50光刻胶层的厚度为ΙΟΟμπι;
[0077]按预定程序甩胶:抽真空状态下，旋涂甩胶，不同厚度要求不同甩胶参数;其中步骤(三)中的甩胶参数为1500rpm，lmin。
[0078]结束后，停止真空，静放I?2min(目的是为了让石英玻璃基板中间恢复平面，胶匀)。
[0079](四)石英玻璃基板曝光
[0080]曝光前烘:将涂胶后的石英玻璃基板依次于65°C下加热lmin，90°C下加热4min，65°C下加热Imin(加热中要调整石英玻璃基板以使其加热均匀)；
[0081 ]将石英玻璃基板放置于曝光机玻璃托盘上；
[0082]将设置有预定形状的仿岩心结构的微观孔道的掩膜版3覆盖于光刻胶层上；
[0083]曝光过程(提前设好曝光时间):
[0084]其中:曝光时间根据光刻胶厚度而定，阳胶曝光75s(若超过90s，小于30μπι的通道易损害)。
[0085](五)显影
[0086]阳胶显影:AZ显影剂(developer):蒸馈水=1:3(体积比)，配制80mL，分装2皿，洗〈3min，不好洗的话，适当延长时间，最后用超纯水冲洗干净;得到具有仿岩心结构的微观孔道的光刻胶层。
[0087](六)上盖打孔
[0088]在石英玻璃上盖的相应位置分别加工出液体入口及液体出口，采用机床在所述液体入口及液体出口加工内螺纹;再将加工出液体入口及液体出口的石英玻璃上盖覆盖于具有仿岩心结构的微观孔道的光刻胶层上并对二者之间进行密封。
[0089](七)组装
[0090]最后再将石英玻璃基板、光刻胶层及石英玻璃上盖之间通过螺丝固定连接，得到所述用于驱油研究的岩心薄片模型。
[0091]实施例3
[0092]本实施例提供了一种用于驱油研究的岩心薄片模型，该岩心薄片模型包括石英玻璃基板1、光刻胶层2及石英玻璃上盖5;
[0093]所述光刻胶层2位于石英玻璃基板I及石英玻璃上盖5之间；
[0094]所述光刻胶层2具有仿岩心结构的微观孔道4;
[0095]所述石英玻璃上盖5设置有液体入口 7及液体出口 9;
[0096]所述石英玻璃基板I及光刻胶层2之间、光刻胶层2及石英玻璃上盖5之间均为密封连接，且所述石英玻璃基板1、光刻胶层2及石英玻璃上盖5之间通过4个螺丝6固定连接；
[0097]该模型还包括2个螺纹接头8，所述螺纹接头8通过内螺纹分别与液体入口7及液体出口 9相连；
[0098]其中，所述石英玻璃基板的厚度为10mm;
[0099]所述石英玻璃上盖的厚度为10mm;
[0100]所述光刻胶层的厚度(仿岩心结构的微观孔道4的深度)为ΙΟΟΟμπι;
[0101]所述光刻胶层为由SU-8制成的光刻胶层。
[0102]实施例4
[0103]本实施例提供了实施例3所述的用于驱油研究的岩心薄片模型的制作方法，其包括以下具体步骤:
[0104](一)石英玻璃基板清洗
[0105]1、清洗液清洗:配制清洗液，清洗液中，浓H2S04/H202 = 3:1 (体积比)，使用该清洗液清洗15min;
[010?]其中，配I次清洗液，可以使用2周；配制清洗液所用的H2O2的浓度为30% (体积浓度)；
[0107]2、超纯水清洗；
[0108]3、再使用无水乙醇清洗，Imin(摇动)，洗后不用水洗；
[0109]4、丙酮清洗，Imin(摇动)；
[0110]5、再用超纯水清洗；
[0111]超纯水清洗后，使用吸水纸吸取石英玻璃基板边缘的水分；
[0112]再用镊子夹住石英玻璃基板，将其放在200°C电热板上方(不能接触)烘干，待彻底烘干后，再将其置于电热板上5min，完成石英玻璃基板的清洗过程。
[0113](二)石英玻璃基板表面修饰
[0114]将经清洗后的石英玻璃基板放置于挥发缸中，滴入I?2滴修饰试剂(勿见水)进行修饰，修饰时间2 3min；
[0115]其中，修饰过程所用的修饰试剂为I，I，I，3，3，3-六甲基二硅氮烷(I，I，I，3，3，3-Hexamethyldislazane)，其浓度大于等于98% (体积浓度)。
[0116](三)石英玻璃基板甩胶
[0117]打开压缩机，打开真空栗；
[0118]将表面修饰后的石英玻璃基板放置于匀胶机正中，平衡好;铺AZ_50(阴胶SU-8)，浓度越高，厚度越大，铺好后静止I?2min;所述SU-8光刻胶层的厚度为ΙΟΟΟμπι;
[0119]按预定程序甩胶:抽真空状态下，旋涂甩胶，不同厚度要求不同甩胶参数，本领域技术人员可以根据具体的光刻胶层厚度选择合适的甩胶参数。
[0120]结束后，停止真空，静放I?2min(目的是为了让石英玻璃基板中间恢复平面，胶匀)。
[0121](四)石英玻璃基板曝光
[0122]曝光前烘:将涂胶后的石英玻璃基板依次于65°C下加热lmin，90°C下加热4min，65°C下加热Imin(加热中要调整石英玻璃基板以使其加热均匀)；
