选择性修正布局图形的方法

专利名称：选择性修正布局图形的方法
技术领域：
本发明涉及一种修正布局图形的方法。特别是涉及一种选择性修正布 局图形的方法。
背景技术：
在半导体元件的制造过程中，经常会使用到微影(photo lithography)及蚀 刻(etching)等关键技术。微影技术包括将一复杂的集成电路图形转移至一半 导体晶片(晶圓)表面，以供蚀刻、掺杂等步骤所用。这种图形的转移需要极 为准确，要与之前与之后的其他工艺的图案相互对应，进而制造出精密的 集成电路。
但是在微影步骤中，将光罩(reticle)上的标准图形转移至晶片表面时， 经常会产生偏差，进而影响半导体装置的性能。此种偏差与被转移的图形 特性、晶片的外形、所使用的光源种类及种种的工艺参数有关。
其中，对于因为光学近接效应、工艺规则、光学规则等所引起的图形 偏差，已经发展出许多检验、修正与补偿的方法，以改善影像转移后的品 质。例如，已知的方法有光学近接修正(optical proximity correction, OPC)、 工艺规则检验(process rule check, PRC)与光学规则4企验(lithography rule check, LRC)等等，并已有市售光学近接修正软体，以供检测布局图形中的 狭小处(pitch)、桥接处(bridge)、关键尺寸均匀性(CD uniformity)等等问题。 这种光学近接修正软体可以将光罩的标准布局图形经由理论影像校正，而 获得可于晶片上正确曝光的影像图形。这种方法不但能检测布局图形中的 问题，还能经由理论影像校正光罩的布局图形。所得的校正图形若均正确 可用，则予以输出制作光罩，进而获得晶片上正确的影像图形。
然而，以上检验、修正与补偿的方法一般说来都有已经建立好了的标 准处理流程步骤可供参考。例如，现有技术中利用OPC来确认光罩的布局 图形的流程可以是，首先，输入一布局图形。然后对此布局图形进行OPC 的布林(Boolean)预处理，获得初步布局图形。接着，进行OPC,以修正较特殊的图形。然后，个别进行工艺规则检验(process rule check, PRC)与光学 规则检验(mhography rule check, LRC),然后再进行错误过滤及检查。如果， 所得的图形若均正确可用，则予以输出。若有错误，则反复进行整修及检 查，无误后再予以输出。
由此可知，使用光学近接修正模型来校正布局图形，以得到用于制作 光罩的布局图形，并使得这种布局图形的转移更加精确，在半导体元件的 制造过程中是一件至为关键的操作程序。

发明内容
本发明即在于提供一种选择性修正布局图形的方法。在本发明的方法 中，会提供包含至少一第一群组与一第二群组的布局图形，其中第一群组 与第二群组分別包含多个成员。此后再分别针对第 一群组与第二群组中的 所有成员分别进行评估(simulation)程序与修正程序，而使得第 一群组与第二 群组中的所有成员终于分别达成目标(on target)。这种选择性修正布局图 形的方法区别性地对于第 一群组与第二群组进行评估程序与修正程序，可 以提升传统光学近接修正方法的准确度与速度，进而得到适用的布局图形。
本发明选择性修正布局图形(layout pattern)的方法，首先提供第一布 局图形。第一布局图形中包含至少一第一群组(group)与第二群组，而第 一群组与第二群组又分别包含多个成员(members)。其次，分别对第一群 组中的所有成员进行评估(simulation)程序与第 一群组修正程序，进而得到经 修正的第一群组。再来，分别对第二群组中的所有成员进行评估程序与第 二群组修正程序而得到经修正的第二群组。然后，反复确认经修正的第一 群组与经修正的第二群组，直到经修正的第 一群组与经修正的第二群组达 成目标。接着，输出包含达成目标的经修正的第一群组与经修正的第二群 组的一第二布局图形。视情况需要，可以预先确认第一群组与第二群组是 否达成目标(on target)。或是，进一步对未达成目标的第一群组与第二群 组进行优先权筛选(priority selection )程序而得到优先群组(prior group ) 与次要群组(inferior group )。
