专利名称：一种陶瓷器具的镂空生产方法
技术领域：
本发明涉及一种陶瓷器具的镂空生产方法。
背景技术：
陶瓷制品在我国具有比较长的历史，具有深厚的文化底蕴，其制造方法一般包括烧制素坯、上釉等工序。传统的陶瓷制品的镂空方法是对陶瓷的湿坯体或干坯体进行手工镂空，这种方法成本高、产量低，且精度较低，无法保证质量。公开号为CN1036726A的中国专利公开了一种通花陶瓷制品的通花方法，其采用带有通孔群的模具，从湿坯体两边夹住坯体，用捅杆群模具的通孔群中穿入，捅穿坯体，以实现镂空成型，这种方法的优点是生产效率高，缺点是镂空图案的成型精度较差。
发明内容
本发明的目的是提供一种成型精度较高的陶瓷制品的镂空生产方法。为了达到上述目的，本发明提供了一种陶瓷制品的镂空生产方法，其特征在于，具体步骤为制造陶瓷素坯，在陶瓷素坯的表面贴2 3_厚的具有镂空图案的硅胶膜，对陶瓷表面进行喷砂处理，去掉硅胶膜，上釉，得到具有镂空图案的陶瓷制品。优选地，所述的喷砂处理工艺为使用金刚砂在气压为I公斤/cm2的条件下进行喷砂处理O. 5 1. 5分钟。优选地,所述的去掉娃胶膜的方法为在750 800°C烧制3 4小时。与现有技术相比，本发明的优点是1、本发明采用喷砂工艺，能够节省人力，提高成型精度，提高合格率。2、喷砂气压为I公斤/cm2时，在保证陶瓷制品的合格率的前提下，能够获得最高的成型精度。
具体实施例方式为使本发明更明显易懂，兹以优选实施例，作详细说明如下。实施例1一种陶瓷制品的镂空生产方法，具体步骤为在模具中浇注陶瓷浆料，在800 0C烧制4小时，制成2mm厚的陶瓷素坯，在陶瓷素坯的表面贴2. 5mm厚的具有镂空图案的硅胶膜，对陶瓷表面进行喷砂处理，所述的喷砂处理工艺为使用金刚砂在气压为I公斤/cm2的条件下进行喷砂处理I分钟，在750°C烧制3小时以去掉硅胶膜，上釉，得到具有镂空图案的陶瓷制品。所得的陶瓷制品的成型精度为2mm。实施例2一种陶瓷制品的镂空生产方法，具体步骤为在模具中浇注陶瓷浆料，在800°C烧制4小时，制成2mm厚的陶瓷素坯，在陶瓷素坯的表面贴2. 5_厚的具有镂空图案的硅胶膜，对陶瓷表面进行喷砂处理，所述的喷砂处理工艺为使用金刚砂在气压为I公斤/cm2的条件下进行喷砂处理O. 5分钟，在800°C烧制4小时以去掉硅胶膜，上釉，得到具有镂空图案的陶瓷制品。所得的陶瓷制品的成型精度为3mm ο实施例3一种陶瓷制品的镂空生产方法，具体步骤为在模具中浇注陶瓷浆料，在800 0C烧制4小时，制成2mm厚的陶瓷素坯，在陶瓷素坯的表面贴2. 5mm厚的具有镂空图案的硅胶膜，对陶瓷表面进行喷砂处理，所述的喷砂处理工艺为使用金刚砂在气压为I公斤/cm2的条件下进行喷砂处理1. 5分钟，在7800°C烧制3小时以去掉硅胶膜，上釉，得到具有镂空图案的陶瓷制品。所得的陶瓷制品的成型精度为3mm ο
权利要求
1.一种陶瓷制品的镂空生产方法，其特征在于，具体步骤为制造陶瓷素坯，在陶瓷素坯的表面贴2 3_厚的具有镂空图案的硅胶膜，对陶瓷表面进行喷砂处理，去掉硅胶膜，上釉，得到具有镂空图案的陶瓷制品。
2.如权利要求1所述的陶瓷制品的镂空生产方法，其特征在于，所述的喷砂处理工艺为使用金刚砂在气压为I公斤/cm2的条件下进行喷砂处理0. 5 1. 5分钟。
3.如权利要求1所述的陶瓷制品的镂空生产方法，其特征在于，所述的去掉硅胶膜的方法为在750 800°C烧制3 4小时。
全文摘要
本发明提供了一种陶瓷制品的镂空生产方法，其特征在于，具体步骤为制造陶瓷素坯，在陶瓷素坯的表面贴2～3mm厚的具有镂空图案的硅胶膜，对陶瓷表面进行喷砂处理，去掉硅胶膜，上釉，得到具有镂空图案的陶瓷制品。本发明采用喷砂工艺，能够节省人力，提高成型精度，提高合格率。
文档编号B44C3/00GK103029505SQ20131000816
公开日2013年4月10日 申请日期2013年1月9日 优先权日2013年1月9日
发明者蔡世山 申请人:上海高诚艺术包装有限公司