斗方格字帖的制作方法

文档序号:21278675发布日期:2020-06-26 23:26阅读:605来源:国知局
斗方格字帖的制作方法

本发明涉及字帖,尤其是一种斗方格字帖。



背景技术:

汉字的艺术魅力主要体现在其字体笔画的间架和整体布局上。基于这样的共识,具有辅助线的字格(如米字格、田字格)成为能够在一定程度上帮助练字者进行字体结构布局有效工具。然而现有的米字格、田字格对于练习毛笔字的初学者来说,因其格内辅助线缺少指示字体间架和整体布局的准确定位,最终造成初学者毛笔练习的困难。



技术实现要素:

本发明的目的是提供一种斗方格字帖,能够帮助练字者掌握单字体结构和整体文字的布局,提高练字的效率和效果。

为实现上述目的,本发明采用如下技术方案:

一种斗方格字帖,包括至少一个米字格,在所述米字格内设有一正方形,该正方形的四个角分别位于米字格四条边的中点,米字格及其内的正方形构成斗方字格。

所述正方形的四条边均为细实线。

所示米字格的“米”字为虚线。

所述斗方格字帖包括多行字格,每行字格均由多个斗方字格并排构成。

与现有技术相比本发明的有益效果是:本发明的斗方字格,能够提高练字效率和效果,因为楷书(不包括电脑体)汉字的95%左右会落在中部立起的正方形框内,采用斗方格有助于帮助练字者进行字体结构的布局。书法的发展到了唐代,形成了“唐楷”,这就是楷书最成熟最完善的书体,至今,无论是学校还是书法培训班,“楷书”是书法学习最主要,也是起步的主要书体。我们收集了大量历代名家楷书书法和楷书名帖名碑,经研究发现:虽然写字是在方格或者田字格上,但字的所有笔画和字型都会落在方格四边中点相连接的所述正方形内(该正方形是竖立着的,我们形象的把它叫做菱形格,这种正菱形如同春联中的斗方,故称斗方格),所以,楷书单字外形并不是正方形,而是一个正菱形。无论是楷书欧、颜、柳、赵,还是其他楷书名家作品,均符合这个规律,经大量的收集和比对发现,至少98%以上楷书作品符合这个书写规律,而且每个字的所有笔画至少有95%会落在斗方格以内。市面上的辅助线字格(如田字格和米字格)只能在临摹时有一个相对位置可以参考,并不能框定字的外形和字的大小,而斗方格能非常好的辅助字的外形和大小,弥补了现有的辅助线字格的缺陷,并且,按斗方格辅助线书写的楷书,行距和列距疏密更得当、布局更严谨,整篇布局更协调更规范。

进一步的有益效果是:所述正方形的四条边均为细实线,所示米字格的“米”字为虚线,这种结构,字格内即能突显斗方格,“米”字辅助线又能发挥既有的作用,使得字格内的辅助线多而不乱,主次清晰,更便于使用者综合用好两种辅助线的功能。

附图说明

图1是本发明的结构示意图;

图2是本发明具有多行、多列斗方字格的结构示意图;

图3是楷书字在斗方格内的结构示意图;

图4是显示楷书字在斗方格内、外所占比例的示意图;

图5是显示行距和列距的结构示意图;

图6是去除斗方字格后字体的整体布局示意图。

具体实施方式

为了使本发明的技术方案更加清晰,以下结合附图1至6,对本发明进行详细说明。应当理解的是,本说明书中描述的具体实施方式仅仅是为了解释本发明,并不是为了限定本发明的保护范围。

本发明是一种斗方格字帖,包括至少一个米字格7,在所述米字格7内设有一正方形8,该正方形8的四个角分别位于米字格7四条边的中点,米字格7及其内的正方形8构成斗方字格9。

作为优选,所述正方形8的四条边均为细实线,所示米字格7的“米”字为虚线。所述斗方格字帖包括多行字格,每行字格均由多个斗方字格9并排构成。如图5所示,斗方格不仅可以框定楷书外轮廓的架构,而且可以规范楷书整篇书写时的行距和列距,让整片布局更协调更规范。根据勾股定律,方格边长a=1.41b,字边长b≈0.7a,字距方格边距离c≈0.21b,字与字的间距2c≈0.4b,最终得出:假如字长为1,字与字的间距就是0.4。



技术特征:

1.一种斗方格字帖,包括至少一个米字格(7),其特征在于:在所述米字格(7)内设有一正方形(8),该正方形(8)的四个角分别位于米字格(7)四条边的中点,米字格(7)及其内的正方形(8)构成斗方字格(9)。

2.根据权利要求1所述的斗方格字帖,其特征在于:所述正方形(8)的四条边均为细实线。

3.根据权利要求2所述的斗方格字帖,其特征在于:所示米字格7的“米”字为虚线。

4.根据权利要求1、或2、或3所述的斗方格字帖,其特征在于:所述斗方格字帖包括多行字格,每行字格均由多个斗方字格(9)并排构成。


技术总结
本发明公开了一种斗方格字帖,包括至少一个米字格,在所述米字格内设有一正方形,该正方形的四个角分别位于米字格四条边的中点,米字格及其内的正方形构成斗方字格。本发明的斗方格字帖,能够帮助练字者掌握单字体结构和整体文字的布局,提高练字的效率和效果。

技术研发人员:王春华
受保护的技术使用者:杭州墨客文化艺术有限公司
技术研发日:2020.04.30
技术公布日:2020.06.26
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