由于在本发明的方法中，在正式的修正程序前会将多个不同群组分为 第一群组与第二群组，或视情况需要进行优先权筛选程序，所以尔后再分 别针对第 一群组与第二群组中/或优先群组与次要群组中的所有成员分别进行评估程序与修正程序时，能够以区别性(discriminatory)的方式针对第一 群组与第二群组中的所有成员，各别进行独立的评估程序与独立的修正程 序。这样一来，第一群组与第二群组中属性相异的所有成员，可以获得更 适切的评估与修正，以使第 一群组与第二群组中的所有成员早日分别达成 目标。本发明的选择性修正布局图形的方法可以提升传统光学近接修正方 法的准确度与速度，进而得到适用的布局图形。


图1例示本发明选择性修正布局图形方法的主要流程的流程图。
图2例示一任意的布局图形中包含有多个群组与其成员。
图3例示一圆形图案的临界尺寸误差。
图4例示一布局图形的多个形状曝光强度图。
图5例示形状中某一成员的调整方向。
图6A/6B例示本发明选择性修正布局图形的方法，说明源自步骤160 的子步骤。
附图符号说明 200布局图形 210、 211模版 220、 221、 222、 231、 232、 233, 241、 242、 243' 261第一群组 262第二群组 301布局图形 311、 312、 313'
223、 224、 225、 226形状 234边 244段落
314形状
具体实施例方式
本发明关于一种选择性修正布局图形的方法。在正式的修正程序前， 会将多个不同群组分为第 一群组与第二群组，或视情况需要再进行优先权 筛选程序。因故尔后能够以区别性的方式针对第 一群组与第二群组中的所
6有成员进行独立的评估程序与修正程序。在本发明的方法中，优先权筛选 程序会将多个不同群组分为优先群组与次要群组，而使得优先群组与次要 群组中的所有成员终于分别达成目标。这种选择性修正布局图形的方法可 以提升传统光学近接修正方法的准确度与速度，进而得到适用的布局图形。 图1例示本发明选择性修正布局图形方法的主要流程的流程图。本发
明选择性修正布局图形方法100,包含 步骤110:提供第一布局图形；
步骤120:视情况需要，确认第一群组与第二群组是否达成目标；
步骤130:视情况需要，对未达成目标的第一群组与第二群组进行优先 权筛选程序而得到优先群组与次要群组；
步骤140:对第一群组中的所有成员分别进行评估程序与第一群组修正 程序，而得到经修正的第一群组；
步骤150:对第二群组中的所有成员分别进行评估程序与第二群组修正 程序，而得到经修正的第二群组；
步骤160:反复确认经修正的第一群组与经修正的第二群组直到达成目 标；以及
步骤170:输出包含达成目标的经修正的第一群组与经修正的第二群组 的第二布局图形。
首先，在步骤110中，这种第一布局图形可以是一种需要转移的电路 图形，例如静态随机存取记忆体的接触洞图形、介层洞图形、掺杂区、多 晶硅闸极等的任一阶段工艺的布局图形。或者，这种第一布局图形亦可以 是先对 一 初步布局图形先进行 一 传统光学近接修正(optical proximity correction, OPC)后而得到的第一布局图形。在此第一布局图形中，会包含 属性相异的至少一第一群组与第二群组。另外，第一群组与第二群组又会
分别包含多个成员(members )。
以下将举例说明一任意的布局图形中，群组与成员间关系的一较佳实
