背光单元和显示设备的制作方法

专利名称：背光单元和显示设备的制作方法
技术领域：
本发明的示例实施方式涉及背光单元和显示设备。
背景技术：
通常的大 型显示设备包括液晶显示器(IXD)、等离子体显示面板(PDP)等。不同于自发光型rop，IXD需要背光，因为它通常不具有发光装置。

发明内容
技术问题根据光源布置的位置，在IXD中使用的背光单元可以被分类为边缘型背光单元和直入型背光单元。在边缘型背光单元中，光源被布置在IXD面板的左右侧或者上下侧，并且使用导光板来传播从光源发射的光，因此获得光均匀性，并且允许面板变得非常薄。直入型背光单元用于20英寸或者更大的显示器。在直入型背光单元中，多个光源被布置在面板下方并且比边缘型背光单元具有更优异的光效率。因而，直入型背光单元通常用于大规模的显示器。现有的边缘型背光单元或直入型背光单元采用冷阴极荧光灯(CCFL)作为光源。然而，采用CCFL的背光单元缺点在于由于向CCFL恒定供电，大量的功率被消耗，颜色再现范围(即，色域)是CRT的大约70%，并且水银的加入造成环境污染。因而，在解决这些问题的努力中，目前正在积极研究采用发光二极管(LED)的背光单元作为替代。使用LED作为背光单元允许打开和关闭LED阵列中的一部分，并且可以显著减少功率消耗。在RGB LED的情况下，可以获得NTSC (国家电视系统委员会)的100%或者更多的颜色再现范围以提供更生动的图像质量。另外，通过半导体工艺制造的LED对环境危害较少。已经发布了具有上述优点的采用LED作为背光单元的一些IXD产品，但是因为它们的驱动机制不同于已有的CCFL光源的驱动机制，用于这种产品的驱动器、PCB等昂贵并且可能不具有成本优势。因而，现有的LED背光单元仅仅用于高价格的LCD产品。技术方案本发明的示例实施方式提供一种背光单元和显示设备。本发明的实施方式提供一种光产生装置，该光产生装置包括一个或者更多个光源装置，每一个光源装置包括诸如LED这样的发光单元，该光产生装置可以在背光单元或者其它设备中使用，并且解决背景技术相关的限制和缺点。根据一个实施方式，本发明提供一种光产生装置，所述光产生装置包括第一层；被布置在所述第一层上并且被配置为发射光的多个光源装置，所述光源装置中的至少一个包括用于产生光的发光二极管；覆盖所述光源装置的第二层；以及被布置在所述第二层上并且被配置为选择性地透射从所述光源装置发射的光的第一光屏蔽层和第二光屏蔽层，所述第一光屏蔽层和所述第二光屏蔽层由不同材料组成，所述第一光屏蔽层和所述第二光屏蔽层被布置为对应于所述光源装置。根据一个实施方式，本发明提供一种光产生装置，所述光产生装置包括第一层；被布置在所述第一层上并且被配置为发射光的多个光源装置，所述光源装置中的至少一个包括用于产生光的发光二极管；覆盖所述光源装置的第二层；以及被布置在所述第二层上并且被配置为选择性地透射从所述光源装置发射的光的光屏蔽层，所述光屏蔽层包括多个孔，其中，所述光屏蔽层的所述孔的宽度在光发射方向上增大。根据一个实施方式，本发明提供一种光产生装置，所述光产生装置包括第一层；被布置在所述第一层上并且被配置为发射光的多个光源装置，所述光源装置中的至少一个包括用于产生光的发光二极管；覆盖所述光源装置的第二层；以及被布置在所述第二层上并且被配置为选择性地透射从所述光源装置发射的光的光屏蔽层，所述光屏蔽层包括多个通孔。本发明的有益效果
根据示例性实施方式的背光单元和显示设备能够减小从与光源相邻的区域发射的光的亮度，因而用于允许从背光单元向显示设备的显示面板发射均匀亮度的光。


图I和图2例示根据本发明的示例性实施方式的背光单元的示例。图3到图5例示根据本发明的示例性实施方式的光屏蔽层的位置的各个示例。