选的实施方式可以如下实现转印材料：

1、提供转印膜结构：

起点再次是常规的转印膜结构，正如其例如也用于施放转印条那样。这样的结构基于支承膜、一个或者多个存在于该支承膜上的功能层以及热封漆层。功能层提供光学可变防伪特征、即例如压印全息图、微镜元件、亚波长结构等。光学可变防伪特征通常通过压印漆、例如uv压印漆用模压在其中的微结构以及至少区域性地存在的金属镀层给出。通常这里还有其他的层、例如防护漆或者底漆，在其上最后则连接有热封漆。热封漆层实际上还可以由不同漆的多个层构成。功能层在支承膜上只具有较弱的附着能力，其可以例如通过压印漆在支承膜上的较差的附着能力或者通过置入特别的分离层实现。

2、施加未开孔的膜：

在上述的转印膜结构上首先施加未开孔的膜、尤其借助区域性存在的胶粘剂层(“层压胶合粘结剂”)。

3、冲压：

在冲压步骤中，借助冲压工具或者借助切割工具置入冲压线，以便以这样的方式冲压出待产生的贴片形状，即，在转印复合件中冲压出贴片的轮廓。同时在首先未开孔的膜中产生开孔并且在开孔区域中例如通过抽吸或者吹气去除稳固用的膜。

4、去除掩膜：

然后将掩膜在除废料步骤中与被掩膜覆盖的热封漆层和功能层一起从支承膜上去除。因此贴片保留在支承膜上并且得到经除废料的转印贴片膜。

由于粘合和冲压切口的定位公差，有利的是，使粘合在上述步骤2中以与贴片足够的距离结束。然后冲裁出贴片形状并且将开孔区域中的膜例如借助压力空气或者借助拉延通过锋利边缘去除。

根据本发明的方法的其他的优点在于，贴片在施放到(有价文件的)基底上的步骤中不必须从功能层复合件中撕下(即功能层之内必须实现断裂)，而是在贴片边缘上已经通过冲压干净地切断了功能层。这导致极其干净的贴片边缘。

其他的优选实施方案是：

功能层：

在功能层中可以置入例如微镜、全息结构、亚波长结构或者(例如嵌入的)微透镜。微透镜可以尤其与构造在单独的平面上的微图像结合地存在并且以这种方式产生以所谓的莫尔放大镜、模映射器、倾翻图像等形式的光学可变的防伪特征。基于结合微图像的微透镜的防伪特征例如由专利文献wo2006/087138a1已知。

微镜、全息结构等通常涂有至少区域性存在的金属镀层，该金属镀层由金属例如al或者ag、高折射性的涂层例如zns或者tio2、或者具有色移效应的三层系统反射器/电介质/吸收器组成(例如al/sio2/cr构造)。

热封漆：

对于热封漆主要的是，其在施放结束时通过压力或者按需通过升高温度确保希望的粘合。通过热能可以熔化和/或活化热封漆。还可以规定，然后例如借助uv射线还对热封漆进行后处理(后交联)。

膜厚度：

掩膜优选是尽量薄的。可以有利地使用具有4.5μm至19μm的范围内的厚度的膜。聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)膜优选用作膜。

支承基底或者支承膜：

优选使用更厚的膜、例如19μm厚的pet膜作为支承膜。在那些借助冲压来冲入到功能层中的实施方式中，通常还稍微冲入到支承膜中。在此必须确保，支承膜在将贴片施放到(有价文件的)基底上之后不会撕裂。根据有利的方案在此不使用单一的支承膜作为支承膜，而是使用由两个膜构成的层复合件，如由专利文献wo2010/031543a1中已知的(例如相互粘合的12μm厚的膜和19μm厚的膜)：随后在冲压中仅冲裁两个膜的一个膜，并且第二个膜保持不被损伤。单一的冲压的膜比层复合件更容易撕裂，因为一个膜的“初裂缝”比继续撕裂需要更多的力。

