专利名称：使用两件式盖子保护模版的系统和方法
使用两件式盖子保护皿的系^方法
本申请是申请号为03142306^的中国专利申请的分案申请，原申请的 日为加(B年2月21日，名称为"使用两件式盖子保护模版的系统和方法"。 技辆城
本申请涉;SUt^技术(lithography)，尤其涉及不使用薄皮(pellicle)对 扁 行保护.
背景技术：
光刻技术是一种在衬底的表面上产生特征的方法.村底可以包括在制造平 綠示器、电路板、树絲电路等中所翻的那些衬瓜例如可以使用半导 体晶片作为衬底来制造M电路.
在光刻技术中，使用 1将所需困案转移到村底上.模版可以由对所使用 的it^波长来"SUJt:明的材湘成，例如在可见光的情况下使用玻璃.^L也
可以形成为能够反射所使用的光刻波长，例如^^jim紫外线(Euv). m上印
有困來针对使用m的具体系统来逸择模版的尺寸.例如可以使用6英寸x6英 寸并M度为l/4英寸的m在iUW过程中，^JL在晶片台上的晶片^fe4露 于##^11所印田像而鄉到晶片表面上的困象
所投射的困像使沉积在晶片表面上的层(例如:^Jt抗独刑层)的特性发生 变化.这些变^H^曝iUi程中^Ut到晶片上的特絲对应.在碟it^，该层 可以被刻蚀，以形成带闺案的层.该困案对应于在!8Myt程中M到品片上的 那些特征然后使用该带有困案的层来1^*该晶片内的在下面的结构层(例如 导电层、半导电层或^JjL层)的瀑光部分.重复该过程以及其它步泉直M 晶片的表面上形成所需的特机
从上面的描述中可以清楚地看到，通it^刻技术而产生的特征的准确位置 和尺寸直接取决于M到晶片上的困像的精度和准度.亚100nmML刻的严格汰不 財ife^工具、而且4M"^^提出了严格的要礼沉降在mi的空气中的顆 i^灰尘会导致晶片上的缺陷.^XSL平面内的小的困像变形或移位可能比临界 尺寸和重:W差预计值更大.传统的解决方法a用永久性闺t毫明材料薄片 作为m的薄皮.
该薄皮在光刻过程的所有步驟中都保留在原位，薄皮在改善到晶片上 的困像的准度方面具有双重功礼首先，薄皮用于保护m不与徵粒污染物直
絲触.如上所述，沉降在^SLh的顆粒会产生闺像变形，罔此必须除去.但 是，从^KJi除去顆粒会导致对m的损坏，因为这种除去可能会涉WJ与模 版直##触.当使用薄皮时，顆粒会沉降在薄皮上而不是m上.因此必须清 洁的是薄皮.清洁薄皮而不是^M^J1的完脊汰来礼色害较小'因为在该清 洁过程中皿由其薄皮所保护.
薄皮所产生的第二个功效与薄皮的间咪(standoff)有关.在瀑itiii程中， 聚焦平面对应于皿上印制的困像的位置.，过使用薄皮，系统中的^T類粒 会沉降在薄皮上而不是^XUi.利用薄皮的厚先以及由此而在薄皮的表面和 m的带图絲面之间itA的距离，这絲紗会处于聚焦平面.由于薄皮将 顆粒抬升而不在聚焦平面，罔jfc^到村底上的困像会^这^R粒的可能性
上述的这种方法在许多传统的it^加x^L术中^MU艮好.因jtfc^这种系 统在光穿过皿和薄皮的系统中^r便的，因为制选蓬明薄皮和皿的材料是 可以得到的.但是该薄皮方法不适用于EUV应用，闳为所使用的光的短波长m^ 易在穿过气体或固体时被吸札
因此，目前没有材料对EUV足够透明而可以用于制絲皮.^EUVibW技术 中，EUV不穿过m， ^fa^L^射离开皿的困^l倒.该技术称为iUt光刻.如果 在^Jl^t^过程中使用薄皮，则EUV必须两次穿过薄皮，一^A射向m而另一 ^iUA射离开瓶罔此，^EUV加:La术中，与薄皮有关的贿絲失妙倍.
因此，需P种系统和方法，可以保护m不受污染，它M不会SH氐穿 过系统的EUV光量. 发明m
本发明的实施方案m种传输4^模的方法，包括如下步雾(a)用可移 式顆粒盖子AA掩模的第一部分，形成掩模-盖子构选(b)糾构造封闭在一 个气密的盒子中，该盒子包括有掩模运栽部分以及与该掩模运栽部分分开的幕 以及(c)将该构i^tji盒子内进行传输.
本发明的实施方案提供一种用于传isr^模的气密的盒子，该盒子包掩掩
模运栽部分；軍；用于防止气体在掩模狄部^^Mi间流动的气密装置；以 及用于将革与该掩模运栽部分暂时性的连接和固定的闩销.
本发明的实施方案提l种传输、搬錄加工掩模的方法，fe^如下步艰
(a)用可移式顆粒盖子4U1掩模的第,分，形A^模-盖子构选(b〉絲 构造封闭在一个气密的盒子中，该盒子包括有掩模^MP分以及与该掩模i^R 部分分开的軍；(c)将带有该构造的盒子传勤，J加工工具，该工具具有以下每个 部件中的至少一种脱吊抢器(de"podder)、 ^J5f^Jg、鄉^IM!l器、负栽锁 (loadlock)、真空腔，真空操纵器、以及掩模iL虔；(d)将带有该构造的盒子 絲脱吊舲器的第一开口上，使得盒子的軍防止气体iiit该第一开口而流动； (e)用清洁气,匕脱吊抢器的内部；(f)将掩模i^l部^革分开而打开该盒 子，絲革在原位，用于赠气体流动，将掩模运栽部^a构姊动到脱吊 抢器的内部；(g)利用^bSf^M5l器通过笫二脱吊舦器开口而^^构it^吊 抢器抽到鄉雌内，并絲构itiiit第一负栽锁开口鈔'J负栽锁内部；(h)抽 空负栽锁；(i)利用真空IMiUI^构itia过第二负栽销从该负栽锁中抽出， 并将该构造移动到真空腔内；(j)将该构^ti在掩模^LL,使^^模的^SL 盖部分与iL^B^触；(k)利用该JL^W^掩樣(1)利用真空a器，将盖 子与4^^开，取;tH子；(m)加工4^樣
本发明的实施方案提供了一种负栽锁，包松具有至少两个开口的封套； 与该封套的第一开口^^空气側门岡；与该封套的第二开口輛^真空倒门 阀；位于封套内的用于^N^^模的^^^器；位于封套内的用于4^^^摸的 可移动岡顶；以及用于移动两顶的圃顶促动器，从而该圃顶可以it^tMUlJL 该掩模.
本发明的实施方案提^"种将掩模从空气压力过渡到负栽锁中的真空的 方法，包括如下步取(a)将掩^JL^负栽锁内；(b)将掩湖W顶4t^，以 防止负栽锁中的空气中的顆魁'J达^模；(c)关闭负栽锁；(d)抽空负栽锁；(e) 打开负栽锁通向真空；(f)缩回圃顶而使^^模不^Ulil;以及(g)从负栽锁中 移开掩橇
本发明的实施方案提^"种传输、搬錄加工掩模的方法，包括如下步染 (a〉将掩模封闭在一个气密的盒子中，该盒子包括有掩棋运栽部分以及与该掩 模运栽部分分开的革；(b)将带有该掩模的盒子传iH^加工工具，该工絲有以 下每祷件中的至少一种脱吊抢器、^*jK、 ^!8bEf^lMiL器、负栽锁、真 空腔、真空諷器、以及掩模il^; (c)将带有该掩模的盒子錄脱吊舲器的第
一开口上，使得盒子的革防止气体通过该第一开口而流动；(d)用清洁气^(匕 脱吊舱器的内部；(e)将掩模运栽部妙軍分开而打賴盒子，##革在原仗 (f)利用鄉^IM^器，通过第二脱吊舱器开口而絲掩模AJPt吊舲器抽到贿 舰内，并糊掩模舰笫一负栽锁开口形'负栽销内部；(g)抽空负栽锁；(h) 利用真空舰《#*掩模通过笫二负栽镇从该负栽锁中抽出，并絲掩模移动 到真空腔内；(i)将该^^^L^L掩模UJi;以及(j)加工掩榥
本发明的实施方案提[种M用于在盒子内对传送至该^L^离^: M的^^模进行加工'该M包括alit的空气3Ef^;部分；至少一个大^LIMil 器；至少一个脱吊抢器；用清洁气体vjt^大气压力下进行净化的气Wum 部分；至少一个^i^il器；至少一个负栽锁；真空部分；以M少一个真 空舰器.