图6和图7例示根据本发明的实施方式的光屏蔽层的光透射率根据背光单元的光源的排布的分布；图8是示出根据本发明的实施方式的光屏蔽层的光透射率根据相邻的光源之间的距离的示例的图；图9和图10分别是示出根据本发明的实施方式的具有一层结构的光屏蔽层的光透射率的平面图和截面图；图11和图12分别是示出根据本发明的实施方式的具有两层结构的光屏蔽层的光透射率的平面图和截面图；图13和图14分别是示出根据本发明的实施方式的具有三层结构的光屏蔽层的光透射率的平面图和截面图；图15到图19是示出根据本发明的实施方式的包括具有三层结构的光屏蔽层的背光单元的示例的截面图；图20是示出根据本发明的实施方式的制造包括具有三层结构的光屏蔽层的背光单元的方法的顺序处理的截面图；图21是根据本发明的实施方式的通过数字表示说明根据光屏蔽层的光屏蔽图案的光透射率的图；图22和图23例示根据本发明的实施方式的具有光屏蔽图案的光屏蔽层的示例；图24到图26例示根据本发明的第一示例性实施方式的具有光屏蔽层的背光单元的示例；图27和图28例示形成在根据本发明的第一示例性实施方式的光屏蔽层上的孔或者凹陷的示例；
图29例示根据本发明的第二示例性实施方式的具有光屏蔽层的背光单元；图30和图31例示形成在根据本发明的第二示例性实施方式的光屏蔽层上的孔或者凹陷 的示例；图32到图34例示根据本发明的第三示例性实施方式的具有光屏蔽层的背光单元;图35到图37例示根据本发明的第四示例性实施方式的具有光屏蔽层的背光单元;图38到图40例示根据本发明的第五示例性实施方式的具有光屏蔽层的背光单元;图41和图42例示根据本发明的第六示例性实施方式的具有光屏蔽层的背光单元的示例；图43到图45是示出根据本发明的第一示例性实施方式的用于制造光屏蔽层的方法的顺序处理的截面图；图46到图48是示出根据本发明的第二示例性实施方式的用于制造光屏蔽层的方法的顺序处理的截面图；图49到图51是示出根据本发明的第三示例性实施方式的用于制造光屏蔽层的方法的顺序处理的截面图；图52例示包括根据本发明的示例性实施方式的背光单元的显示模块的示例；以及图53和图54例示包括根据本发明的示例性实施方式的背光单元的显示设备的示例。
具体实施例方式图I和图2例示根据本发明的示例性实施方式的背光单元的示例。具体地，图I例不具有可以在边缘型或者直入型光学系统中使用的在横向方向发射光的光源220的背光单元，图2例示具有可以在边缘型或者直入型光学系统中使用的竖直地发射光的光源220的背光单元。如图I和图2所示，背光单元200可以包括第一层210、光源220、第二层230、反射层240和光屏蔽层250。这里，在第一层210上形成有多个光源220，并且第二层230被布置在第一层210的上面以覆盖所述多个光源220。例如，第二层230包裹(例如，完全覆盖)布置在第一层210上的光源220。第一层210可以是其上安装或者形成了所述多个光源220的板(或者基板)，并且可以在第一层210上形成电极图案以将用于供电的适配器和光源220相连接。例如，可以在基板的上表面上形成用于将光源220和适配器相连接的碳纳米管(CNT)电极图案。第一层210可以是由聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、玻璃、聚碳酸酯(PC)、硅(Si)等制成的PCB，之上安装或者设置有所述多个光源220。第一层210可以以膜的形式形成。光源220可以是发光二极管(LED)芯片和包括至少一个LED芯片的LED封装体中的一种。
在本示例性实施方式中，将描述光源220是LED封装体的情况。根据光发射表面指向的方向，组成光源220的LED封装体可以被分类为顶视型LED封装体和侧视型LED封装体。图I例示侧视型LED封装体，其中光发射表面形成为指向侧面，图2例示顶视型LED封装体，其中光发射表面形成为指向上面。可以通过使用侧视型光源和顶视型光源中的至少一种来构建根据本发明的示例性实施方式的光源。例如，在一个背光单元中，可以全部使用侧视型光源，可以全部使用顶视型光源，或者可以使用侧视型光源和顶视型光源的组合。在本发明的示例性实施方式中，在具有侧视型光源220的LED封装体的情况下，如图I所示，所述多个光源220中的至少一个的光发射表面被布置在侧面并且所述多个光源220可以向侧方向，即，在第一层210或者反射层240延伸的方向上发射光。在具有顶视型光源220的LED封装体的情况下，如图2所示，所述多个光源220中 的至少一个的光发射表面被布置在上面并且所述多个光源220可以向向上方向，S卩，在第二层230和光屏蔽层250的方向上发射光。光源220可以是发射红色、蓝色、绿色中的至少一种颜色的彩色LED，或者是白色LED。