施例。请参考图2，其例示一任意的第一布局图形中包含有多个群组与其成 员。例如布局图形200可以视情况需要区分为多个模版(templates) 210、 211。各别模版210、 211又由多个形状(shapes) 220、 221、 222、 223、 224、 225、 226所组成。而每个形状220、 221、 222、 223、 224、 225、 226应该 包含至少一个边(edge)。例如，形状221至少包含有代表性边231、 232、233、 234。最好是，不同的边231、 232、 233、 234 4皮此之间形成正交关系 或呈135。角等的夹角。在光学近接修正模型的操作下，每个边231、 232、 233、 234又会视情况需要，区分为段落(segment) 241、 242、 243、 244。 每个4殳落241、 242、 243、 244即被一见为在本发明选择性光学近接修正才莫型 的操作下的最小操作单位。
如图3所示，当不同的边231、 232彼此之间形成正交关系时，就可以 被视为具有不同的群组属性，而彼此平行的边，则可以被视为具有相同的 群组属性。于是不同的边231、 232即可被视为隶属不同的群组，亦即，第 一群组261与第二群组262。于是，边231、 232、 233、 234的所属段落241、 242、 243、 244，即可视为群组的成员271、 272、 273、 274。
换句话说，布局图形200中包含有第一群组261与第二群组262。例如， 第一群组261包含有形状221的成员271、 273,第二群组262则包含有形 状221的成员272、 274。另一方面，在布局图形200中，其他与边232或 231其中一者平行的边便可分类为相同的群组。
由于在将光罩(reticle)上的图形转移至晶片表面的微影步骤时，会因使 用的光源种类、图形特性等工艺参数而产生偏差。例如当使用四极偏轴照 射(QUASAR illumination)等的不对称的光源，将光罩上的标准图形转移 至晶片表面时，同一形状中彼此之间形成正交关系的边232、 231通常会对 相同的四极偏轴照射光反应出不同的敏感度，于是形成不同的结果，例如， 曝光强度不同，例如第一曝光强度/第二曝光强度，或是对比不同，例如第 一对比/第二对比。其中，有一边应该较为每文感，而另一边则相对较冷感， 如图4所示。此时，本发明即是对具有不同每文感属性的边312、 313施以不 同又独立的评估与修正，以区分出不同的评估条件与修正条件。例如，较 敏感群组只需要些许的修正量就能达到明显的修正结果，而较冷感的群组 可能需要更大的修正量才能达到与较敏感群组相同的修正结果。
其次，在步骤120中，视情况需要，本发明会先确认第一布局图形200 中的第一群组261与第二群组262是否达成目标。所谓的r达成目标」根 据不同的光学近接修正要求可能不同。例如，可以为群组是否在可接受的 临界尺寸误差(critical dimension error)范围内。所谓的临界尺寸误差，可 以参考图3的说明。图3中例示一圓形图案，例如一预定的接触洞图形。 期望预定的接触洞图形具有84 (nm) *84 ( nm )的长*宽尺寸。经由光学近
8接修正评估后，此圆形图案会形成89 (nm) *76 ( nm )的长*宽尺寸。因为 长边的绝对值I 76-84 I =8大于短边的绝对值I 89-84 I =5，于是这种圆形 图案的临界尺寸误差取其大者，即视为8nm，接着判断是否在可接受的临 界尺寸误差范围内。
此外，确认第 一群组与第二群组是否达成目标也可以使用其他参数来 进行比对。图4例示一布局图形的多个形状曝光强度图。布局图形301具 有形状311、 312、 313、 314。对比强度=(最大强度-最小强度)/ (最大强 度+最小强度)。例如，形状312与313之间的第一对比强度为0.5476,而 形状313与314之间的第二对比强度为0.3122。此时，所谓的r达成目标J 可以视为此二者的参数，亦即对比强度的差值小于一特定范围，例如小于 1*104。明显的，第一对比强度与第二对比强度的差值为0.2354，没有达成 目标。