本发明的实施方案m种系艮包括m^与该^^接而保护m的 盖子.盖子包括框架和可移动面板，该面板移动而允许在膝itit程中光的ia^
指向m m和盖子利用自动^w^手移动至平台.m^盖子^开之
前可以连接1^L
本发明的其他实施方案、#&￡^优点以>8^发明各实施方案的结构和辦 将在下面参考附困作更详细描i^ 附图的简j^L明
在纽引入附闺##为说明书的一部分，连同说明一^iMf释本发明，还 用于Uf^本发明的原理，^吏得所属技4^5域的技^员可以实族本发明. 固l是本发明实施方案的^Jiii当位置处的两件式盖子的分解恥 恥是絲本发明的实施方案利用自动纽将两件式盖子中的 ^絲 平台上的視困；
围3是絲本发明的实施方絲示^L瀑^t行光刻的梘闺； 图4狄示本发明实施方案的两件iU子的分解立体恥 困5是利用本发明实施方案的两件式盖子进行对准和絲的方法； 困6A^示絲本发明的实施方案的定位fc^的视困； 闺7絲示錄明实施方案的带有定位se^的两件式盖子的外推田； 闺8是絲本发明的实施方案用于增强m中的区域的方法； 闺9 - 10分別表示##本发明实施方案的示例^ttlil子的餘现田^M卬視
固；
困11表示困9- 10的^JUL子的分糾闺； 囝12表示#4&本发明的实施方案双重包套吊舱(wr印pod)设计； 困13狄示固12的双重包套吊辆分解困； 困14U示本发明实施方案的负栽锁； 困15狄示闺14的负栽锁的分解困； 困16狄示本发明实施方案的 ^*^置核心的视恥
图17表示本发明实施方案的整个;NU!iyft^罝； 图18表示絲本发明的实施方案传送掩模的方法的f诚恥 困19表示#*本发明的实施方案传送、掇^p加:M^模的方法的流程田； 困20表示4HI&本发明的实施方案在负栽锁内从大气压力向真空传送掩棋 的方法的流艰困；
困21表示^本发明的实施方案在负栽锁内从真空向大^A力^i掩模 的方法的淡應困；
困22表示4M&本发明的实施方案传送、^t^加:M^模的方法的3Jt^困. 以下将参考附困对本发明进柳^在附图中， 一些^(以的附困#^表示
同样的或功t^近的元件.另外，大多数附困标记中最左面的数字表示在那个
附困中该附闺标记第一次出现.
优选实施方案的详细说明
本发明的实施方案提P种保护皿的盖子'它相对于传统系统来说有所改 t本发明的其他实施方案提供可与该盖子相配的吊艙或^1传送盒，它进一 步保护舰不受顆粒侵害.本发明的另一些实施方案提供与该盖予相配的负栽 银当在大气压力和真空之间^i^m时，它进一步保护m不受顆粒侵害.
本发明的再一些实施方案提供具有三个独立的环境(例如3^t的室内空气、气 #^化的 ^、以及真空)的^Xl搬iilUt,每个3R^M(PlUt合于在^Wiyt 步稞中有脉效率的减少^^的污染.本发明絲一些实施方案提[种利 用以上减少污染的所有装置来搬i^t版的方法，
传统的光刻技术依赖于薄皮来诔护模版的带困案区域不受到微粒污染.但 是如上所述，由于没有一种)W紫外光(欧JV)来H^i透明的材料，闳此不能实 现这个方法.另外，内部对准的限制使得整个mA子的除去难以iMI进行.
罔^絲本发明的实施方案，利用;^KJ1子来保护^L,该mH子^用 于支撑皿的框架，以及可以在艰#清洁过程中除去的面&
尽管it^系財清洁的环境下进^J^，但狄加工过程中会产生顆私 这些顆粒会污染m ^L要周期性的清洁，从而将^11的^^量##在一 个允许的阈值之下.國此必须考虑光刻系统内的顆粒产生来源.通常，在另外 的清洁系统中的顆粒是罔为摩擦而产生的.在4m的系统中，当;g^A-H^L 置传iHi'j另一个位置时会产生顆私由于在絲的系统中m^絲过程中可 以滑动，闳jH^H^^LM^Ut程中的滑动^^产生另外的顆艮传统 系统中的振动^fe^导^擦和相关的顆粒产生，
g本发明的实施方案，在可除去盖子上&^位置定位器和脊，从而JSJt 絲和^J1滑动絲.但^J1子的安絲除去会产M^.勤议的，如在传送 系统中的振动链导致顆粒的形^因絲实^^发明的实施方案时己財虑 到了这* 粒产生原國的差別.
除了顆粒的产生，在设计光刻系统时，也需要考虑顆粒的沉降.在本发明 的实施方案中使用可除去面板减少了顆M所有的时候都沉降在^^U的机 会，当然除了瀑^it^^卜.明显的顆粒沉降在瀑it^卜的时间内发生，闳此 使用本发明实施方案的可除去面板，即絲攀光步稞中除去盖子的时候也能够
显著的保护舰不会肚顆粒沉降.
最后，也必须考虑顆粒迁移.顆粒迁移发4^快速动作和快速压力变化导 致的紊流过程中.在euv系统中，很多移动4JH泉髙真空中.因jH^例如^ 架向絲iL^的移动过程中的棄^i最小的.但是由于有压力变仏因Ail个 棄流源必须予以考虑.因W^本发明的实施方案，通过使用与安^^^SU 的框架相连接的可除去面板，絲消除了这种額外的顆粒迁移源.
两件式盖子和其扣:u^动学的定位
困l表示包括根据本发明一个实施方案的两件式盖子(cover) 102的系统 IOO的分解困.两件式盖子102包括一个框架2，该框妇在搬运的过程中支撑一 个模版l，并在艰光的过程中与皿1和一个平台7保持接触.框架2包括一个比 撒&(reticle) l的场区(field)大的开口14,以在碟;5tit程中允许光必汰的光线 穿过开口14.框架2还包括一个连接装置8，它对应于连接至平台(stage)7的连 接装置9.因j^连接 8使得框妇可以由连接装置9^#在平台7上.
该实施方案还包括面fe3,它与框妇在^^瀑;Jt^前才相分开，在iti4曝 ;5t4^立刻重新连接至框彩.面板3可以由对可见絲明的材ifrlW成，从而可 以肉BBlfe"查和iR別皿l的前側.
如困所示，连接装置8种处于平台7和框fet间，以;Mt框叙和面船之 间.如图所示，可以在平台7和框^2之间包括S&fMt5一5b. R^对5a^5b可 以是"两件之间的(between pieces)",这:fc^领Jfe^MlA员絲此处描述 的至少一种技术可以知道的，可选自分別在每个片上的磁体和^K M紧闺 件，例如在一个片上的^T弹黃的闩销或jet^锁存器以及在另一个片上的fiC^ 接头片；以及重力M装里，例如在另一个片上的fic4^aff上的位于一个片上
絲本发明的实施方案，连接装置8和/或9可以具有以下设计准则，包括 但不限"f: a)连接装置8和/或9可以iail两件式盖子102夕MP的装置iMi行拆 卸，该^Jt可以位于将舰l加餘平台7上的自动IMM^手4上或者在平台 7内，和/或；b)连接纽8和/或9的絲和再连接应当产生最小的污染顆敉 从而狄污染舰l(为it优逸使用非接触式装置来促动连接装置8和/或9)， 和/或；c)连接 8和/或9应当是自支撑的，从而一^Sii接装置8和/或9已 ^L^连接，则不需要;^外^Mt用将这^H^持在一^
在一个实施方案中，自动KW^手4可以用于挤压两个或多个絲弹簧 的闩锁，从而树这辨.
在另一个实施方案中，平台7中的电磁休可以用于与闩销中的4c^体发生 相互作用，从而使得它们分开.
在另一个实施方案中，自动IMfc^手4中的电磁体iiitJtJ!^别处于盖 子102的两错上的4cfiS体和^间的磁性吸引而絲面;feL3.类似的，平台7内
间的>^性吸引.
许多其他的实施方案也是可行的，包括但不限于，连接tsc^的排列变换和 结^#^置^*手中而不是在平台定仗或者反之亦然.所有的这些排 列变换和结^P^发明的范闺之内，
继续参考图l，在Jiit实施方案的变化中可以利用重力来将船良l、框架2 和面船保持在4具体的礼自动IMMrt^手4可以支撑着面fe3,框彩可
以搁靠在面松上粉U可以靠在框架2内.相对应的ge^晰a^5b可以将框架 2与面^L3对准，而相对应的S^Mt6a^6b可以将面;feL3与自动^WL^手4对准.
在各种实施方案中，S^对5a^5b处a^6b可以逸自运动支座(例如带 有在沟槽或圃锥形Jl^内的球)，孔和狭槽中的^4S,以及4^H^Nl套在 另一个阵中.用于提供能量从而使框^2相对于平台7##定#从平台7#^的 装置可以位于平台7内，如困l所示，或者内置于自动^WL^手4中.