彩色LED可以包括红光LED、蓝光LED和绿光LED中的至少一种。LED的布置和发光可以不同地修改以可应用。被布置在第一层210上并且覆盖所述多个光源220的第二层230可以允许从光源220发射的光透射穿过并且扩展该光，因而从光源220发射的光可以均匀照射到例如如图52所示的显示面板100上。在第一层210上可以设置有用于反射从光源220发射的光的反射层240。反射层240可以形成在第一层210中的与形成光源220的区域不同的区域中。例如，反射层240可以完全包围第一层210上的光源220。反射层240可以反射从光源220发射的光并且再次反射从第二层230的边界(全)反射的光以将光较宽地展开。反射层240可以包含金属或者金属氧化物中的至少一种的反射材料。例如，反射层240可以由诸如铝(Al)、银(Ag)、金(Au)和二氧化钛(TiO2)这样的具有高反射率的金属或者金属氧化物制成。在此情况下，可以通过在第一层210上沉积或者涂敷该金属或者金属氧化物或者在第一层210上印刷金属墨水来形成反射层240。在此，可以使用诸如热沉积法、蒸发法或者溅射法这样的真空沉积法作为沉积方法，并且可以使用印刷法、凹板涂敷法或者丝网印刷法作为涂敷或者印刷方法。被设置在第一层210上的第二层230可以由光透射材料(例如，硅或者丙烯酸树脂制成)。然而，第二层230不限于此，并且可以由各种其它树脂制成。为了当从光源220发射的光展开时使背光单元200具有均匀亮度，第二层230可以由具有约I. 4到I. 6的折射率的树脂制成。例如，第二层230可以由从以下构成的组选择的材料制成聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚碳酸酯(PC)、聚丙烯(PP)、聚乙烯(PE)、聚苯乙烯(PS)、聚环氧(PE)、娃、丙烯酸等。第二层230可以包括具有粘接属性的聚合物树脂，以牢固并且紧密地附接到光源220和反射层240。例如，第二层230可以由丙烯酰类、聚氨酯类、环氧类和三聚氰胺类如不饱和聚酯、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸异丁酯、甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸正丁基甲酯、丙烯酸、甲基丙烯酸、甲基丙烯酸羟基乙基酯、甲基丙烯酸羟基丙基酯、丙烯酸羟基乙酯、丙烯酰胺、羟甲基丙烯酰胺、甲基丙烯酸缩水甘油酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸异丁酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸-2-乙基己基酯等聚合物、共聚物或三元共聚物制成。可以通过在形成了所述多个光源220和反射层240的第一层210上涂敷液相或者胶体相树脂接着硬化该树脂来形成第二层230。另选地，可以通过在支撑片上涂敷树脂，将其部分地硬化接着将其接合到第一层210来形成第二层230。第二层230可以用作用于引导从光源220发射的光的导光板。随后,光屏蔽层250降低从与光源220相邻的区域发射的光的亮度，因而用于允许从背光单元200向显示设备的显示面板发射均匀亮度的光。也就是说，光屏蔽层在本说明书讨论的本实施方式中或者其它实施方式中可以完全反射光从而光被屏蔽层阻挡，或者可以部分地透射光并且部分地反射光。因此，随着背光单元200趋于变得更薄，并且在此情况下，背光单元200的厚度的 减少可能导致光均匀性的劣化。为了解决这个问题，设置了光屏蔽层250。在背光单元200中，与光源220的光发射表面相邻的区域最亮，而远离光源220的光发射表面的区域较不亮。因而，光屏蔽层250可以被制造为其光透射率随着远离光源220的光发射表面而增加。S卩，光屏蔽层250在其整个区域上不具有相同的光透射率，而是可以在每一个区域处具有不同的光透射率。例如，接近光源220的光发射表面的区域具有低的光透射率，而远离光源220的光发射表面的区域具有高的光透射率。另外，在透射彩色光方面，用于光屏蔽层250的材料的透射光谱特性可以不是均匀的，可能使颜色均匀性劣化。