若第 一布局图形中的第 一群组与第二群组恰好皆达成目标，就可以直 接输出第一布局图形，因为第一布局图形中的第一群组与第二群组中的所 有成员都符合预定的期望结果。
然而，在大多数的状况下，第一布局图形中的第一群组与第二群组并 非皆能达成目标，此时，视情况需要，准备进入步骤130:对未达成目标的 第 一群组与第二群组进行优先权筛选程序而得到优先群组与次要群组。
值得注意的是，由于直到现在都不知道第 一群组与第二群组的敏感属 性，所以可以对第一群组与第二群组进行优先权筛选程序而将第一群组与 第二群组分成优先群组与次要群组。
如上所述，当使用四极偏轴照射(QUASAR illumination)将光罩上的 标准图形转移至晶片表面时，优先权筛选程序的条件可以是边232、 231 对四极偏轴照射光不同的壽文感度。才艮据边232、 231对四极偏轴照射光的相 对位置差异，其中一个会被判定为「敏感」，而另一个则会被判定为「冷感J。 于是视情况需要，将敏感群组与冷感群组归为优先群组与次要群组。在本 较佳实施例中，敏感群组会属于优先群组，而冷感群组归为次要群组。
又例如图4中，因为第一对比强度为0.5476，大于第二对比强度为 0.3122,所以可以将第一对比强度0.5476归为优先群组，而将第二对比强 度为0.3122归为次要群组。
在决定好了优先群组与次要群组之后，就可以进入步骤140:对优先群组中的所有成员分别进行评估程序与优先群组修正程序，而得到经修正的 优先群组。由于优先群组是经由优先权筛选程序而得到的，所以优先群组 中的所有成员都会具有相同的特定属性。于是对优先群组中的所有成员进 行修正前的评估程序时，在类似的环境下能够得到更加趋于一致的评估结果。
如果不执行步骤120/130,就可以直接进入步骤140:对第一群组中的 所有成员分别进行评估程序与第 一群组修正程序，而得到经修正的第 一群 组。由于第一群组中的所有成员都会具有相同的特定属性。于是对第一群 组中的所有成员进行修正前的评估程序时，在类似的环境下能够得到更加 趋于一致的评估结果。
例如，在图2所示，不同的边232、 231彼此之间形成正交关系。假设 经过了优先权筛选程序而判定边231为「敏感J，边232被判定为「冷感J。 依序前述的分类原则(sorting principle ),将每文感群组，边231归为优先群 组；而冷感群组，边232归为次要群组。于是可以对优先群组(边231)， 亦即第一群组261中的「所有」成员271、 273分别进行评估程序与优先群 组修正程序，通常是评估程序在先，而优先群组修正程序在后。
在评估程序中，将对各别成员271、 273评估出每个成员的「调整方向
(adjusted direction )」以及r修正权数(correction weight) J。 一方面，r调 整方向J可以分为向夕卜(outward)与向内(inward)两种，其由这种成员 的境界(ambit)来决定，向外调整视为面积的增加，而向内调整视为面积 的减少。请参考图5，例示形状221中成员271的调整方向。例如，对于成 员271,只会产生+Y或-Y两种移动方向。于是+Y移动方向在此即对应为
r向外调整方向」，而-Y移动方向在此即对应为「向内调整方向」，因为+Y 移动方向会使得形状221面积增加，-丫移动方向会使得形状221面积减少。 另一方面，当每个成员的r调整方向」都决定好了以后，可以进入下 一阶段来评估每个成员的「修正权数」。修正权数是指在预定的调整方向下 的移动量。移动量的大小关乎每个形状的成员的改变程度以及修正后图形 的轮廓改变程度。值得注意的是，较敏感群组只需要些许的修正量就能达 到修正后图形轮廓的明显改变，而较冷感的群组可能需要更大的修正量才 能达到与较敏感群组相同的轮廓改变程度。在此先假设图5形状221中成 员271经过评估的修正权数量为r AJ。