#*本发明的另一个实施方案，位于平台7内的两个或多个带有弹黃的机 械闩锁9通过利用舌片8可以用来将框叙保持在平台7上，如困2和3所示，壯 下所述.
在另一个实施方案中，例如通过利用与平台7连接的螺线管11瞬时施加电 磁力以组弹簧10所施加的闭合力，由此回缩可由磁'liMt料制成的闩银从而 可以实现闩锁的g
ai^f对14a^l4b可以紅在面fe3的底部側和其它表面上该表面必须放 置有系统100(例如模版/盖子组件).例如，在真空库架上以;Mt表示为i3且 在下文4W细描述的标^WA接口 (SMIF)吊抢4Ml上，
困2表示根据本发明的一个实施方案mi和盖子102的状态.因此困2所示 的状态表示利用自动IMM^手4^框彩和面^L3加餘平台7上.在一个实施 方案中，该状态是在螺线管ll已^ft断开能量并且闩锁9已经捕获了舌片8的状 态.在该状态中，框彩固^适当的位置.该状态可以^>泉回缩自动| ^ 手化前.
图3表示^#本发明的实施方案的系统100的状态.在该状态中，在自动操 ft)U^rf4 (困3中没有显示)已经回缩，带走面fe3 (闺3中没有显示)之后， mi和框^2仅由平台7支撑，在一些实施方案中，此时可以通过开口14进行光 刻膝光.
自动^WL^手4^W彩而不是面;feL3的实施方lMJt简单的，因综 对于其他实施方案来"^U:优选的，这是目为采用了重力将面板3和框彩^#在 4在框架2已敏平台7捕获之后为从框fe上拆下面板3基本只需要自动搡 ^L^手4的向下移动，
可替换的实施方案还能便于将舰1与平台7对准，以下将描述用于对准的方法.
如本文其它^ t逸舰1应当* 和取向为和晶片相一致.it^M 保了当前从掩波图案复制到晶片上的电路M与晶片上已经先存在的层对JL
在以下4f^if细描述的几个实施方案中，樹U可以在容器(例如吊舦) 中传送至it^)系统(或"iU4工具")，该容器的,分可以表示为13.吊舱 (pod)可以包括一支撑着mi的框架以^传^it程中使污染顆粒远离^tl 的一面札在这些实施方案中，吊抢框架的底部側可以具有与光刻工具中《&# 的定位Se^相对应的定位制中，从而SMIF吊掩相对于光刻工具的取向是唯一确 定的.
参考闺l, itit支靠点和内置于框架2内的止挡器以及内3Ljl面板3中的弹 簧的结合，皿l可以闺^^M^jMg彩顶部側上的适当位JL由于^K1可以 是平的正方形，而没有特定的定位配件，因此可以有8种方法将其装se^支靠点, 止挡器和弹資所形成的嵌套中.
当将舰l加絲吊舲中时，必须小心将^XU紅为使其带有闺案的HW 面对所需要的方向(例如右側向上)，并有需要的相对于吊抢的取向(例械0 度).例如，闺案的顶部边缘可以朝着吊^前側.然后当模版吊^^Ut^
工具中时，可以知道舰i相对于光刻工具的位置和取向，通常，位置(x,y)
不确定'棘大约l咖(毫米)的数量级，角度取向(6z)不确定'錄大约l度的数 量亂但充这种准确度对于目前的細来献不够的.必须将位置的不确定
性减小到几个^t，取向的不确定性必须小于isyt秒.
因^絲本发明的实施方案，ifc^工具可以装备有预对准器.该预对准 器iW查看舰田案上的把并将^^按照需^i树动以校"^Wi置和取向， 从而将模版l中的困案相对于it^工具精确地定^对准.自动IU4或其M 何专用的^#城，通常将舰l从框彩絲至预对准器，并从预对准器絲 至平台7.从预对准器#^至平台7必须是非常准确的，罔为##装置所带来的 柳定位误差会^Hfe^U在平台7上的布MNI先因财于将舰l从预对准 器转移至平台7的关键步猓来礼应当使用非常准确和可重复的自动装置或#^
精确移动的自动装置可以位于光刻系统的印制台，该光刻系统适用于深紫 外(DUV)光刻.但是，这不能用于EUV先刻，罔为EUV过程必须在真空下进行. JtA因为如上所itEUVjt^在常压下被完全吸札阁此必须tt^适用于真空的自
动装置.由于电机和电子设备产生热 排除污染物气朱而这些在真空中是 非常难以除去的，因此蓬用于真空的自动装置被设计为使其电^电子设备处
于真空腔O卜.在真空腔内，使用长的枳4^JPi动;tM^^作转移到INt处理的 物体上.这种配Jbi清洁的，不会在腔内产生热，但是由于具有相当的长度、 低刚性以及Ji动机构的自由移动(play),因jftr^存在固有的定位准确^^可重
复性不好的问jt因A可获得的真空自动^ts:对于iwf将m^预对准器转
移到平台的这一关键步尿来iU:不够的.很清楚，需^"-种替粉法，使得自 动ILX的精确，脉可重复性是理想的.
困4表示系统100的实施方案，其中面杉。可以用于在最后的转移中准确地 和可重复的定仗由此允^用清洁器和必要的不精确的自动装置.通过将面 板3运动地对接到预对准器，可以获得面板3相对于预对准器的准确位置.下部 的V沟槽15a与圃的尖端的铕15b^合，在一个实施方案中该铕15Wii^B对准 器中.下部的半46a可以类似于尖端的销15b,上部V沟槽16b可以类似于V沟橫
使用V沟槽15aJH6b以及圃的尖端的销15b和16a以，^it动对接是已知 的，M在着其他己知的同样有效的运动对接(kinematic dock)设计.本发明 不限于使用V沟槽和圃的尖端的销，而是原則上可以按照所有已知的运动对接设
然后自动操ML^手4:^取面板/框架/模Jl^a件，并将其移动到恰在平 台7之下.#^以的，当城手将面板/框架/^Oa件向上移动时，可以通过将 面相L3中的上部V沟槽16b与平台7中的半球16a啮合在^而获得面fe3相对于平 台7的精确运动位置.在面板3已舰动的与平台7啮合4J&,可以给闩锁9祷 电卡盘17供能，分別舰舌片8夹姊彩以及将舰1拉靠在平台7上.然后自 动K^L^手4可以将面板3向下移动，并将其缩回离开平台7.
运动的对接的闺有属性是它们可以在几个^t之内重复进行，只需J^^初 的对准是在配套醋的捕获范闺(c印ture range)之内.例如，每个半球16a与
部分.如果满足该糾，那么与起初的对不准无关，可以获得同样的i^相对 位置.捕获范围絲于絲崎的尺寸.例如，使用图l-4所示的味尺寸， 容易获得约土l咖的捕获范围.由于该范围大于真空自动装直的一般重复误差， 可以实现所希望的功能性**5.当面板3与平台7运动地啮合时，自动HW^
手4必须M于(X^)平面，从而不至于将自动^MLa手4所建立的运动M强 加在运动的对"^上，而是使得对接配件的相互作用限^t后的l^相当大的 长先低刚性，以^2t^手联动城的自由移动，可以提供所需的少量^UM^
如上所述，本发明的实施方案利用具有准确'l^可重复性的自动^Jt解决 了将框架2从预对准器向平台7准确絲的问泉为了有效絲W卜，从mi被 从预对准^C取的时刻到卡盘17被供能的时刻，粉il必须相对于面;feL3而言确 切的保持絲同的位置上.确保这一点的一个方法是将舰1紧密的装SC^框架 2内，框架定位ge^5a与它们对应的定位Se^5b有非常小的间抹.但是这可能不 是最理想的预期情况，因为紧密装配的零件在择开时容易产生许多顆轼幸运 的先^Ml明的大部分实施方案中，可能不需要紧密的装私因为零件之间 的i^l^足以将它们4foH^M^在逸当的位置.