然而，在此情况下，如果光屏蔽层的光透射率被调整为增加以使透射的光的颜色变化最小化，则可能出现光屏蔽能力可能劣化的其它问题。因而在本发明的实施方式中，考虑到这些限制，在光屏蔽层250的制造中，可以附加地形成适当的光屏蔽图案。根据本发明的示例性实施方式的光屏蔽层250可以形成为各个区域具有不同光透射率的单层，或者可以形成为多个层。另外，光屏蔽层250可以具有包括多个孔或者多个凹陷中的至少一种的光屏蔽图案。在此，对于孔和凹陷中的至少一种，相邻的孔之间的距离、相邻的凹陷之间的距离、或者相邻的孔和凹陷之间的距离可以随着远离光源220的光发射表面而减小。光屏蔽层250的光屏蔽图案的宽度可以是相等的，或者可以随着远离光源220的光发射表面而逐渐减小。光屏蔽层250的厚度可以是相等的，或者可以随着远离光源220的光发射表面而逐渐减小。光屏蔽层250可以由金属、Ti02、CaCOJP ZnO中的至少一种形成。图3到图5例示根据本发明的示例性实施方式的背光单元中的光屏蔽层的位置的各个示例。光屏蔽层250可以被形成为被直接支撑在由光透射材料制成的第二层230上或者如图I和图2所示，与第二层230的上表面接触，或者可以形成在扩散层260下方。例如，扩散层260可以形成在光屏蔽层250上以允许光向上展开，并且在此情况下，扩散层260可以被直接接合到光屏蔽层250或者可以使用粘接构件接合。在此，扩散层260可以用于通过防止来自光屏蔽层250的光部分地集中来展开入射光，因而使光亮度更均匀。如图4所示，光屏蔽层250可以与光透射材料制成的第二层230隔开，而在它们之间夹着充有空气或者气体的特定空间，并且如图5所示，光屏蔽层250和第二层230之间可以附加地形成有缓冲层280。
在此，该缓冲层280可以是图3中的扩散层260，或者可以由具有与第二层230的折射率不同的折射率的材料制成。另外，缓冲层280可以是用于提高光屏蔽层250和第二层230之间的粘接强度的粘接剂，或者可以是当制造光屏蔽层250的光屏蔽图案时留下的吸热层。图6和图7例示光屏蔽层的光透射率根据背光单元的光源的排布的分布。具体地，图6例示背光单元的光源的排列结构，并且图7例示形成在图6的光源的上部的光屏蔽层的光透射率的分布。如图6所示，所述多个光源220被布置在第一层210上。相邻的光源可以被排列为在彼此平行的相同行上或被以交叉方式排列。在此，光源220的光发射表面可以被布置为指向相同方向。这种在不同的相邻的行上的光源220可以被排列为彼此平行或者可以被以交叉方式排列。在此，被设置在相同行上的光源220的光发射表面可以指向相同方向，并且被设置在相邻的不同行上的光源220可以被布置为光发射表面指向相反方向。例如，沿着第一行排列的光源220可以在第一光发射方向上发射光，并且沿着第一行下方的第二行排列的光源220可以在与第一光发射方向不同或者与之相反的第二光发射方向上发射光。在一个示例中，图7示出当光屏蔽层250形成在排列的多个光源220的上面时的光发射的分布。如图7所示，假定光屏蔽层250的上表面区域中最接近光源220的光发射表面的区域是第一区域300a，距光源220的光发射表面最远的区域是第三区域300c，并且被设置在第一区域300a和第三区域300c之间的区域是第二区域300b。在此情况下，第一区域300a具有最低的光透射率，第三区域300c具有最高的光透射率，并且第二区域300b具有中间的光透射率或者在第一区域300a的光透射率和第三区域300c的光透射率之间的其它光透射率。例如，因为与光源220的光发射表面最接近的区域的光透射率是最低的，并且距光源220的光发射表面最远的区域的光透射率是最高的，光的量可以被调整为总体上具有均匀光透射程度。图8是示出背光单元的光屏蔽层的根据相邻的光源之间的距离的光透射率的图。如图8所示，应注意的是随着离光源220的光发射表面越远，光屏蔽层的光透射率逐渐增力口。即，在本发明的示例性实施方式中，光屏蔽层可以被制造为具有如图8所示的光透射率。在此，可以基于以下公式调整光屏蔽层的光透射率。光透射率T (X) =I0*e_a (L-χ) η在以上公式中，IO是光源的强度，“L”是相邻的光源220之间的间隔距离，“X”是光源的光发射表面和光透射率测量区域之间的距离，并且“a”和“η”是系数。按此方式，相邻的光源之间的光屏蔽层的区域可以具有不同的光透射率，并且不同的光透射率还可以依赖于诸如光源的数量、光源的基准亮度和光源之间的间隔这样的光学设计条件而改变。 因而，在本发明的示例性实施方式中，基于公式光透射率T (X) =I0*e-a (L-χ) η,针对光屏蔽层的各个区域设定不同的光透射率，并且可以根据所设定的光透射率制造光屏蔽层。