10在每个成员的「调整方向」以及r修正权数」都决定好了以后，就可 以进入下一阶段来进行优先群组修正程序。在优先群组修正程序中，会依 据评估程序所提出的每个成员的r调整方向」以及「修正权数」，来确定每 个成员的r调整方向」以及r修正量(correction scale ) J。
虽然先前的评估程序中已经提出了每个成员的「调整方向」以及r修 正权数」，但是实际进行每个成员的修正时，视情况需要，每个成员的r修 正量」不一定要等于「修正权数」。在本发明中，「修正量」可为加入折扣 的r修正权数」，称为修正权数的折减(damping )。例如，这种折减(damping ) 可以介于「修正权数」值的0到1之间，较佳为「修正权数」的卯％、 70%、 50%或30%，依照不同的修正图形与不同的光学近接修正模型而定。举例而 言，图5形状221中成员271的实际「修正量」可以为70%A。
经过优先群组修正程序之后便产生了经修正的优先群组，第一布局图 形的原始轮廓也随的改变。优先群组修正程序通常仅修正优先群组的所有 成员，较佳者为不涉及次要群组的任何成员的修正，以避免干扰到属性不 同的次要群组成员。
在完成了优先群组中所有成员的评估程序与优先群组修正程序，而得 到了经修正的优先群组之后，就可以进入步骤150:对次要群组中的所有成 员分别进行评估程序与次要群组修正程序而得到经修正的次要群组。由于 次要群组也是经由优先权筛选程序而得到的，所以次要群组中的所有成员 也都会具有相同的特定属性。于是对次要群组中的所有成员进行修正前的 评估程序时，在类似的环境下能够得到更加趋于一致的评估结果。
如果不执行步骤120/130，就可以直接进入步骤150:对第二群组中的 所有成员分别进行评估程序与第二群组修正程序而得到经修正的第二群 组。由于第二群组中的所有成员也都会具有相同的特定属性。于是对第二 群组中的所有成员进行修正前的评估程序时，在类似的环境下能够得到更 加趋于一致的评估结果。
例如，在图2所示，不同的边231、 232彼此之间形成正交关系。假设 经过了优先权筛选程序而判定边231为「敏感」，边232被判定为「冷感J。 依序前述的分类原则(sorting principle )，冷感群组，即边232归为次要群 组。于是可以对次要群组(亦即第二群组262)中的「所有」成员272、 274 分别进行评估程序与次要群组修正程序，通常是评估程序在先，而次要群组修正程序在后。在如图3所示的接触洞或介层洞这种最简单的图形中、
每一边即是单一成员，此时第一群组261与第二群组262的评估程序与群 组修正程序可以任意择一先进行，较佳是进行优先权筛选程序筛选出敏感 群组，而先进行评估程序与群组修正程序，再进行冷感群组的评估程序与 群组修正程序。
在评估程序中，将对各别成员272、 274评估出每个成员的「调整方向 (adjusted direction )」以及r J'务iE4又凄史(correction weight) J。 4喿作实例可以 参考图5的相关说明。
另一方面，当每个成员的r调整方向」都决定好了以后，可以进入下 一阶段来评估每个成员的r修正权数」。在本发明中，可以参考图5的相关 -说明，「{务正量」可为加入折扣的「^修正;f又数」，称为^f奮正权数的折减 (damping )。侈J^(口，这种4斤)咸(damping)可以介于「 {奮正斗又^ J 4直的0至)J l之间，较佳为r修正权数」的90%、 70%、 50%或30%,依照不同的修正 图形与不同的光学近接修正模型而定。
经过次要群组修正程序之后便产生了经修正的次要群组，第一布局图 形的原始轮廓又继经修正的优先群组后再次改变。次要群组修正程序通常 仅修正次要群组的所有成员，最好为不涉及优先群组的任何成员的修正， 以避免干扰到属性不同的群组成员。如果执行过步骤120/130,在优先群组 与次要群组中的所有成员都进行过评估程序与修正程序而得到经修正的优 先群组与经修正的次要群组后，会再次确认第 一布局图形中的优先群组与 次要群组是否达成目标，也就是要进行步骤160:反复确认经修正的优先群 组与经修正的次要群组直到达成目标。若经修正的第 一布局图形中的优先 群组与次要群组恰好皆达成目标，就可以直接输出此经修正的第 一布局图 形，因为此经修正的第 一布局图形中的优先群组与次要群组中的所有成员 都符合预定的期望结果。
