专利名称：一种改进的阴极光刻版的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种改进的阴极光刻版。
背景技术：
目前，双向电流可控硅已经广泛应用于各类家电(如电风扇、调光灯、空调、洗衣机、彩灯控制器等)和电动工具等。双向可控硅可导通在I、III两个象限。有四种导通状 态，分别为I+、Γ、ΙΙΓ、III+，其对应的触发电流为ICT1、Igt2> IGT3> Igt4O 一般情况下，用双向 可控硅两个触发态，即I+、ΙΙΓ或Γ、ΙΙΓ，特殊情况会用到I+、III+o为了保证双向可控硅 的导通性能，要使其四个导通状态的触发电流ICT1、IGT2> IGT3> Ict4要尽可能的接近。四个导 通状态的触发电流越接近，应用面越广，通用性越强。正常双向可控硅的四种触发电流中， Igti ( Igt2 ( Igt3 ( IGT4。如果Igti与Igt4偏差较大，则Igti过小易误触发，而Igt4又过大而 无法触发。四个象限触发电流均适中的可控硅是最受市场欢迎的。
实用新型内容本实用新型的目的是提供一种改进的阴极光刻版。本实用新型采用的技术方案是一种改进的阴极光刻版，包括正面阴极版和背面阴极版，所述正面阴极版在光刻 可控硅片后产生的图形与背面阴极版在光刻可控硅片后产生的图形在俯视情况下形成有 交叠区，所述交叠区呈钩状。本实用新型的优点是能使可控硅四象限触发电流一致性得到明显提高。
图1为本实用新型的结构示意图。图2为本实用新型另一种结构的示意图。其中1、正面阴极版在光刻可控硅片后产生的图形，2、背面阴极版在光刻可控硅 片后产生的图形，3、交叠区。
具体实施方式
如图1和2所示，本实用新型的一种改进的阴极光刻版，包括正面阴极版和背面阴 极版，正面阴极版在光刻可控硅片后产生的图形1与背面阴极版在光刻可控硅片后产生的 图形2在俯视情况下形成有交叠区3，交叠区3呈钩状。
权利要求一种改进的阴极光刻版，包括正面阴极版和背面阴极版，其特征是所述正面阴极版在光刻可控硅片后产生的图形与背面阴极版在光刻可控硅片后产生的图形在俯视情况下形成有交叠区，所述交叠区呈钩状。
专利摘要本实用新型涉及一种改进的阴极光刻版，包括正面阴极版和背面阴极版，其特征是所述正面阴极版在光刻可控硅片后产生的图形与背面阴极版在光刻可控硅片后产生的图形在俯视情况下形成有交叠区，所述交叠区呈钩状。本实用新型的优点是能使可控硅四象限触发电流一致性得到明显提高。
文档编号G03F1/00GK201765432SQ20102024085
公开日2011年3月16日 申请日期2010年6月28日 优先权日2010年6月28日
发明者周健, 朱法扬, 耿开远 申请人:启东吉莱电子有限公司