在(有价文件的)基底上施放转印贴片：

对于更好地转印可能有利的是，支承膜通过锋利的边缘(或者楔)从剩余的层复合件撕下。

其他的有利参数：

-功能层优选具有压印漆，该压印漆通常具有2μm至7μm的范围内的总厚度。常规的压印深度可以根据结构类型的不同位于例如100nm至3.5μm的范围内；

-不带支承膜的贴片的总厚度优选在50μm以下、更优选地在30μm以下并且尤其优选地在20μm以下；

-常规的贴片尺寸为例如5mm至35mm的宽度以及例如5mm至70mm的高度；

-贴片形状可以任意选择。椭圆的形状通常例如比矩形形状更易施放。有时锯齿状的边缘可能是有利的。功能层的冲压方案(见上文)尤其还可能实现施放具有较复杂的轮廓形状的贴片，该复杂的轮廓形状在通常条件下难以施放。

其他的基本附注：

根据本发明可使用的压印结构尤其压印在压印漆中。在本申请的范畴中，术语“光学可变效应”除了全息图，还包括类似全息图的衍射结构、即例如不产生定义的图像，而是产生模糊的彩色的印象的结构。同样，术语“光学可变效应”还包括衍射图案、具有色移效应的结构、电影胶片(kinoforme)、具有微透镜效应的结构、具有各向同性的或者各向异性的散射效应或者具有其他的干涉效应的结构、亚波长结构、蛾眼结构、用于莫尔放大镜或者模映射器的微透镜结构和微结构、微镜结构和微棱镜结构。

优选的反射压印结构(或称为反光压印结构)具有例如有干涉能力的多层结构，具有：

-反射层(尤其金属的反射层)；

-半透明的(镜)层(尤其选自al、ag、ni、cr、cu、au和一个或多个前述元素的合金)；和

-在反射层和半透明的(镜)层之间布置的介电层，

其中，多层结构的颜色随观察角度的变化而改变。

可能的是，例如通过反射层和/或半透明层中的凹空产生在反射光下观察正面时可见的、有干涉能力的多层结构的第一外观和在透射光下观察正面时可见的、有干涉能力的多层结构的第二外观。由专利文献wo2009/149831a2已知这样的具有不同的反射光外观/透射光外观的膜防伪元件。半透明层可以具有多个栅格状布置的凹空，这些凹空作为整体给出符号、图像或者图案。以这种方式产生的图案在反射光下可见并且在透射光下消失。备选地和/或额外地，多层结构的不同的反射光外观/透射光外观可以由此实现，即，使结构与凸纹结构结合、尤其与衍射的凸纹结构、微光学的凸纹结构或者亚λ结构结合。

其他的优选的反射压印结构具有多层结构，该多层结构例如具有两个半透明层和布置在两个半透明层之间的介电层，其中，多层结构一方面在反射光下观察时、另一方面在透射光下观察时具有不同的色调、尤其在反射光下观察时显示金色并且在透射光下观察时显示蓝色色调。两个不同的色调尤其是互补色。这样的多层结构尤其基于两个半透明的镜层和布置在两个半透明的镜层之间的介电层。例如由专利文献wo2011/082761a1已知这样的在反射光下观察时显示金色并且在透射光下观察时显示蓝色色调的多层结构。金属尤其适合作为半透明的镜层，该金属选自al、ag、ni、cr、cu、au和一个或多个上述元素的合金，其中，al或者ag优选作为半透明的镜层并且尤其优选al。具有两个半透明的镜层和布置在两个半透明的镜层之间的介电层的合适的多层结构优选具有以下的具体的特征：

-两个半透明的镜层优选从al或者ag中选择；介电层尤其是sio2层；

-在两个半透明的镜层都基于al的情况下，相应的优选的层厚度在5nm至20nm的范围内、尤其优选在10nm至14nm范围内；介电的sio2层具有优选在50nm至450nm范围内的层厚度、进一步优选地在80nm至260nm的范围内的层厚度，其中，80nm至100nm和220nm至240nm的范围特别优选特定用于提供金色/蓝色变色；

-在两个半透明的镜层都基于ag的情况下，相应的优选的层厚度在15nm至25nm的范围内；介电的sio2层具有优选在50nm至450nm范围内的层厚度、进一步优选地在80nm至260nm的范围内的层厚度，其中，80nm至100nm和220nm至240nm的范围特别优选特定用于提供金色/蓝色变色。