如果不执行步骤120/130,而第一群组与第二群组中的所有成员都进行 过评估程序与修正程序而得到经修正的第 一群组与经修正的第二群组后， 会再次确认第一布局图形中的第一群组与第二群组是否达成目标，也就是 要进行步骤160:反复确认经修正的第一群组与经修正的第二群组直到达成 目标。若经修正的第 一布局图形中的第 一群组与第二群组恰好皆达成目标， 就可以直接输出此经修正的第 一布局图形，因为此经修正的第 一布局图形中的第 一群组与第二群组中的所有成员都符合预定的期望结果。然而，在大多数的状况下，第一布局图形中的第一群组与第二群组虽 然经过了 一次的评估程序与修正程序而得到经修正的第 一群组与经修正的 第二群组后，仍然不都能达成目标，于是，步骤160可以进一步包含以下的子步骤。图6A例示本发明选择性修正布局图形的流程图，说明源自步骤 160的子步骤。例如，可以进行步骤161:分别对经修正的第一群组中的所有成员再次进行评估程序， 而得到第 一群组评估数据；步骤162:基于第一群组评估数据对经修正的第一群组再次进行第一群 组修正程序而得到经修正的第一群组；步骤163:确认修正的第一群组的所有成员是否达成目标；步骤164:分别对经修正的第二群组中的所有成员再次进行评估程序， 而得到第二群组评估数据；步骤165:基于第二群组评估数据对经修正的第二群组再次进行第二群 组修正程序而得到经修正的第二群组；以及步骤166:确认经修正的第二群组的所有成员是否达成目标。亦即，在子步骤161/164中分别准备重新对经修正的第一群组中的所有 成员以及对经修正的第二群组中的所有成员进行评估程序，最好为对经修 正的第 一群组中的所有成员以及对经修正的第二群组中的所有成员独立地 进行评估程序而得到对应的评估数据。然后，在子步骤162/165中，基于这 种评估数据再分别轮流进行第 一群组修正程序与第二群组修正程序，较佳 为独立地进行第一群组修正程序与第二群组修正程序，直到子步骤163/166 经修正的第 一群组以及经修正的第二群组的所有成员皆达成目标。如果独立地进行第一群组以及第二群组的各项工作，步骤160可以3见 为进一步包含以下如图6B所示的的子步骤步骤161，对经修正的第一群组中的所有成员分别进行评估程序与第一群 组修正程序，而再次得到经修正的第一群组。步骤162，对经修正的第二群组中的所有成员分别进行评估程序与第二群 组修正程序，而再次得到经修正的第二群组。换句话说，步骤160通常会重复不只一次，直到经修正的第一群组与 经修正的第二群组全部都达成目标为止。例如，以图4所例示布局图形的形状曝光强度为例，经过步骤160的多次修正后，形状312与313之间的 第一对比强度变为0.42917,而形状313与314之间的第二对比强度变为 0.42911。此时，第一对比强度与第二对比强度的差值为6*10-5,小于预定 的范围，例如1*10-4。明显的，第一对比强度与第二对比强度即可视为达成 目标。视情况需要，可以重复子步骤(161，)与子步骤(162，)多次，直至第一群 组与第二群组恰好皆达成目标。于是可能要执行多次第 一群组与第二群组 的评估程序与修正程序，才终于得到第一布局图形中的第 一群组与第二群 组恰好皆达成目标，称为适用的第二修正图形。于是，原始的第一布局图 形在此时成为适用的第二布局图形，就可以进行步骤170:输出包含达成目 标的经修正的第 一群组与经修正的第二群组的第二布局图形。于是得到所 要的适用的布局图形。以上所述仅为本发明的较佳实施例，凡依本发明的权利要求所做的均 等变化与修饰，皆应属本发明的涵盖范围。1权利要求
