放射线图像转换板及其制法的制作方法

专利名称：放射线图像转换板及其制法的制作方法
技术领域：
本发明涉及用于形成被照射体的放射线图像时的放射线图像转换板。
背景技术：
从前，X射线图像之类的放射线图像广泛用于在医疗现场诊断病况。特别是，采用增敏纸-底片类的放射线图像，在漫长的历史中谋求高灵敏度和高图像质量的结果，作为兼具高可信性和优异的性能成本比的摄像系统，目前在全世界范围内，仍然在医疗现场使用着。近年来，以辉尽性荧光体板作为放射线图像转换板而使用的计算放射线图像(CR(computed radiography))已经商品化，高灵敏度化和图像质量的改善也正在日新月异的发展。
上面所说的“辉尽性荧光体板”，是蓄积透过被照射体的放射线，并通过激发光的照射等，将蓄积的放射线以根据其线量的强度进行辉尽发光的板，并且具有在规定的基板上辉尽性荧光体形成层状的结构。这样的辉尽性荧光体板的制造方法的一例在专利文献1中已公开。关于在专利文献1中记载的方法，是通过众所周知的气相沉积法在规定的基板上形成辉尽性荧光体层而制造辉尽性荧光体板，并对该辉尽性荧光体板进行热处理(参见段落编号0034、0035)。
因此，在将上述辉尽性荧光体板作为放射线图像转换板使用时，通常是，通过将辉尽性荧光体板夹在两片树脂制的膜之间并对所述的各膜的侧边部彼此加热·熔合，将荧光体板封入该膜之间。这里，在适当的温度下膜不被加热·熔合时，辉尽性荧光体板的辉尽性荧光体层与膜之间不能形成期望的空隙(辉尽性荧光体层与膜密合而空隙变窄到必要以上)，有可能在放射线图像上发生图像不均或线状噪音(線状ノイズ)。
专利文献1特开2003-279696号公报发明内容本发明的目的在于，提供一种可以防止图像不均或线状噪音发生的放射线图像转换板及其制造方法。
用于达到上述目的的本发明的方案之一，是具有下述工序的放射线图像转换板的制造方法即，采用气相沉积法在规定的基板上形成辉尽性荧光体层的荧光体板形成工序、在卤化溶剂的气体氛围气氛中加热上述荧光体板的加热工序、在上述加热工序之后将上述荧光体板配置在两片树脂制的膜之间，并对上述各膜的周边部分施加最低热封温度150℃以上的热来加热·熔合上述各膜彼此的周边部分的热封工序。


图1是放射线图像转换板的断面图。
图2是荧光体板的放大断面图。
具体实施例方式
本发明的上述目的是通过以下的方案实现的。
(1)一种放射线图像转换板的制造方法，其包括在规定的基板上以气相沉积法形成辉尽性荧光体层的荧光体板形成工序、在卤化溶剂的气体氛围气下加热上述荧光体板的加热工序、在上述加热工序之后，将上述荧光体板配置在两片树脂制的膜之间，对上述各膜的周边部分施加最低热封温度150℃以上的热将上述各膜的周边部分彼此加热·熔合的热封工序。
(2)上述(1)所述的放射线图像转换板的制造方法，其特征在于，上述最低热封温度是150～171℃。
(3)上述(1)或(2)所述的放射线图像转换板的制造方法，其特征在于，上述卤化溶剂是HFE。
(4)上述(1)～(3)中任一项所述的放射线图像转换板的制造方法，其特征在于，上述卤化溶剂含有吸收激发光的着色材料。
(5)一种放射线图像转换板，其是按照上述(1)～(4)中任一项所述的放射线图像转换板的制造方法制造的。
下面，参照附图对实施本发明的最佳方式进行说明。但是，发明的范围并不限定于附图所示的例子。
图1是放射线图像转换板1的断面图。
如图1所示，放射线图像转换板1具有在规定的基板2上形成了辉尽性荧光体层3的荧光体板4。
基板2呈长方形(短形状)。基板2由高分子材料、玻璃、金属等构成，特别优选，由醋酸纤维素膜、聚酯膜、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚酰胺膜、聚酰亚胺膜、三醋酸酯膜、聚碳酸酯膜等塑料膜，石英、硼硅酸玻璃、化学强化玻璃等板玻璃，或铝、铁、铜、铬等金属片或具有这些金属氧化物包覆层的金属片构成。