由于和真空内的电机相关的困艰并且因为抽吸^MM^真空内无法工作， 适用于真空的自动装置可以被设计为它的加i^HSLi^Wi到足以允^用简 单的无源夹具(passive gripper)，这种夹具^0Ui过重力和摩擦力来将晶片保 持在3^上.真空自动装置制造商提供了^Ji无滑动使用的简单的夹具，
因^我们已经側重于^J&的絲准确性问艰本发明的其他实施方案显 示出盖子2如何利于将舰1与平台7相对准.通常如上所迷，iiA^吊抢中的工 具内的皿可以相对于面板具有约l鹏的定位误差以及约l度的取向误差.这些 误差可以减小到;U8Uft^小于约15Mt秒.为了实现这一点，预对准器Xt^&l 与面板3之间的相对对准和定iiii^Pl量和校正AA够的，罔为面板与平台的运 动的对接已经是非常准确的.优选的充不将舰1从框妇JJ^L下而进行再次 对准，从而在^T一个m^面上不会产生^T顆^
在各种实施方案中，賴两件式盖子102简化了将舰1与面板3对准的方 法.自动装置将面板/框架/模^a件送至预对准器，该预对准器装备有一套
岡末端的铕15b.因此iiit将下部的V沟槽15a与圃末端的销15b嗜合，该组件与 预对准器运动Afc^接.罔此面;feL3相对i^l对准器精确的对准和定位.由此为了 将mi与面板3进行精确的定^对准，所需要的^tM:将其相对于预对准器 进行定位和对准.为此首先要测量误差，然后校正误差，
#^本发明的一个实施方案，測量误差的一种方法是^对准器装备采用 摄像机的視觉系统，该系统可以测量在撒改困案中的把与永久罔定于预对准器
的并与18J;Mfe的销M准的把之间的角度和位置误差.由于该困案位于樹U的 底側上，摄脉必须it a面板3,该面;feL^t胁的辦波长下应当是透明的. M—些已知的其他方法能够对位置和角度误差进^-测量，本发明不限于使用
在一个实施方案中，为了校JE^1相对"HS对准器的位置和角度取向， 预对准器可以装备具有X Y, Z种z自由度的精度IMiL器.该预对准器可以具有能 够iiit啮合舌片8而将框妇从下面提升的;Mft手.精度IM^II^首先将框架/ 皿刚好提升离开面板3，然后进行X,Y^ez校艮##框架/^降呔回到面 板3上此时，淑l相对于面;feL3对准，并准备转移至平台7.将框妇相对于面 杉L3重新定位需要在定位ge^5a^5b^间具有充分大的间據.
可以理解，由于已经知道真空自动装罝能够絲物体而不会滑动，因絲 种崎对可以提#^确定位的准确先另外，各种8&#对可以是安全的《^对， 以防止在可由;9Mt或电力iUfc导致自动装里突然的停止情况下发生严重的意外 滑动.在那种情况下，^t失精确的对准，但是各种fie^对会防jb^Q从自动
在用于具有一个长范闺自由度(例如沿着Y轴扫描的)扫描it^系 统的实施方案中，预对准器可能不必沿着与平台7的扫描轴相一致的自由度校正 位置误差.只需测量位置误差，并将其通知至平台控制器，然后该控制器舰 在扫描过程中相应的偏移平台Y位置而净,置误差.
闳此在各实施方案中，各种崎对可以导致只具有一个水平平移自由度 的预对准器中的精度K^器，该自由度在实施例中;uc方向，z^6z方向也同样 需要的.因j^在预对准器中的精度諷器的设计可以针对扫描i^l工具而简 化.
困5表示描ii^发明实施方案的方法500的;錄困.方法500可以是利用两
件式盖子的对准和转移方法，在步彩oi,用面板中的第一套ae^对以及预对准 器中的相应糾对，面板/框架/^&ift件可以被运动Ji^接至预对准器，在 步彩02，测:i^MB对預对准器的位置和角度偏移.在步彩03， #^框架 以对测量的偏移进行校A它将^M8对于面板重新定仗在步鹏04，面板/ 框架/模HlM件it^预对准器中拿礼在步彩05，面板/框架/模Xila件被移 动至平台加栽位置，几乎没有相对滑动.在步恥06,利用面板中的第二套K^
对以及平台中的相应g6ff对，面板/框架/^ya件收动^^接至平台.在
步《507, ^UMS架用内置于平台中的夹持装置(例如分別是静电卡盘和M 闩锁)来闺t在步彩08,除去面板而暴 ^
如前所述，当4EUV工具中处理和对准m时，本发明的实施方案用于显 著J^少顆粒污染的产生，在传统的系统中，不使用盖子，在"^次将^tt^ SMIF吊艙中除去/重ff^JL^该SMIF吊抡中时，在每次将其; ^真空内的库 中iU^其中除去时，在每次将其加栽和卸絲平台处时，都形成/打破了舰 接触.
絲本发明的实施方案，如上和如下所& iiit使用两件式盖子可以对传 统的系鍵ii行iStiiL m和框架之间的接触不会^W打破，因为框架##为与 ^!接触，即^t^咏itit程中也是3W.已经设fe^处理皿的同时在m的
化.通过完全消除在賴工具;形成/打破与舰的接触的需要，与itit^ 手直^ft运^bN比，两件式盖子相对于传统的方法中所教导的一件式盖子有
了明显的i^，而^m的方法仅^^i减少了与m^面直接相关的顆粒产生亊
件的数量.
本发明该实施方案的两件式盖子也可以使用用于和^l接触的柔软材料， 而不必太多顾及该柔软材料的耐用仗因为在原則J^ft免了重复的磨损作用.
和顆粒产生.柔软的材料^如柔软的聚^纷可以易于流动，从而是烦应于而不 ^^伤皿的^Mt抛itlL面.
相反，在不使用两件式盖子和直接利用自动IMMa(t手搬运m的传统系
统中，需要^WL手的接触点上有^材料以使得^t^手具有可接受的耐用仗 一式盖子的接触点的最好的^ti取中间伖因为財一些接触辨，^是 很多.但是通过使用本发明的实施方案的两件iU子，当发生变形而使4f^度 不可接受时，可以进行更换.
本发明实施方案的两件式盖子也易于将皿与平台预对准.i^即使利用 ^MMt的自动装置，可以实5iL^预对准器到平台的精确IU&转移.
本发明的两件iUl子比自动^i!l^i^手更容易的絲清洁.而位于ife^J工 具深处和真空中的自动K^U^手需^A式的维护，所以每次将^^UfcAI工具中弹出来清洁或者更^jl子要方便得多.
本发明对利用SMIF吊抢的示例性光刻fTMJU4行了描迷.这样的描述只A^ 了方4fe^JL而不是絲本发明限制在这些示例性的棘中.事实上，在阅读 了以下的描迷之后，相关领城的技术人员可以理解X^EJ^已知和未iMUfL
的替换^;中实:^^发明.
因此，絲本发明的实施方案，使用一种系齡方法来^^动学J4^舰
与保护盖子对准.逸洋可以在预对准测量和l^至皿平台中iMH^的精确 相对位置关系，由jftift免了将m^^&预对;fui程中在光刻工具中重新进行 城定位.第二，本发明妙了一种硬4t^l接触区域的方法，从而^j5E^yi与 盖子接触的时候产生较少的顆^
围6表示本发明实施方案的两件式盖子102. mi具有能够与框架2中的对 准SC^确对准的i4^601.在一个实施方案中，在mi的ii^601中至少是接 触运动对准giMt602的部分进行倒角.在另一个实施方案中，樹良l的ii4601的 该部分成圃角而不是斜面.在又一个实施方案中，在皿l边角处的^atii^部 分的t表在每个边角中产生球形或者圃环形(toroid)扇区(球形或者圃环形的 八分之一)，然后它与框彩的每个边角中的可适用的对准S&^602iiit^面接 合.用户可以选絲組的舰i^601的哪钟分要被接触，而哪些部分不被 接触.
关于框架2中的对准《^€02,其位置不限于如田6所示的框架的边角.但 是在优逸的实施方案中，这可1^1一摊选的位置.例如，框叙可以在"^HHj 的中部具有对准g5^602.显然，对准K^602的实际形状可以是不同的，以最 好的容纳舰ii^601.例如，在一个实施方案中，对准fi&^602可以是V形橡 沟撒02的每个面603是平的.这种特定的形舰合于容纳在^KJi^601的圃 角.可以理解，在其他实施方案中，如果^^Ji^601是倒角的，它们最好由对 准Se^602中的凹形(而不是平的)沟槽表面^纳.
#4^本发明的一个实施方案，使用对准8&^602可以省略困5中的步fl^03， il^非常有利的，目为会需要相当复杂的预对 M^^Mg^2. ig^t消除了 #叙相对于面;|13重新定位的需要，简化了光刻工具的设计.
困7表示本发明一个实施方案的系统100.框架2可以保持船良1，并通过第 一套运动的对准Si^Mt201a^201b与面^L3运动JW准，类似的，面fe3可以通
过笫二套运动的对准瞎J^02a^202b与自动IMil^Wl手4运动糾准.另外， 可以使用第三套运动对准B6fN203a^203b^面;feL3与真空库架和总的由13表 示的SMIF吊抢^^fei^ftit动对准.
在图7所示的实施方案中，运动eft202a^203b共用同一个沟橡202a^ 沟槽的最里面通过界面连接S02b, 203a^沟槽的最外面通过界面连接至203b. 对于^5域的技^A员来礼很明显该相对位置是可以颠倒的.显然，分开的 沟槽用于实g动配件的每个.