[0123]将石英玻璃基板放置于曝光机玻璃托盘上；
[0124]将设置有预定形状的仿岩心结构的微观孔道的掩膜版3覆盖于光刻胶层上；
[0125]曝光过程(提前设好曝光时间):
[0126]其中:曝光时间根据光刻胶厚度而定，阴胶曝光45s，阴胶曝光后于65°C加热lmin;[ΟΙ27] 曝光后烘(阴胶):放置于65°C下加热lmin，90°C下加热4min，65°C下加热Imin(加热中要调整石英玻璃基板以使其加热均匀)。
[0128](五)显影
[ΟΙ29] 阴胶显影:Su-8显影剂(developer)(不能见水)，显影时间<3min，适量；
[0130]其中:边摇边洗，Imin左右拿出，用氮气枪吹干(由远及近，沿管道吹)，若有彩色，再洗;最后一次用干净显影液稍洗一下即可(使其干净)；最后，正面吹干，背面擦干净;得到具有仿岩心结构的微观孔道的光刻胶层。
[0131](六)上盖打孔
[0132]在石英玻璃上盖的相应位置分别加工出液体入口及液体出口，采用机床在所述液体入口及液体出口加工内螺纹;再将加工出液体入口及液体出口的石英玻璃上盖覆盖于具有仿岩心结构的微观孔道的光刻胶层上并对二者之间进行密封。
[0133](七)组装
[0134]最后再将石英玻璃基板、光刻胶层及石英玻璃上盖之间通过螺丝固定连接，得到所述用于驱油研究的岩心薄片模型。
[0135]实施例5
[0136]本实施例提供了一种用于驱油研究的岩心薄片模型，该岩心薄片模型包括石英玻璃基板1、光刻胶层2及石英玻璃上盖5;
[0137]所述光刻胶层2位于石英玻璃基板I及石英玻璃上盖5之间；
[0138]所述光刻胶层2具有仿岩心结构的微观孔道4;
[0139]所述石英玻璃上盖5设置有液体入口7及液体出口9;
[0140]所述石英玻璃基板I及光刻胶层2之间、光刻胶层2及石英玻璃上盖5之间均为密封连接，且所述石英玻璃基板1、光刻胶层2及石英玻璃上盖5之间通过4个螺丝6固定连接；
[0141]该模型还包括2个螺纹接头8，所述螺纹接头8通过内螺纹分别与液体入口7及液体出口 9相连；
[0142]其中，所述石英玻璃基板的厚度为10mm;
[0143]所述石英玻璃上盖的厚度为10mm;
[0144]所述光刻胶层的厚度(仿岩心结构的微观孔道4的深度)为ΙΟμπι;
[0145]所述光刻胶层为由AZ-50制成的光刻胶层。
[0146]实施例6
[0147]本实施例提供了实施例5所述的用于驱油研究的岩心薄片模型的制作方法，其包括以下具体步骤:
[0148](一)石英玻璃基板清洗
[0149]1、清洗液清洗:配制清洗液，清洗液中，浓H2S04/H202 = 3:1 (体积比)，使用该清洗液清洗15min;
[0150]其中，配I次清洗液，可以使用2周；配制清洗液所用的H2O2的浓度为30%(体积浓度)；
[0151]2、超纯水清洗；
[0152]3、再使用无水乙醇清洗，Imin(摇动)，洗后不用水洗；
[0153]4、丙酮清洗，Imin(摇动)；
[0154]5、再用超纯水清洗；
[0155]超纯水清洗后，使用吸水纸吸取石英玻璃基板边缘的水分；
[0156]再用镊子夹住石英玻璃基板，将其放在200°C电热板上方(不能接触)烘干，待彻底烘干后，再将其置于电热板上5min，完成石英玻璃基板的清洗过程。
[0157](二)石英玻璃基板表面修饰
[0158]将经清洗后的石英玻璃基板放置于挥发缸中，滴入I?2滴修饰试剂(勿见水)进行修饰，修饰时间2 3min；
[0159]其中，修饰过程所用的修饰试剂为1,1,1,3,3,3-六甲基二硅氮烷(I，I，I，3，3，3-Hexamethyldislazane)，其浓度大于等于98% (体积浓度)。
[0160](三)石英玻璃基板甩胶[0161 ]打开压缩机，打开真空栗；
[0162]将表面修饰后的石英玻璃基板放置于匀胶机正中，平衡好;铺阳胶AZ-50，浓度越高，厚度越大，铺好后静止I?2min;所述AZ-50光刻胶层的厚度为ΙΟμπι;
[0163]按预定程序甩胶:抽真空状态下，旋涂甩胶，不同厚度要求不同甩胶参数;其中步骤(三)中的甩胶参数为1500rpm，lmin。
[0164]结束后，停止真空，静放I?2min(目的是为了让石英玻璃基板中间恢复平面，胶匀)。
[0165](四)石英玻璃基板曝光
[0166]曝光前烘:将涂胶后的石英玻璃基板依次于65°C下加热lmin，90°C下加热4min，65°C下加热lmin(加热中要调整石英玻璃基板以使其加热均匀)；
[0167]将石英玻璃基板放置于曝光机玻璃托盘上；
[0168]将设置有预定形状的仿岩心结构的微观孔道的掩膜版3覆盖于光刻胶层上；
[0169]曝光过程(提前设好曝光时间):
[0170]其中:曝光时间根据光刻胶厚度而定，阳胶曝光75s