基板2的表面2a(图1中上面)既可以是光滑面，也可以是粗糙面。在基板2的表面2a上，为了提高与辉尽性荧光体层3的粘接性也可以设置底涂层，并且为了防止激发光透过基板2入射到辉尽性荧光体层3上还可以设置光反射层。
辉尽性荧光体层3由CsBr:Eu等公知的辉尽性荧光体构成，并可通过蒸镀法、溅射法、CVD(Chemical Vapor Deposition)法、PVD(Physical VaporDeposition)法、离子镀法等公知的气相沉积法形成。辉尽性荧光体层3既可以由一层构成，也可以由两层以上的层构成。
图2是荧光体板4的放大断面图且是宏观地观察辉尽性荧光体层3的断面图。
如图2所示，辉尽性荧光体层3具有由辉尽性荧光体构成的多个柱状结晶3a、3a、...相互空出间隔而排列的柱状结构。各柱状结晶3a以规定的角度对基板2的表面2a的法线R倾斜着。在图2中辉尽性荧光体层3由包含多个柱状结晶3a、3a、...的一层构成，但是该辉尽性荧光体层3也可以具有包含多个柱状结晶3a、3a、...的层2层以上叠层了的层状结构，不管层数有多少，但总层厚可以形成为50μm以上，优选300～500μm。
如图1所示，具有上述结构的荧光体板4，介于配置在辉尽性荧光体层3上面的防湿性的第1保护膜10和配置在基板2的下面的防湿性的第2保护膜20之间。
第1保护膜10具有比荧光体板4稍大的面积，并在与荧光体板4的辉尽性荧光体层3实质上不接触的状态下，其周边部分比荧光体板4的周边部分更向外侧地延伸出。所说的“第1保护膜10与辉尽性荧光体层3实质上不接触的状态”，是指第1保护膜10与辉尽性荧光体层3在光学上不是一体化的状态，具体地，是指第1保护膜10与辉尽性荧光体层3的接触面积是辉尽性荧光体层3的表面(与第1保护膜10相对的面)的面积的10％以下的状态。
另一方面，第2保护膜20也具有比荧光体板4稍大的面积，且其周边部分比荧光体板4的周边部分更向外侧地延伸出。
在放射线图像转换板1中，第1，第2保护膜10，20的各周边部分彼此在整个圆周熔合，并且第1，第2保护膜10，20具有完全密封荧光体板4的结构。第1，第2保护膜10，20通过密封荧光体板4，能确实防止水分向荧光体板4的浸入，从而达到保护荧光体板4的目的。
如在图1中示出的上部的放大图，第1保护膜10具有叠层了第1层11、第2层12、第3层13的3层的叠层结构。
第1层11是通过空气层14与荧光体板4的辉尽性荧光体层3相对的层，是由具有热熔粘合性的树脂构成的。作为“具有热熔粘合性的树脂”，可以举出，乙烯-醋酸乙烯共聚物(EVA)、铸塑聚丙烯(CPP)、聚乙烯(PE)等。
第2层12是由氧化铝、二氧化硅等金属氧化物构成的层，并采用公知的蒸镀法蒸镀在第3层13的下面。第2层12是强化第1保护膜10的防湿性能的层，但是没有也行。
第3层13叠层在第2层12上，并由聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)等树脂构成。
因此，具有用金属氧化物构成的第2层12的第1保护膜10，具有优异的加工性和透明性，并且在防湿性和氧气透过性的性质方面不易受温度和湿度的影响。因此，该第1保护膜10可适用于，不受环境影响地要求稳定的图像质量的辉尽性荧光体利用型的医疗用放射线图像转换板1。
另外，可以在第3层13上叠层1层或2层以上与第1层11相同的层、与第2层12相同的层、与第3层13相同的层或者由与第1层11、第3层13不同的树脂构成的层。
特别是，在第3层13上叠层与由氧化铝、二氧化硅等金属氧化物构成的第2层12相同的层时，第1保护膜10可以根据相当于该第2层12的层的叠层数发挥最适合的防湿性能。作为第2层12或与其相同的层的叠层方法，只要是公知的方法哪一种方法都可以使用，但从操作性方面看，优选使用按照干层压方式的方法。