在另一个实施方案中，可以使用一件式盖子.在该实施方案中，框妇可 以闺定于(例如粘结或者由同一块材料制成)面板3，以形成"Hf式盖子.该一 件式盖子4^被除去，以进^ll的ife^瀑光.因此，在该一件式盖子的实施 方案中可能不需^M&件对201一201b.
硬化的舰
已经知逸mi的EUV^^层的特点是易损和柔软的.罔此该涂层在 接触时易于产生顆粒.闳此理想的是具有一个;OJViUt^层的特定区坎它可
以用于由其反射側支撑或者传送mi,为^更硬的衬J^t料将变为不iiy^ 的核是"暴露的"表面，遣憾的晃实际上产生一>^^棵露的 ^衬;1^容 的区域(^是棵点)是非常困难的.产生棵点的一种已知的方法是使用在沉
积^EUV;gJl^层的粒子束我射过WUl它们的掩模.这种方法的一个问^i由于 沉积4程的性质，易于在掩模上形/S^ft的颗粒或者薄片，并在该过程结束除 去掩模的时候会脱^ 一辆械者薄片会^^Lh并将其污染.另一个暴 ^H"底的区域的方法是从设计用于传送的区域中i^在烛刻EUViUt^层.该方
法的问絲1Ht蚀刻过程也易于损if^L的其它区发
看起来^ii过^如本说明书中所述的成圃角的或者倒角的ii^汰可以 解决支撑m的问亂但是实际上并不如^因为EUVA4t^层的自性决定了 空白的村J^Mt涂布之前其姊必须已胁工成IU&的形状，并且由TO积涂 层的栽a程的均匀的、非选棒汰的AiL, iMUfr盖的倒角或者成BI角的i^L "^fe^布有脆的材料.
为了解决上述问艰已经提出用更硬的材^MTEUV贿材料.对狄材 料的通常选棒是沉积^EUV反4Wt料顶部上并被选脊汰蚀刻从而产生或者"写 上"舰图案的EUV峰层.遗憾的是，为了具有iEJ5l的光学特性，该层必须是
非常薄的.在柔4tSJlt材料顶部上的薄的ia4i层^WUftig^触的髙水平应力 下容易破礼可以在峰层顶部上加上一个厚层并对其进行逸棒&烛刻，但是
餘昂贵并且也絲过^i^实.
罔此，需^种能够补ltl4i^"层的固有柔软'脉脈汰，而不需^#盖或 者要除去涂层来产生棵点的ii^也需J^种在所i^触区域中不需^IU也 不用4U附加保护层的方法.
有猜想认为咖>^^层的固有柔软性是由于它的多层性质.*^领*^斤 知，euva4^层迄今为止的"多层结构"或者简单的表示为"多层"可以包括约 100^和硅的交替层，每个成分的^i有几个纳米厚.不论是g是钼通常都 不是柔软的材料.因此絲本发明的实施方案，这些材料扭想的接触点处 可以局部熔融在""^以将柔软的多层结构转变为更硬的匀质的合^t料层. 仅为了方fe^我们将多层局部转变为更硬物质的过^ML为"局部热处理".
在一些实施方案中，不需要完全溶化该多层，以获得理想的狄奴因 为已经知道热导致多层中的每种材糾速的扩衫'J另一种中，由此形Ail均质 的层.即^yL温度低于多层的成分中任一种的熔点的温度也可以发生这种情凡
因jH^显然，也可以采用局部热妙，以iS4ti相扩"lU)t代替熔化而将多层转
变为匀质的层.
在其他实施方案中，外来物质在层上的沉积>扩散可以用于增强该层.罔 A对存在外来物质的接触区坎为使该物质加入该层而进行的局部加热，作
为热处JSit私
图8表示本发明实施方案的方法800的;旅闺.方法800可以用于iait将多 层结构的EUV反^^层进行局部转换而强tt^L中的用于搬运的区礼在步樣 802中，进行用EUV反射多层结构(钼-絲者钼-钌-硅多层，如^J^T技术 中的状态)涂布^gyt村底的操作.在步期04中，对要用于搬运的区域进行局部 的热处理，从而将多层结构的局部热处理部分转变为更强的(更硬、更坚固) 的材料.
在一个实施方案中，可以通过例如有包括M性试剂和催化剂的化学物质 存在情况下将大功率^束聚焦在模版的特定区域中进#鄉04.可以使用其 他类型辐射能量来代替^束.可以使用其他局部加热方法，例如利用射頻电 >^场的感应式加热.
典型的EUV^^村^t料和多层结构自身的催导热性便于专门对所需区域 进行局部的多层转变.可以进行这一点，而不用过于担心在m的有困案场区 内或者附i^意识的改变了该EUVM材料.该多层结构应当保持为完整无缺 的，以##其独特的光学性质.按辨vj5E本说明书中建议的将接触区域iitX4模 版l的边角处使得它们距离该有困案的场区的距离最大化，因此使得对接触区域 局部热处理的影响对于关注的m有困案的场区的光学特征而言最可以忽略 的.
"平的^J1子
图9-ll表示本发明实施方案的皿美子(reticle cover)是902.在预定 时刻可以除去的^AUl子902保护模版(例如掩模Onask))901. ^JJUl^902对 一定的光波长可以是透明的，其包掩支撑垫或者垫邮03;嵌絲904;运动 定位器(例如掩模定位器)905;以;SL孔906.孔906可以用于在盖子902和, 901之间注Aja压气体清扫，该;L^可以包括空气过滤器.可以使用各种材料来 制造垫903和销904，以使它们^MMl者脱离^Xft901的时候不会损if^fe901 或;#^出顆私罔为/j9^&901和嵌4H"的044u'司可能需要一些间味来除去盖 子902, m会相对于盖^902有少量的滑动.对Jti^实施方案的j^bi该盖子 902M是平的.通过采用"平的设计，在清洁过程中会存留更少的液A罔 为没有可以存留波体的絲者;Ue夂闳^盖子902是容易清洁或者是"超净 的(superclean)".在某些实施方案中，在池里对盖子902超声波清洁、溧^ 和离心烘燥清洁.因^与條复杂的盖子由于其自身结构的原因而非常难以 清洁相瓦盖子902非常容易清洁.
双重包套的皿盒(例如皿吊舲)
困12- 13分別表示本发明实施方案的模版盒(reticle bca)或者吊舲 (pod)1250 (以下都称为"吊Jfe")的側視困和分解困.困17显示了示例性吊舱 1250的更多特仏以下将^细描迷.吊歉1250包括可以气密的外盒1252,该 外盒具有一基部1254，基部1254闺定到盖子或者是革1256其可以是通过闩镝(未 显示)而固定的.板1258类似于上面的盖子902,可以^4^是平的，没有^iL者 腔穴，这样减少了顆粒的产生，并使得板1258清洁起来更容易.而且，因为不 需要螺丝等，所以产生的顆粒更少.可以使用顆粒密封装置1260 (例如内部或 者第一包套)来保护皿免受潁粒侵害，并可以使用气体密封m262 (例如
夕HP或者第二包套)来使得该夕J^1252气密封，它保护着内部或者第一包套1263 不受分子污染.当吊抢1250封闭时，顆粒密封装置1260在气体密封装置1262^ 前啮合，并絲吊抢1250打开时在气体密封装置12624U&解开.这与传统的缺 少气体密封M (闳为不^t^真空)和顆粒密封^LJL的系^N瓦
夕峻1252内固定有透气的内J^:1263，它用于防jh^i污染，并具有可拆 卸的部分以便于清先内m263包括圃顶1264 (例如Pyrex逸玻璃圃顶)，它 可以具有与板1266(例如由聚酰亚胺、ESD级聚舰亚Jfe^l鼓^^布有絲 亚胺、ESD级聚StayL辨)耦^薄壁(例如2nn).舰l和mjl子102 (例 如由Pyrex逸玻璃^HN成)iSX^能与自动H^Ml手(未示出)相互作用的内膜盒 1263内.可以使用装置1268 (例如弹黃等)将圃顶1263耦合至革1256,并向内 敝1263^a保持压力，使^L1在传输过程中不絲动.也可以压顆粒密封装 置1260.舰1的表面1302可以狄璃的，镀铬(例:ftpCr^bSL)或者利用其他耐 用材^tat的.在使用过程中，吊舱1250的盖子或者革1256可以除去以拿M JKJ.过滤的舰1304可以将包括在圃顶1264械1266之间的空间与fe^在吊舲 1250内的其它空间相连，允许气体在两个空间之间流动，但是防jlJH粒流动. 过滤的通道1304的示例可以是穿过两顶1264的壁4U有薄膜气^it滤器等的 孔.另一个示例可以是穿舰1258絲烧结的粉末金属气^it^器等的礼可 以理解，可以翻雞的位置和iiSl装置，诚领^^斤已知的.对准装罝1306 可以具有聚酖亚胺涂布的接絲面.