即，在光屏蔽层的制造中，设定光屏蔽层的光透射率的顺序为以下所述。首先，测量光学设计条件，诸如，光源的数量、光源的基准亮度、光源之间的间隔等。接着，使用公式T(x)=I0*e-a(L_x)n确定光屏蔽层的各个区域的光透射率。再接着，根据所确定的光透射率，将光屏蔽层的厚度、光屏蔽层的材料和光屏蔽层的光屏蔽图案的形状考虑在内来制造光屏蔽层。图9到图14例示根据本发明的实施方式的光屏蔽层的根据厚度的光透射率。图9和图10分别是示出具有一层结构的光屏蔽层的光透射率的平面图和截面图；图11和图12分别是示出具有二层结构的光屏蔽层的光透射率的平面图和截面图；图13和图14分别是示出具有三层结构的光屏蔽层的光透射率的平面图和截面图。如图9和图10所示，形成一层结构的光屏蔽层250a的最接近光源220的区域具有最高的光透射率。如图11和图12所示，随着形成二层结构的光屏蔽层250a和250b的厚度增加，相同区域的光透射率降低了一些。如图13和图14所示，在形成三层结构的光屏蔽层250a、250b和250c的相同区域处的光透射率更低。因而，因为光透射率根据光屏蔽层的厚度改变，所以可以通过调整光屏蔽层的厚度形成光屏蔽图案以获得有效的光透射率的分布。在光屏蔽层中，接近光源的区域需要具有较低的光透射率并且在该区域透射光的颜色变化率必须被最小化，而远离光源的区域需要相对高的光透射率。为了实现具有这种光透射率分布的光屏蔽层，光屏蔽层的厚度的调整以及特定形状的光屏蔽图案是关键因素。因而，在根据本发明的示例性实施方式的光屏蔽层的制造中，可以通过使用光屏蔽层的厚度以及光屏蔽图案的形式来调整其光透射率。本发明的实施方式图15到图19分别是示出根据本发明的实施方式的具有三层结构的光屏蔽层的光透射率的平面图和截面图。如图15所示，多个光屏蔽层250可以被设置在包括光源220的背光单元200的第二层230上。更具体地，所述多个光屏蔽层250可以形成在第二层230上，从而光屏蔽层250对应于布置光源220的位置。光屏蔽层250可以包括第一光屏蔽层250a、第二光屏蔽层250b和第三光屏蔽层250c。例如，光屏蔽层250可以形成在第二层230上，从而第一光屏蔽层250a被设置为与第二层230接触,第二光屏蔽层250b被设置在第一光屏蔽层250a上(或者与第一光屏蔽层250a接触)，并且第三光屏蔽层250c被设置在第二光屏蔽层250b上(或者与第二光屏蔽层250b接触)。第一光屏蔽层250a和 第三光屏蔽层250c可以是用于屏蔽从光源220发射的光的至少一部分的光屏蔽层。第二光屏蔽层250b可以是用于屏蔽从光源220发射的光的至少一部分的反射层。因为光屏蔽层250形成在第二层230上，所以可以减少从与光源220相邻的区域发射的光的亮度，相应地，可以从背光单元200发射均匀亮度的光。例如，光屏蔽层250形成在第二层230上从而光屏蔽层250对应于布置多个光源220的位置，以选择性地屏蔽或者反射从光源220向上发射的光以减小从与光源220相邻的区域发射的光的亮度。并且在此情况下，经反射的光可以扩展到侧面或者在向下方向扩展。例如，光屏蔽层250的中部被选择性地设置为与光源220的中部对准或者大致对准，或者光屏蔽层250被选择性地设置为总体上对应于光源220。可以通过沉积或者涂敷金属氧化物来形成上述光屏蔽层250。另选地，可以通过根据预定图案来印刷包含金属氧化物的墨水(例如金属氧化物墨水)来形成光屏蔽层250。具体地，该金属氧化物墨水可以是白颜色墨水。在此，为了改进第一光屏蔽层250a和第三光屏蔽层250c的光屏蔽效果,第一光屏蔽层250a和第三光屏蔽层250c可以具有高亮度的颜色，例如，接近于白色的颜色。