1.一种选择性修正一布局图形的方法，包括至少下列步骤提供一第一布局图形，其包含至少一第一群组与一第二群组，其中该第一群组与该第二群组分别包含多个成员；分别对该第一群组中的所有成员进行一评估程序与一第一群组修正程序而得到一经修正的该第一群组；分别对该第二群组中的所有成员进行一评估程序与一第二群组修正程序而得到一经修正的该第二群组；确认经修正的该第一群组与经修正的该第二群组直到达成目标；以及输出包含达成目标的经修正的该第一群组与经修正的该第二群组的一第二布局图形。
2. 如权利要求1的方法，其中该第一群组与该第二群组分别为至少一 几何图形的一第一边与一第二边。
3. 如权利要求2的方法，其中该第一边与该第二边垂直。
4. 如权利要求2的方法，其中该第一边与该第二边呈135°角。
5. 如权利要求1的方法，其中该第一群组与该第二群组分别具有一第 一对比强度与一第二对比强度。
6. 如权利要求l的方法，其中该第一布局图形包含至少一形状。
7. 如权利要求1的方法，其中该第一布局图形选自一接触洞图形与一 介层洞图形所组成的群组。
8. 如权利要求l的方法，还包含确认该第 一群组与该第二群组是否达成目标。
9. 如权利要求8的方法，其中确认该第一群组与该第二群组是否达成 目标的步骤是使用 一参数来进行比对。
10. 如权利要求9的方法，其中该参数包含一曝光强度。
11. 如权利要求1的方法，其中该评估程序是评估该等群组中的各别成 员的 一修正方向与 一修正量。
12. 如权利要求11的方法，其中该第一群组修正程序是决定该修正量 的折减。
13. 如权利要求11的方法，其中该第二群组修正程序是决定该修正量的折减。
14. 如权利要求1的方法，其中该第一群组修正程序是修正该第一群组 的所有该成员。
15. 如权利要求1的方法，其中该第一群组修正程序是不修正该第二群 组的任何该成员。
16. 如权利要求1的方法，其中该第二群组修正程序是修正该第二群组 的所有该成员。
17. 如权利要求1的方法，其中该第二群组修正程序是不修正该第一群 组的^壬何该成员。
18. 如权利要求1的方法，其中确认经修正的该第一群组与经修正的该 第二群组直到达成目标的步骤还包含分别对经修正的该第 一群组中的所有成员进行该评估程序而得到一第 一群组评估数据；基于该第 一群组评估数据对经修正的该第 一群组进行该第 一群组修正 程序而得到经修正的该第 一群组，直到经修正的该第 一群组的所有成员达 成目标；分别对经修正的该第二群组中的所有成员进行该评估程序而得到一第 二群组评估数据；以及基于该第二群组评估数据对经修正的该第二群组进行该第二群组修正 程序而得到经修正的该第二群组，直到经修正的该第二群组的所有成员达 成目标。
19. 如权利要求1的方法，进一步包含对一初步布局图形进行一光学近接修正而得到该第一布局图形。
20. 如权利要求l的方法，进一步包含对该第 一群组与该第二群组进行一优先权筛选程序而得到 一优先群组 与一次要群组。
21. 如权利要求20的方法，其中该优先权筛选程序的步骤是基于一修 正操作的敏感性来进行。
22. 如权利要求20的方法，其中该优先群组为一修正敏感群组，而该 次要群组为一修正冷感群组。
全文摘要
揭示一种选择性修正一布局图形的方法。首先，提供包含至少一第一群组与一第二群组的布局图形，其中第一群组与第二群组分别包含多个成员。其次，分别对第一群组与第二群组中的所有成员进行评估程序与修正程序而得到经修正的第一群组与经修正的第二群组。接着，确认经修正的第一群组与经修正的第二群组直到达成目标。继续，输出包含达成目标的经修正的第一群组与经修正的第二群组的布局图形。
文档编号G03F1/36GK101655662SQ20081014457
公开日2010年2月24日 申请日期2008年8月22日 优先权日2008年8月22日
发明者吴得鸿, 杨春晖, 杨育祥, 郑永丰, 郭士铭, 郭惠芳, 陈伦鸿, 黄湘芸 申请人:联华电子股份有限公司