用于制造吊抢1250各部分的Ji^示例材料减少了顆粒的产生.可以理乾 这些材料只是优选的示例，可以使用其他已知的材料.
吊抢1250可以分两个阶段打开，如以下关于系统使用技术所详细描迷的. 首先，軍1256升高预定的高先以打破气体密封装置1262所形成的气絲封. it^M吏得气体'^AJ!)吊抢1250中，并JUR粒随着气^t传输.但是顆粒不会直 接到达舰l.
气体流动通过该过滤的通道1304,将岡顶1264内的压力与外界的压力相平 衡.第二，因为軍1256可以连续的fhfe圃顶1264可以升高离^L1266.在前 述步稞中圃顶1264内的压力已经与外界压力平衡之后，当圃顶1264fj"^离开时 在圃顶1264内或者是外没有明显的气体或者颗粒的流动攀在这些实施方案中， 圃顶1264,板1266或者是这两^^是透气的，插是它们允许气体流动以狄
圃顶1264内外之间产生压力差. 负栽锁(load lock)
图14 - 15分別表示本发明实施方案的负载锁的倒視图和分解视图.在一个 实施方案中，模版1401 (可以在支撑销1404的顶部上)和模版盖子1402设置在 基部1403和圆顶140之间.圆顶除去装置(例如圆顶抬升器)1406包括电机1407、 导螺杆1408以及波欲管(bellow) 1409.负载销也包括用于大气倒和真空倒门阀 的开口1410.所有的上迷部件都设置在底部(例如真空壳)1411和顶部(例如 真空壳顶)1412所形成的封套中.负栽锁还可包括"与吊舱圃顶的开口端一 致的密封M和/或顆粒密封装置，用于防颗粒在圆顶和底座之间流动，负栽 锁还可包括过滤的通道1413 (例如穿过圆顶壁的孔，并J覆盖有薄膜气过滤器)，它使圃顶内的气体压力与圃顶外的气体压力相平衡，还包括用于^l负 栽锁内空气运栽(airborne)或者气M栽(以下都称为空气运载)顆粒的装置 (例斧传感器或者检测器).
通常，负栽锁是非常脏的，主要是罔为密封以对负栽销进行抽空或者iiX 的门阀所致.每^ii行密封或者开启密封时，产生了空气^Ml气体运栽的颗粒， 而且，门阀是复杂的机械组件，具有许多导致移动、磨损和摩擦的辦以 及润滑剂.^W^致污物集絲负栽销的内部.在负栽锁的ii^Ut程中，气体 J"负栽锁并将其压力与大气压力相平衡，导致顆粒产生运动.而且，当抽空 负载锁时，气体流出负载销，导致了顆粒的流动.因此， 根据本发明的实施方 案，通过将模版封装在圆顶和板内，保护微不受顆粒伤害.
模块搬运装置
困16- 17分别表示本发明实施方案的模版搬运核心(reticle handler core)1701和^l搬运系统.^SL搬运系统包括核心环境(例如真空和#^*) 以及大气(空气)环境.核心环^4^位于^&搬运核心1701内.参考困16, ^fl搬运核心1701 模版在真空腔1602内的粉良1601.粉良1601通过可以具有两 M的真空自动装置1603移动通过真空腔1602. 模版核心1701也包括在真空腔 1602和加工腔之间的门阀1604. 模版核心1701还包括具有负栽锁涡轮泵1606和 负栽锁门阀1607的负栽锁1605. 模版 核心1701还包括打开吊抢1609的脱吊舱器 (depodder)1608,负栽锁和脱吊抢器中的开口连接至清洁空气微环境腔1610, 并可以通过微环境自动装置1611而进出.
在IMt过程中，从打开的吊舲1609中iiit^Um自动装置1611除去m (该图中看不见).然后该^Si4过门阀(gate valve) 1607i4X^负栽锁1605 内.抽空负栽锁，利用真空自动装置1603将^k^负栽锁中除去，利用自动装 置1603将衡波1601传输通过真空腔1602，并通过门阀1604Ai^加工腔(困中 W示)内.在加工4U&，真空自动iMU603^h^AUa工腔内通过门阀1604 除去，并通过门岡1607ifcjLj9L负栽锁1605内.然后赠负栽销iiSL 1601 4iiA^Mljm610iL前"至左穿过负栽镝1605. ^Uf^l610可以充有清 洁的过滤和/或者干燥的气体(例如干燥氮气).然后^J^自动装置1611将模 XftA负栽锁中除去，并紅在位于脱吊舦器1608内的打开吊抢1609内.然后该 脱吊舲器关闭吊Jifr.
参考困17， ^X1搬运系统也包括具有用于移动吊搶1703的大气自动装置 1702的空气或者大气g吊舲1703可以存^吊抢M架上，如困所示.一
种自动装置啮合的各部分来搬运吊搶1703.显示为处于上位的吊*,1705 将由辦者紅在输入位置1706的吊抢1703^升到自动装置1702的搬运平面. 或者，可以将吊抢1703由将吊抢1703;M^自动装置1702可以直接到达的位置 1707的架空歸(絲示)传^1^该工具.自动装置1702能够将吊抢1703杜 部升I^jt动器1712、吊抢a架1714、架空位置1707和/或者脱吊舱器1609之 间移动. 一旦吊抢1703;^Xj5L脱吊抢器1609中，^Xt掇絲心1701打开吊歉 1703,并加工该舰1601,如上所t同样，W^1601已^t^工U，模 版搬运核心1701械^Xl再;iUtJL在吊抢1703中，并关闭吊搶1703.因^该
i^^置大气部分之间^3l，j分.
这两个子系^iiitJR吊抢器1609彼jM^对皿1601的搬逸 Jti^t 心1701可以参考困16来描述，但是在田17中也可以看见，它位于大气自动装置 1702之下.为了便于读者确^r向，指出了真空腔1602、 Uf^l610、脱吊 舱器1609以及鄉境自动装置1611.在大气35f^核心棘中都有a能力.
在一些实施方案中，过滤的空气环境也可以包括识别站，用于阅读在吊 抢1703上编码的ID标记，连接至吊抢1703的智能标签等，
在一些实施方案中，气4MW竟可以包^: (a)识别站，用于读出在掩模
上编码的ID标ii; (b)热调整站，用于使得输入掩模的温度与预定的加工温度相 平衡(c)^^^M^J^站，用于;^^在4^模的至少一个表面上的污染物；(d)掩模 清洁站，用于从掩模的至少一个表面上除去表面污染物；和/或(e)掩模定向站, 用于相对于^i^将掩^4行精确的定向.而脉一些实施方案中，^J5f^t用选 自以下的气体进行净^ 包括过滤的干燥空气、合成空气、干燥氮气和干燥 氧气的混合物、和/或干燥氮气或者其他气体.
在一些实施方案中，真空部分包^: (a)识別站，用于读出在掩模上编码 的ID标忠(b〉库(library),用于暂时4±^#至少一个掩模；(c)热调整站，用 于使得输入掩模的温度与预定的加工温度相平衡(d)掩^^验站；(e)用于检 测在掩模的至少一个表面上的污染物；(f)掩模清洁站，用于从掩模的至少一个 表面上除去表面污染物；(g)掩模定向站，用于相对于;^t掩^at行精确的定 向；和/或(h)加工站，用于加工至少一个掩樣在一些实施方案中，加工站用 于利用;5t游掩^4t面上的困案光刻复制到涂有光刻胶的晶片上.在一些实施方 案中，光波长对应于光谱的极紫外(EUV)部分，在10-15纳未之间，优迭在13纳 表
方法
图18表示絲本发明的实施方案用于传榆掩模的方法1800的絲困.在步 壤1802,将掩模的第一部分用可移式顆粒盖子(particle cover)覆盖.M形 成一个暂时的掩模-盖子装置，它保护着第一部分不受空气运栽的顆粒污染. 在步樣1804,将掩模的第二部分留下不夜盖.在步稞1806， #^装置封闭在气 密的盒子内.该盒子可以包括有掩^lt部分和能与该^^^ll部分分开的革， 用于保护掩模不受空气M的^污染.在步驟1806，传输盒子内的装置.
闺19表示根据本发明的实施方案传输、搬运和加工掩模的方法1900的流程 图.在步骤1902，将掩模的第一部分用可移式類粒盖子復盖.这样形成一>^ 时的掩模-盖子装置，以保护第一部分不受空气iS^l的顆粒污染.在步恥904, 将掩模的第二部分留下不覆盖.在步壤1906,将该装置封闭在气密的盒于内. 该盒子可以具有掩模^l部絲能与该掩模絲部分分开的革，用于保护掩模 不受空气运栽的分子污染.