所述的多层的层机构不仅实现产生半透明的功能层，该半透明的功能层在反射光下观察时显示金色并且在透射光下观察时显示蓝色色调，而且该多层的层结构还可以根据尤其介电层的层厚度的选择产生其他的变色，例如

-在反射光下洋红色，在透射光下蓝绿色；

-在反射光下青绿色，在透射光下橙黄色；

-在反射光下金色，在透射光下蓝紫色；

-在反射光下银色，在透射光下紫色。

其他的优选的反射压印结构具有例如液晶层，该液晶层在反射光下观察时显示与在透射光下观察时不同的颜色。备选地和/或额外地可以由此实现不同的反射光外观/透射光外观，即，使液晶层与凸纹结构结合、尤其与衍射的凸纹结构、微光学的凸纹结构或者亚λ结构结合。

其他的优选的反射压印结构具有例如具有效应颜料成分的印刷层，该印刷层在反射光下观察时显示与在透射光下观察时不同的颜色，尤其显示金色/蓝色变色、金色/紫色变色、绿金色/洋红色变色、紫色/绿色变色或者银色/不透明变色。这样的印刷色例如描述在专利文献wo2011/064162a2中。备选地和/或额外地可以由此实现不同的反射光外观/透射光外观，即，使印刷层与凸纹结构结合、尤其与衍射的凸纹结构、微光学的凸纹结构或者亚λ结构结合。

构造衍射结构的凸纹结构尤其是全息结构。衍射结构的结构元件的尺寸优选在光波长的大小范围内、进一步优选地在大于100nm并且小于1μm的范围内，其中，尤其优选大于300nm并且小于1μm的范围。

构造微镜装置的凸纹结构在此也称为微光学的凸纹结构。制造这样的微光学的凸纹结构在现有技术中已知(例如参见专利文献wo2014/060089a2)。微镜装置的结构元件的尺寸优选在大于1μm并且小于40μm的范围内，其中，尤其优选大于1μm并且小于30μm的范围。微镜装置的结构元件的尺寸例如具有高达15μm的高度和高达30μm的横向伸展。在此，微镜装置的结构单元的高度和横向伸展均优选大于1μm。

其他的优选的微光学的凸纹结构例如由专利文献wo2007/079857a1已知。在此，反光微结构具有由多个反光镶嵌元件构成的镶嵌件的形式，该多个反光镶嵌元件特征在于大小、轮廓形状、凸纹形状、反射能力和空间定向等参数，并且该多个反光镶嵌元件构成预先确定的图案，其方式为多个具有不同特征参数的镶嵌元件的组将射入的光反射到不同的空间区域中，并且其中，镶嵌元件具有肉眼的分辨率极限值以下的侧边尺寸。

以下参照示意性极其简化的附图阐述其他的实施例以及本发明的优点，在该附图表示中省去了按规模和按比例的显示，以便提高描述清晰性。

在附图中:

图1至图4示出根据第一实施例制造根据本发明的转印材料；和

图5至图9示出根据第二实施例制造根据本发明的转印材料。

图1至图4示出根据第一实施例制造根据本发明的转印材料。

根据图1，首先提供转印膜结构。转印膜结构基于支承膜1、一个或多个存在于支承膜1上的功能层2以及热封漆层3。功能层2提供光学可变防伪特征、例如压印全息图、微镜元件、亚波长结构等。通常通过压印漆、例如uv压印漆连同压印在其中的微结构以及至少区域性地存在的金属镀层给出光学可变防伪特征。功能层2在支承膜1上仅具有较弱的附着能力，这例如可以通过压印漆在支承膜1上的较差的附着能力或者通过置入特殊的分离层来实现。

根据图2，在图1所示的转印膜结构上施加掩膜4。掩膜4尤其可以通过开孔膜提供，从该开孔膜冲裁出希望的贴片的形状。这样的开孔膜4有利地层压在转印膜结构上。这可以利用额外的层压胶合粘结剂(在图2中未示出)或者简单地通过使用本来存在的热封漆3的粘附力实现。朝向热封漆的侧面可以在之前有利地配设有底漆，该底漆能够实现将掩膜4和功能层2更好地粘合。掩膜4和功能层2还可以区域性地粘合。