如在图1中示出的下部的放大图，第2保护膜20具有叠层了第1层21、第2层22、第3层23的3层的叠层结构。
第1层21是通过空气层24与荧光体板4的基板2相对。第1层21由与上述第1保护膜10的第1层11相同的树脂构成，且其周边部分与第1保护膜10的第1层11熔合。
第2层22是层压在第1层21下面的层，并且由铝构成。第2层22是提高第2保护膜20的防湿性能的层，但是没有也可以。
第3层23层压在第2层22下面，并且由PET等树脂构成。
另外，第3层23的下面也可以叠层1层或2层以上与第1层21相同的层、与第2层22相同的层、与第3层23相同的层或者由与第1层21、第3层23不同的树脂构成的层。
下面，对于放射线图像转换板1的制造方法进行说明。
首先，准备规定的基板2，并在该基板2上采用众所周知的气相沉积法形成辉尽性荧光体层3(下面叫做“辉尽性荧光体层形成工序”)。
例如，多数存在的众所周知的气相沉积法中，对于采用蒸镀法形成辉尽性荧光体层3的情况进行简单说明时，如图2所示，将基板2固定·设置在蒸镀装置内的基板架上，使该蒸镀装置内排气成为真空状态。然后，通过电阻加热法、电子束法等方法以辉尽性荧光体作为蒸镀源加热·蒸发该辉尽性荧光体，在基板2的表面2a上使辉尽性荧光体成长到成为期望的厚度，从而在基板2上形成辉尽性荧光体层3。
这里，对于固定在蒸镀装置内的基板架上的基板2的表面2a的法线R，将辉尽性荧光体的蒸气流的入射角度设定为θ2，将要形成的柱状结晶3a的倾斜角度设定为θ1时，经验上倾斜角度θ1大约是入射角度θ2的一半，以对应于入射角度θ2的倾斜角度θ1形成多个柱状结晶3a、3a、...。即，只要在入射角度θ2＝60°的条件下将辉尽性荧光体的蒸气流入射到基板2的表面2a上，就可以在该基板2的表面2a上形成倾斜角度θ1＝30°的多个柱状结晶3a、3a、...。
作为对于基板2的表面2a以规定的入射角度供给辉尽性荧光体的蒸气流的方法有，将基板2对于蒸镀源以倾斜的方式进行配置的方法、将基板2和蒸镀源相互平行地配置，通过狭缝等只将辉尽性荧光体的蒸气流的倾斜成分从蒸镀面蒸发的方法等。
当辉尽性荧光体层形成工序的处理结束时，将荧光体板4设置在公知的恒温槽的内部并使该恒温槽的内部成为有机溶剂气体氛围气氛，在该氛围气氛下将荧光体板4在100℃以上(优选100℃～160℃)加热规定的时间(以下叫做“加热工序”)。
这里，对于可以在加热工序中使用的“有机溶剂”进行说明。
作为该有机溶剂优选使用卤系溶剂。所述的卤系溶剂是包含烃类化合物中至少一个氢原子被F、Cl、Br、I等属于卤素的原子取代的化合物的溶剂。该卤系溶剂可以是，在结构中各元素彼此的键合只由饱和键构成的化合物，或者是含有不饱和键的化合物，或者是环状的化合物，或者是链状的化合物，或者是化合物中的原子或分子被羟基、醚基、羰基、羧基取代的化合物。
作为可以优选使用的作为该卤系溶剂的化合物是，(1)从供给加热处理之点(从有关着火性或爆炸性等消防法的观点看要求没有着火点等特性之点)的观点上看，是没有着火点的不燃性溶剂。在这种情况下，可以不考虑待使用的卤系溶剂的种类而任意地设定加热温度，但优选在使加热温度在着火点以下的温度下进行。
另外，从包括上述(1)的观点，(2)环境适应性(3)对生物体的有害性等的观点看，认为进入最近话题的氟利昂代替材料是有用的。其中，可以优选使用上述(2)、(3)优异的最新的氟利昂代替材料的「HFE(氢氟醚(ハイドロフルオロエ—テル))」作为该卤系溶剂。
HFE包含碳、氟、氢一个以上的醚氧原子，而且还可以含有组合进入碳主链中的一个以上的杂原子，例如，硫或三价氮原子。HFE可以呈直链状、可以呈分枝状、可以呈环状、或者也可以具有由这些的组合构成的结构，例如，可以是烷基脂环式。但是，HFE优选不含有不饱和键。