在步骤1908,将带有该装置的盒子传输到加工工具.该加工工具具有以下 每种部件的至少一个，包拾脱吊抢器、^f^、 msfJ^M!l器、负栽锁、
真空腔、真空m器以及掩模线在步稞1910,将包含有该"的盒子絲 脱吊舲器的第一开口上，使得盒子的革防止气^iiil该第一开口而流动.在步 稞1912，用清洁气M化脱吊輪器的内部.在步壤19U，将掩模i^部分和革 分开而打^HS盒子，絲革在原仗用于峰气体流动，将掩模运栽部^* 装置移动到脱吊舱器的内部.在步稞1916，利用^W^^器舰第二脱吊舦 器开口而將装3WUfc吊抢器4^'im^雌内，并絲 舰第一负栽销 开口放到负栽镝内部.在步樣1918,抽空负栽锁.在步壤1920,利用真空IM51 ^# 装置通过第二负栽锁从该负栽销中抽出，并舰装置移动到真空腔内. 在步稞1922, a装X^JL^掩模^^上，使^^模的iMU部分与JU^ 触.在步碟1924,利用该iL^^Tt掩樣在步骤1926,利用真空脾器，将 盖子与掩模分开，取走或者重新定位盖子.在步*1928，加工掩橇
困20表示用于将掩模在负栽锁中从大气压力传输到真空的方法2000的流 程困.在步彩002,将掩^tjt在负栽销内.在步彩004，将掩模用圃顶 , 以防止负栽锁中的空^^的顆树，〗达掩模.在步彩006，关闭负栽锁.在步 彩008,抽空负栽锁.在步彩OIO，打开负栽锁至真空，在步彩012，缩回圃 顶而使^^模不;i!tSLC在步 2014,从负栽锁中移开掩模.
困21表示用于将掩模^负栽销中真空传输到大气压力的方法2100的流 程图.在步彩102,将掩^tjt在负栽销内'在步彩104，将掩模用圃顶4UL 该4LH步彩014用于防止负栽锁中变为空气运栽的顆i^BU&的iiKJMT^^ 骤中到达掩模.在步啦106，关闭负栽锁.在步彩108，对负栽锁进行ii^ 在步彩IIO，将负栽锁的大^打开至大气i^.在步 2112，空气运栽的顆 粒沉降.在步彩114,缩回圃顶而使4l^模不^tiA.在步彩116,从负栽锁 中移开掩樣
闺22表示用于传输、搬錄加工掩模的方法2200的流程闺.在步彩202， 将掩模封闭在一个气密的盒子中，该盒子具有掩模运栽部分以及能与该掩模运 栽部分分开的罩，用于保护^^模不会受到空气运栽的分子的污染.在步 2204, 将包含有该掩模的盒子传^，j加工工具，该工具具有以下每^件中的至少一 种(a〉脱吊抢器；(b)^JEf^; (c)^Um^器；(d)负栽镝；(e〉真空腔；(f〉真 空IM^器以及掩模XJL在步彩206,将包含有该掩模的盒子錄脱吊舦器的 第一开口上，使得盒子的革防止气^^Ui该第一开口而流动.在步彩208，用
清洁气体(例如干燥氛气)剩匕脱吊舲器的内部.在步恥210，将掩模^l部 妙革分开而打賴盒子，絲革在原仗用于f雄气体流动，将掩模运栽部 ^^[掩模移动到脱吊抢器的内部.在步彩212，利用^t^tlM^器，通过第 二脱吊舲器开口而^^掩模^UPt吊舲器4iyM'K8b6f^内，并絲掩模舰第 一负栽销开口放到负栽锁内部.在步彩214，抽空负栽销.在步彩216,利用 真空IM!l^l^掩模通过第二负栽锁开口从该负栽锁中抽出，并絲掩模移动 到真空腔内.在步彩218, ^t掩^tJL在掩模iL^Ji.在步 2220,加工掩 榥
总之，在上述几个实施方案中，模版面临三个环境吊抢环境(例如净化 的干燥气4W^)、脱吊舦器至负栽锁絲(例如真空)、以AA负栽锁至 卡盘g在每个环^it渡中可以将^&封装在一些实施方案中，iiit如下 步骤使用双重包套吊抢，包松打开吊抢，牲脱吊抢器，等待气絲定，打 开膜盒，赠盒中抽出^&和/或盖子.在另一些实施方案中，通过如下步稞使 用带有圃顶的特殊设计的负栽锁，包括将^Xl和/或盖子紅在负栽锁中，用 圃顶4il皿，m以^ft负栽锁，等待气 M定，升高圃顶，将 1^/或盖 子从负栽锁中抽出.在另外的实施方案中，itit4压力过渡中控制气^^者在
上的顆粒沉降:在另外的实施方案中，利用透^JL子采用不it5tlli粒的物理阻 挡件来保护m或者将^11着盖子> ^*在吊抢内，该^M^盖子絲负栽 锁内，盖着盖子进行压力过沈当i4A真空环境中时除去盖子.
通过采用上述实施方案，即使对各种系统和系统的各部4H吏用不理想的材 料，也能减少顆粒的产生.这部分是itit使用保护'眺架、盖子等以及使用了 姊处理策略来实现的.
结论
尽管以上已鄉述了本发明的各实施方案，但是可以理解，这狄一种示 例，而不是对其的限制.相关领城的技仏员可以理解，在不脱离本发明糾 和范围的前提下可以对形式和细节作各种改变.因jH^本发明的范闺应当不限 于上述靴示例性的实施方案，只应当由所附的;M3要絲其等同内容来限t
权利要求
1.一种系统，包括盖子，该盖子保护模版，该盖子包括框架，该框架将该盖子联接到该模版，并且在该框架内容纳该模版的至少一部分，该框架包括对准装置；和可复位的面板，当该模版处于曝光位置时，该可复位面板移动离开该模版，以允许光线在曝光过程中直接到达该模版，该可复位面板包括与该框架上的对准装置相对应的对准装置，其中，该框架在曝光过程中保持联接至该模版。
2. 根据权利要求1所述的系统，还包括联接至该盖子的自动操纵机械手，该自动操纵机械手构造成允许 一自动装置利用该自动操纵机械手来移动该盖子和模版。
3. 根据权利要求2所述的系统，还包括 连接至该自动操纵机械手和盖子的基板。
4. 根据权利要求3所述的系统，还包括 该基板上的对准装置以及该可复位面板上的对应的对准装置。
5. 根据权利要求1所述的系统，其中，该对应的对准装置包括下列 中的一种运动支座，磁体与磁靶，重力依赖装置，和机械紧固件。
6. 根据权利要求4所述的系统，其中，该对应的对准装置包括下列 中的一种运动支座，磁体与磁靶，重力依赖装置，和机械紧固件。
7. 根据权利要求1所述的系统，还包括平台，该平台构造成联接至 该盖子。
8. 根据权利要求7所述的系统，其中，该平台具有连接装置，并且 该框架具有对应的连接装置，使得当该盖子保持该模版时，该盖子可 拆卸地连接至该平台。
9. 根据权利要求8所述的系统，其中，该连接装置是一伸长部和一 接纳装置。
10. 根据权利要求9所述的系统，其中，该接纳装置是弹簧闩锁。
11. 根据权利要求9所述的系统，其中，该伸长部包括电磁体，并 且该接纳装置包括永磁体。
12. 根据权利要求9所述的系统，其中，该接纳装置包括电磁体， 并且该伸长部包括永磁体。
13. 根据权利要求7所述的系统，还包括用于可拆卸地将该框架连 接至该平台的装置。
14. 根据权利要求3所述的系统，还包括用于将该自动操纵机械手与该可复位面板对准的装置。
15. 根据权利要求3所述的系统，还包括用于将该基板与该可复位面板对准的装置。
16. 根据权利要求1所述的系统，还包括预对准装置，在将该模版 传输至平台之前，该预对准装置对该模版进行对准。
17. 根据权利要求16所述的系统，其中 该预对准装置和该框架包括对应的对准装置；和 该框架和该平台包括对应的对准装置。
18. 根据权利要求17所述的系统，其中，所述的对应对准装置是销 与槽。
19. 根据权利要求17所述的系统，其中，所述的对应对准装置是运 动对接装置。
20. 根据权利要求16所述的系统，还包括 用于将该预对准装置与该框架对准的装置；和 用于将该框架与该平台对准的装置。
21. 根据权利要求1所述的系统，还包括吊舱，该吊舱用于将该模 版与该盖子传输通过该系统。
22. 根据权利要求21所述的系统，还包括预对准装置，在将该模版 定位在该吊舱内之前，该预对准装置对该模版进行对准。
23. 根据权利要求1所述的系统，其中，该模版的预定区域被硬化， 以减少该模版被接触时产生的颗粒。
24. 根据权利要求1所述的系统，其中，该模版的预定区域被形成 为具有圆角，以减少该模版被接触时产生的颗粒。