然后，根据图3冲压出贴片形状(虚线5表示冲压线)。由于定位公差，有利的是，冲压线5离掩膜4的边缘稍微具有距离。

如图4所示，然后在除废料步骤中将掩膜4与存在于掩膜4的区域中(即在开孔之外的)热封漆层3和功能层2一起从支承膜1上去除。因此，热封漆层3和功能层2保留在支承膜1上的贴片区域中，因为热封漆层3对于掩膜4的附着能力比支承膜1和功能层2之间的附着能力更强。

然后可以将图4中得到的转印贴片施加或施放在有价文件基底上、例如用于制造钞票的防伪纸上。在这样的施放中，像往常一样加热贴片，其中，热封漆3熔化并且与纸基底粘合。加热在此可以区域性地(即在稍大于贴片本身的区域中)或者整个面上实现。然后使支承膜1与施加在纸基底上的贴片的剩余层分离。因此功能层2在贴片区域中保留在纸基底上，因为热封漆3对于纸的附着能力比支承膜和1功能层2之间的附着能力更强。

图5至图8示出根据第二实施例制造根据本发明的转印材料。

根据图5首先提供转印膜结构。转印膜结构基于支承膜7、一个或多个存在于支承膜7上的功能层8以及热封漆层9。功能层8提供光学可变防伪特征、例如压印全息图、微镜元件、亚波长结构等。通常通过压印漆、例如uv压印漆连同压印在其中的微结构以及至少区域性地存在的金属镀层给出光学可变防伪特征。功能层8在支承膜7上仅具有较弱的附着能力，这例如可以通过压印漆在支承膜7上的较差的附着能力或者通过置入特殊的分离层来实现。

根据图6，图5所示的转印复合件在之后贴片之外的区域中配设有层压胶合粘结剂10(但不强制性需要层压胶合粘结剂10；备选地可以区域性地熔化或者活化已经存在的热封漆9)并且随后与膜11粘合。由于粘合和冲压切口的定位公差，有利的是，使粘合以与贴片具有足够的距离结束。

根据图7，然后冲裁出贴片形状(实线12表示冲压工具)并且膜11在开孔的区域中例如借助压力空气或者借助拉延通过锋利边缘去除。

图8示出已经获得的、配设有冲压线13(在附图中以虚线的形式示出)的层结构。

如图9所示，然后在除废料步骤中将掩膜11与存在于掩膜11的区域中的层压胶合粘结剂10、热封漆层9和功能层8一起从支承膜7上去除。因此，热封漆层9和功能层8保留在支承膜7上的贴片区域中，因为热封漆层9对于掩膜11的附着能力比支承膜7和功能层8之间的附着能力更强。

然后可以将图9中得到的转印贴片施放在有价文件基底上、例如用于制造钞票的防伪纸上。在这样的施放中，像往常一样加热贴片，其中，热封漆9熔化并且与纸基底粘合。加热在此可以区域性地(即在稍大于贴片本身的区域中)或者整个面上实现。然后使支承膜7与施加在纸基底上的贴片的剩余层分离。因此功能层8在贴片区域中保留在纸基底上，因为热封漆9对于纸的附着能力比支承膜7和功能层8之间的附着能力更强。

在上述实施例的变型方案中如此进行：

防伪元件层复合件的胶粘剂层不一定必须沿整个防伪元件层复合件整面地存在，而是可以根据变型方案仅在待制造的、构造为转印元件的防伪元件的区域中存在。在这种情况下制造例如可以如此进行：

-提供支承基底；

-给支承基底配设防伪元件层复合件和具有至少一个凹空的掩膜，其中，防伪元件层复合件具有与支承基底可分离地连接的、显示光学可变效应的特征层，所述特征层在防伪元件转移到有价文件基底上之后朝向观察者，其中，沿掩膜的凹空构造有待转印到有价文件的基底上的、配设有冲压线的防伪元件层复合件；

-至少在掩膜的凹空的区域中将胶粘剂层尤其以印刷技术施加在防伪元件层复合件上，其中邻接在凹空上的掩膜的部分按需也可以配设有胶粘剂层；

-将掩膜连同被掩膜掩蔽的、存在于掩膜的凹空之外的防伪元件层复合件从支承基底上剥离。