作为具体的HFE，可以使用以下述通式(4)表示的化合物作为其一个例子。
(R4-O)a-R5---(4)上述通式(4)中，“a”是1～3的数，“R4”和“R5”是选自烷基和芳基的基团，彼此可以相同也可以不同。至少“R4”和“R5”中的一个是含有至少一个氟原子，和至少一个氢原子的基团，“R4”和“R5”中的任一个或两个还可以在链中含有一个以上杂原子，优选的HFE是在该HFE中的氟原子总数在氢原子总数以上。“R4”和“R5”可以呈直链状、可以呈分枝状、可以呈环状、进一步地说还可以含有一个以上的不饱和碳-碳键，但是“R4”和“R5”两者都优选在各元素之间是饱和键合的原子团。
作为具有这样的性质的HFE，例如有住友3M株式会社制的ノベツク(注册商标)HFE-7100、7100DL、7200或ダイキン工业株式会社制的HFE-S7(商品名)等，优选使用这些市售的HFE作为在该加热工序中可以使用的卤系溶剂。
另外，在上述卤化溶剂中还可以含有吸收激发光的「着色材料」。由于在卤化溶剂中含有着色材料，且在加热工序中该着色材料浸入到各柱状结晶3a的间隙的各个角落，可以防止入射到各柱状结晶3a的间隙的激发光的散射。
所用的着色材料可以根据辉尽性荧光体的种类而决定。对于放射线图像转换板1，通常可以使用，通过波长400～900nm的激发光显示波长300～500nm的辉尽发光的辉尽性荧光体，因此，作为着色材料，可以使用青色～绿色的有机类着色材料或无机类着色材料。
作为青色～绿色的有机类着色材料，可以举出，Neozapon Blau 807(BASF社制)、柚子坚牢蓝3G(ザボンフア一ストブル一3G)(ヘキスト社制)、エストロ一ルブリルブル一N-3RL(住友化学(株)制)、スミアクリルブル一N-3RL(住友化学(株)制)、D&Cブル一No.1(ナシヨナル·アニリン社制)、スピリツトブル一(保土谷化学(株)社制)、オイルブル一No.603(オリエント(株)制)、キトンブル一A(チバ·ガイギ-社制)、アイゼンカチロンブル一GLH(保土ケ谷化学(株)制)、レイクブル一AFH(协和产业制)、プリモシアニン6GX(稲畑产业(株)制)、ブリルアシツドグリ一ン 6BH(保土谷化学(株)制)、シアニンブル一BNRS(东洋インキ(株)制)、ライオノルブル一SL(东洋インキ(株)制)等。另一方面，作为青色～绿色的无机类着色材料，可以举出，群青、钴蓝、锡酸钴蓝、氧化铬、TiO2-Zn-CoO-NiO类颜料等。
在上述卤化溶剂中，除了着色材料以外，还可以含有高吸收光的物质、高光反射的物质等填充材料。只要将高吸收光的物质、高光反射的物质等填充材料填充到各柱状结晶3a的间隙中，则可以有效地降低入射到辉尽性荧光体层3的辉尽激发光向横向的光扩散。
当加热工序的处理结束时，将荧光体板4直接放置在恒温槽的内部规定的时间，并使荧光体板4冷却直到荧光体板4降温至规定的温度(下面叫做“放置冷却工序”)。例如，将荧光体板4放置在恒温槽的内部1小时以上，使荧光体板4冷却直到荧光体板4的温度下降至50℃附近。
当放置冷却工序的处理结束时，从恒温槽中取出荧光体板4，将取出的荧光体板4配置在两片第1、第2保护膜10、20之间。此时，将第1保护膜10的第1层11与第2保护膜20的第1层21对置。然后在该状态下，将第1、第2保护膜10、20的各周边部分用脉冲密封器加热·熔合(热封)，将荧光体板4密封到第1、第2保护膜10、20的之间(下面叫做“热封工序”)。如上所述，通过进行从辉尽性荧光体层的形成工序到密封工序的各种处理，可以制造放射线图像转换板1。
这里，在热封工序的处里中，对于第1、第2保护膜10、20的各周边部分由脉冲密封器施加最低热封温度150℃以上的热。