25. 根据权利要求1所述的系统，其中，该模版的预定区域被形成 为具有球形，以减少该模版被接触时产生的颗粒。
26. 根据权利要求1所述的系统，其中，该模版的预定区域被形成 为具有环形，以减少该模版被接触时产生的颗粒。
27. 根据权利要求1所述的系统，其中，该模版的预定区域受到热 处理，以硬化该预定区域，从而减少该模版被接触时产生的颗粒。
28. 根据权利要求1所述的系统，其中，该框架包括模版固定装置， 该模版固定装置将该模版固定至该框架。
29. 根据权利要求1所述的系统，其中，该模版的预定区域被局部 处理，以减少该模版被接触时产生的颗粒。
30. 根据权利要求1所述的系统，其中，用于容纳该至少一部分模 版的一部分框架还用于支撑该至少一部分模版。
31. 根据权利要求30所述的系统，其中，用于容纳并支撑该至少一 部分模版的该部分框架是在内部伸出的凸缘部。
32. —种系统，包括盖子，该盖子保护模版，该盖子包括框架，该框架将该盖子联接到该模版，并且在该框架内容纳 该模版的至少一部分；和可复位的面板，当该模版处于曝光位置时，该可复位面板移 动离开该模版，以允许光线在曝光过程中直接到达该模版，其中，该框架在膝光过程中保持联接至该模版；和 吊舱，该吊舱用于将该模版与该盖子传输通过该系统。
33. —种系统，包括盖子，该盖子保护模版，该盖子包括框架，该框架将该盖子联接到该模版，并且在该框架内容纳 该模版的至少一部分；和可复位的面板，当该模版处于曝光位置时，该可复位面板移 动离开该模版，以允许光线在曝光过程中直接到达该模版，其中，该框架在曝光过程中保持联接至该模版；和 平台，该平台构造成联接至该盖子。
34. 根据权利要求33所述的系统，其中，该平台具有连接装置，并 且该框架具有对应的连接装置，使得当该盖子保持该模版时，该盖子 可拆卸地连接至该平台。
35. 根据权利要求34所述的系统，其中，所述连接装置是互补的。
36. 根据权利要求34所述的系统，其中，该第一和第二连接装置中 的一个包括弹簧闩锁，该第一和第二连接装置中的另一个包括伸长 部。
37. 根据权利要求34所述的系统，其中，该第一和第二连接装置中 的一个包括电磁体，该第一和笫二连接装置中的另一个包括永磁体。
38. —种系统，包括盖子，该盖子保护模版，该盖子包括框架，该框架将该盖子联接到该模版，并且在该框架内容纳 该模版的至少一部分；和可复位的面板，当该模版处于曝光位置时，该可复位面板移 动离开该模版，以允许光线在曝光过程中直接到达该模版，其中，该框架在膝光过程中保持联接至该模版； 其中，用于容纳并支撑该至少一部分模版的部分框架是在内部伸 出的凸缘部。
39. —种模版盒，包括 罩；和基部，该基部构造成在联接至该罩时形成该模版盒，该基部构造成将一模版和一可拆卸颗粒盖子支撑在该模版盒内，其中，该罩和该基部构造成在光刻啄光之前移动离开该模版，并且该可拆卸颗粒盖子构造成在该光刻曝光之前移动离开该模版。
40. 根据权利要求39所述的模版盒，其中，该可拆卸颗粒盖子具有 运动支座，该运动支座联接至该可拆卸颗粒盖子，该运动支座用于相 对于该可拆卸颗粒盖子定位该模版。
41. 根据权利要求40所述的模版盒，其中，该运动支座包括销。
42. 根据权利要求39所述的模版盒，其中，该可拆卸颗粒盖子对至 少一种波长的光是透明的。
43. 根据权利要求39所述的模版盒，其中，该可拆卸颗粒盖子还包 括孔。
44. 根据权利要求43所述的模版盒，其中，该可拆卸颗粒盖子中的 孔还包括气体过滤器。
45. 根据权利要求39所述的模版盒，还包括气体密封装置，该气体密封装置防止该基部与该罩之间的气体流 动；和闩锁，该闩锁可拆卸地将该罩固定至该基部。
46. 根据权利要求45所述的模版盒，还包括顶，该顶基本上防止该模版盒内的颗粒到达该模版；和 颗粒密封装置，该颗粒密封装置基本上防止该顶与该可拆卸颗粒 盖子之间的颗粒流动。
47. 根据权利要求46所述的模版盒，其中，该气体密封装置与该颗 粒密封装置的工作被设置成顺序地工作。
48. 根据权利要求46所述的模版盒，其中，该顶还包括通道，该通道允许气体从在该顶与该可拆卸颗粒盖子之间形成的 密封腔流动到该模版盒的其余内部空间。
49. 根据权利要求39所述的模版盒，其中，该模版由一框架保持， 该框架联接至该可拆卸颗粒盖子。
50. 根据权利要求49所述的模版盒，其中，该框架包括第一固定装 置，该第一固定装置可固定至光刻投影装置的平台。
51. 根据权利要求39所述的模版盒，其中，该模版包括反射型模版。
52. 根据权利要求46所述的模版盒，还包括联接装置，该联接装置用于将该顶联接至该罩，该联接装置包括 至少一个弹簧，在闭合该模版盒的过程中，当该罩接近该基部时，该 弹簧在该颗粒密封装置上施加压力，其中，该颗粒密封装置是可压缩 的。
53. 根据权利要求46所述的模版盒，还包括 联接至该顶内侧的弹簧，该弹簧将该模版压靠在该基部上，以在传送过程中固定该模版。
54. 根据权利要求46所述的模版盒，其中当闭合该模版盒时，在该气体密封装置开始压缩之前，该颗粒密 封装置被至少部分地啮合；和当打开该盒子时，在该颗粒密封装置开始松开之前，该气体密封 装置基本上被解压，并且与该罩和该基部中的至少一个分开。
55. —种系统，包括掩模，该掩模具有前侧和后侧；可拆卸颗粒盖子，该可拆卸颗粒盖子构造成被定位在第一位置和 >第二位置，该可拆卸颗粒盖子在该第一位置基本覆盖该掩模的前侧， 该可拆卸颗粒盖子在该第二位置远离处于曝光位置的掩模，以允许利 用该掩模进行光刻曝光，该可拆卸颗粒盖子包括 板，该板具有面向该掩模的第一侧和背离该掩模的第二侧；框架，该框架包括凸缘，该凸缘在该掩模的前侧的边缘处 支撑该掩模；和运动支架，该运动支架联接至该板，该运动支架从该板的 第一侧伸出并接触该框架。
56. 根据权利要求55所述的系统，其中，该板对至少一种波长的光 是透明的，以允许检查该掩模的第一侧。
57. 根据权利要求55所述的系统，还包括位于该板的笫二侧上的位置定位器，以便于用操纵器精确地保持 该盖子。
58. 根据权利要求55所述的系统，其中，该板还包括至少一个孔。
59. 根据权利要求58所述的系统，其中，该板内的该至少一个孔包 括空气过滤器。
60. 根据权利要求55所述的系统，其中，该框架具有适合于与闩锁 相协作的舌片。
61. 根据权利要求55所述的系统，其中，该框架为矩形并且基本上 绕该掩模的边缘包围该掩模，从而保持该掩模的笫一和第二表面敞 开。
62. 根据权利要求55所述的系统，其中，该框架具有定位配件，该 定位配件接触该掩模，从而相对于该框架定位该掩模。
63. 根据权利要求62所述的系统，其中，该定位配件设于该框架的 至少一个角部。
64. 根据权利要求55所述的系统，其中，该运动支架包括闩锁。
65. 根据权利要求55所述的系统，其中，该运动支架包括设在该板 上的销以及设在该框架内的孔。
66. 根据权利要求55所述的系统，还包括 基本气密的盒子，该盒子承载该掩模。
67. 根据权利要求55所述的系统，其中，该掩模包括反射型掩模， 其前侧具有反射性。
全文摘要
一种用于保护掩模不被空载的颗粒污染的系统和方法。它们包括提供一个固定在两件式盖子中的模版。该两件式盖子包括用于保护颗粒不受污染的可除去保护部分。该盖子可以保持在用于将盖子从大气部分向真空部分传送通过光刻系统的吊舱或者盒子内。在真空部分，在晶片上形成模版上的图案的曝光过程中移动该可除去的盖子。
文档编号G03F1/24GK101105637SQ200710102349
公开日2008年1月16日 申请日期2003年2月21日 优先权日2002年2月22日
发明者乔纳森·H·费罗斯, 伍德罗·J·奥尔松, 圣地亚哥·E·德尔·普埃尔托, 埃里克·R·卢普斯特拉, 安德鲁·马萨尔, 杜安·P·基什, 阿卜杜拉·阿里汗 申请人:Asml控股股份有限公司