所述「最低热封温度」是指，在对于第1、第2保护膜10、20的各周边部分由脉冲密封器经1.0秒钟施加0.2MPa的挤压力的同时将第1、第2保护膜10、20的各周边部分之间加热·熔合的场合，令没有基膜烧伤(ベ一スヤラレ)(由于过热导致的第1、第2保护膜10、20的热收缩·烧焦)并可以密封的温度下的最大热封粘接力为“Fmax”，令任意温度下的热封粘接力为“Fh”时，满足下述式(5)的条件的最低加热温度。
Fh/Fmax≥0.75... (5)所述规定“Fmax”，“Fh”的「热封粘接力」是指，将刚热封后的第1、第2保护膜10、20在温度23℃，相对湿度50％的温湿环境下放置2小时后测定的粘接力，在该粘接力的测定中可以使用市售的推拉压力表。
按照以上的实施方式，在热封工序的处理中由于对第1、第2保护膜10、20的各周边部分由脉冲密封器施加最低热封温度为150℃以上的热，则可以在荧光体板4的辉尽性荧光体层3与第1保护膜10之间形成希望的空气层14(空隙)的状态下，将荧光体板4密封在第1、第2保护膜10、20之间。由此，可以飞速地提高放射线图像转换板1的辉尽发光量，进而还可以防止放射线图像中的图像不均或线状噪音的发生(参照下面的实施例)。
实施例在本实施例中，制作设定放射线图像转换板的多个种类的试样，评价这些中的各个试样的图像质量(有无图像不均、线状噪音)。
(1)试样的制作(1.1)荧光体板的制作准备大小为10cm×10cm，厚度为500μm的透明结晶化玻璃作为基板，在基板的一侧的面上形成光反射层。光反射层的形成，是通过使用众所周知的蒸镀装置将氧化钛(フルウチ化学社制)和氧化锆(フルウチ化学社制)蒸镀在基板上而进行的。调节膜的厚度以使该光反射层对于波长400nm的光的反射率为85％，而对于波长660nm的光的反射率为20％。
然后，在基板的反射层上蒸镀包含CsBr:Eu辉尽性荧光体，在基板的光反射层上形成辉尽性荧光体层。具体地，首先，将形成基板的光反射层的面面向蒸镀装置的蒸镀源的状态下将基板固定在蒸镀装置内的真空室内并将真空室内加温到240℃，在该状态下向真空室内导入氮气并使真空室内成为0.1Pa的真空度，此时，使蒸镀源与基板的距离成为60cm。
然后，在蒸镀源与基板之间配置铝制的狭缝，以便对于形成基板的光反射层的面的法线方向以30°的角度入射辉尽性荧光体的蒸气。然后，一边沿面方向输送基板一边进行蒸镀，在基板的光反射层上形成具有500μm厚的柱状结构的辉尽性荧光体层，从而制造荧光体板(辉尽性荧光体层形成工序)。
(1.2)试样1的制作将上述(1.1)制作的荧光体板设置在公知的恒温槽中在HFE(住友3M(株)制ノベツクHFE-7100(C4F9OCH3))气体氛围气下于140℃加热1小时(加热工序)再将该荧光体板直接放置在恒温槽的内部1小时左右进行冷却(放置冷却工序)。
除了加热工序、放置冷却工序以外，再使用2液反应型的聚氨酯类粘接材料并通过干层压方式将膜厚40μm的聚丙烯膜(東セロ(株)制聚丙烯膜RXC36)、和蒸镀了氧化铝的膜厚12μm的PET膜(VMPET12，东洋メタライジング社制)贴合在一起制作保护膜。
当结束加热工序、放置冷却工序的各处理并制作出2片保护膜时，以使各保护膜的聚丙烯膜(密封层)之间相对的状态在保护膜之间配置完成加热的荧光体板，并将这些配置在真空室内。然后，将真空室内的压力减压到200Pa，同时向真空室内流入氦气对真空室内进行气体置换，然后，再将真空室内的气压调节到7000Pa。
在该减压下，由脉冲密封器(加热幅度为8mm)对各保护膜的周边部分施加最低热温度为140℃的热，使该周边部分彼此相互加热·熔合，将荧光体板密封在2片保护膜之间(热封工序)。并将其作为“试样1”。(在该试样1的制作中的加热工序、热封工序的条件等均示于下述表1中。
(1.3)试样2，4，5的制作上述(1.2)的内容中，将加热工序、热封工序的各处理条件(包含保护膜的密封层的种类)变更为如下述表1所示的，除此之外与上述(1.2)同样地制作“试样2，4，5”。但是，在试样4，5的制作中，在加热工序的处理在HFE中含有着色材料(BASF社制Neozapon Blau 807)(着色材料的含有率为0.03重量％)。
(1.4)试样3的制作将上述(1.1)制作的荧光体板设置在公知的恒温槽中在氮气氛围气下于100℃加热1小时。然后，上述(1.2)的内容中，将加热工序、热封工序的各处理条件(包含保护膜的密封层的种类)变更成如下表1所示的，除此之外与上述(1.2)同样地制作“试样3”。但是，在试样3的制作中，在加热工序的处理中在HFE中含有着色材料(BASF社制Neozapon Blau 807)(着色材料的含有率为0.03重量％)。
(2)图像质量(有无图像不均、线状噪音)的评价从各试样的里面(没有形成辉尽性荧光体层的面)照射管电压80kVp的X射线。然后，在各试样的表面(形成辉尽性荧光体层的面)上扫描半导体激光使该辉尽性荧光体层激发，每个试样通过受光器(分光感度S-5的光电子像倍管)接受从该辉尽性荧光体层放射的辉尽发光的光量(光强度)的光并转换成电信号。然后，基于转换后的电信号在将图像放大2倍的状态下从众所周知的打印机打印输出，通过目视观察该打印输出后的图像来评价图像质量(有无图像不均、线状噪音)。
上述图像质量的评价是，对于各试样，在刚制作后(初期)、和制作后在温度40℃，相对湿度90％的温湿环境下保持14天后，一共进行两次。在图像质量的评价中，将各试样在上述温湿环境下保持14天是为了在短时间内评价各试样随时间的劣化(由于湿度引起的变动)。评价结果示于表1。但是，表1中，“A”、“B”、“C”的评价基准按照下述的基准。
A...完全没有图像不均、线状噪音B...在图像的1，2处可以确认到浅的图像不均、线状噪音C...在图像的3，4处可以确认到浅的图像不均、线状噪音表1

如表1所示可知，在对各保护膜的周边部分施加最低热封温度150℃以上的热的试样2～5中，图像质量的评价结果优异，在对各保护膜的周边部分施加最低热封温度150℃以上的热使保护膜彼此加热·熔合是有用的。
工业实用性按照本发明，由于在热封工序中对各膜的周边部分施加最低热封温度150℃以上的热，就可以在荧光体板的辉尽性荧光体层与膜之间以形成成希望的空隙的状态将荧光体板密封在膜之间。由此，可以飞速地提高辉尽发光量，进而可以防止放射线图像中的图像不均或线状噪音的发生。
权利要求
1.一种放射线图像转换板的制造方法，其包括荧光体板形成工序，所述工序是通过气相沉积法在规定的基板上形成辉尽性荧光体层的工序、加热工序，所述工序是在卤化溶剂的气体氛围气下加热上述荧光体板的工序、热封工序，所述工序是在上述加热工序之后，将上述荧光体板配置在2片树脂制的膜之间，对上述各膜的周边部分施加最低热封温度150℃以上的热将上述各膜的周边部分彼此加热/熔合的工序。
2.权利要求1所述的放射线图像转换板的制造方法，其中，上述最低热封温度为150～171℃。
3.权利要求1所述的放射线图像转换板的制造方法，其中，上述卤化溶剂是HFE。
4.权利要求1所述的放射线图像转换板的制造方法，其中，上述卤化溶剂含有吸收激发光的着色剂。
5.一种放射线图像转换板，其是根据权利要求1所述的放射线图像转换板的制造方法制造的。
全文摘要
本发明涉及放射线图像转换板的制造方法，其包括通过气相沉积法在规定的基板上形成辉尽性荧光体层的荧光体板形成工序、在卤化溶剂的气体氛围气下加热上述荧光体板的加热工序、在上述加热工序之后，将上述荧光体板配置在2片树脂制的膜之间，对上述各膜的周边部分施加最低热封温度150℃以上的热将上述各膜的周边部分彼此加热/熔合的热封工序。
文档编号G03B42/02GK101069243SQ20058004109
公开日2007年11月7日 申请日期2005年11月29日 优先权日2004年12月6日
发明者工藤伸司, 庄子武彦 申请人:柯尼卡美能达医疗印刷器材株式会社