按此方式，根据本发明的示例性实施方式的光屏蔽层250用于屏蔽或者反射从光源220发射的光，以使背光单元的亮度均匀。图16例示从光源220发射的光的路径的示例。如图16所示，从光源220沿相对于第一层210的水平方向即x轴方向发射的光①可以向相邻光源220行进并且被相邻光源220反射。从光源220沿反射层240的方向发射的光②可以被反射层240反射，接着被第一光屏蔽层250a反射以行进到第二层230的内部。另外，从光源220沿向上方向发射的光③可以透射穿过第二层230以被第二光屏蔽层250b反射以向上行进。从光源220沿向上方向发射的光④可以被布置在光源220 (从其发射光)上的第一光屏蔽层250a反射，以向反射层240行进，接着再次被反射层240反射以向外行进。从光源220沿向上方向发射的光⑤可以透射穿过布置在光源220上的第一光屏蔽层250a并且被第二光屏蔽层250b反射以向外行进。S卩，光屏蔽层250可以反射从第一光屏蔽层250a到第三光屏蔽层250c入射的光或者可以反射入射光的一部分并且允许入射光的一部分透射穿过。可以通过控制光透射穿过第二层230来调整光屏蔽层250的特性。因此，从光源220发射的光可以在横向和其它方向上被较宽地反射以展开，而不是集中在上面，因而可以通过使用背光单元实现均匀亮度。如图15所不,光屏蔽层250的第一光屏蔽层250a、第二光屏蔽层250b和第三光屏蔽层250c可以具有相同大小和/或形状。在此，大小是指在第一光屏蔽层250a、第二光屏蔽层250b和第三光屏蔽层250c的平面上的面积。在一个不例中，具有相同大小和形状的第一光屏蔽层250a、第二光屏蔽层250b和第三光屏蔽层250c被顺序地叠置在第二层230上。另外，上述光屏蔽层250可以被设置为光屏蔽层250的中心对应于光源220的中心。光屏蔽层250可以被形成为整体上覆盖被设置在光屏蔽层250下方的光源220。从光源220发射的光在光源220的光发射表面221处具有最高亮度，从而光屏蔽层250被设置在光源220的光发射表面221上以减少光源220的光发射表面221处的亮度。另外，因为每一个光源220向相邻的光源220发射光，所以到达光源220的后表面222的光被与光源220相邻的光源或者反射层240反射，因而防止光源220的后表面222处的亮度增加。因而，光屏蔽层250可以被设置为完全覆盖光发射表面221和光源220的后表面222。另选地,光屏蔽层250可以被设置在斜面上朝着光从光源220发射的方向以减小光源 220的光发射表面221处的亮度。如图17所不,光屏蔽层250可以被设置为光屏蔽层250的中心与光源220的光发射表面221的延长线(L) 一致(或者对准)。S卩，与图15所示的光屏蔽层250相比，图17例不的光屏蔽层250被设置为更向光源220的光发射表面221偏心。如图18所不,光屏蔽层250可以被设置为光屏蔽层250的中心在光从光源220发射的方向上从光源220的光发射表面的延长线(L)移位特定距离。即，图18例示的光屏蔽层比图17例不的光屏蔽层向着从光源220发射光的方向(光发射方向)更加偏心。如图19所不,光屏蔽层250可以被设置为光屏蔽层250的端部与光源220的光发射表面221的延长线(L) 一致(或者对准)。即，图19例示的光屏蔽层比图18例示的光屏蔽层向着从光源220发射光的方向又更偏心。S卩，光屏蔽层250可以减小与光源220的光发射表面221相邻的区域的亮度，因而提高背光单元的亮度的均匀性。上述具有三层结构的光屏蔽层可以形成在透明膜上以被设置在背光单元中。图20是示出根据本发明的实施方式的制造包括具有三层结构的光屏蔽层的背光单元的方法的顺序处理的截面图。如图20所示将描述制造光屏蔽层250的方法。如图20 (a)所示,通过沉积、印刷或者涂敷法在透明膜270上形成第三光屏蔽层250c，在第三光屏蔽层250c上形成小于第三光屏蔽层250c的第二光屏蔽层250b,并且在第二光屏蔽层250b上形成第一光屏蔽层250a,使得第一光屏蔽层250a包裹第二光屏蔽层250b。例如,第二光屏蔽层250b被第一光屏蔽层250a和第三光屏蔽层250c包裹。如图20 (b)所示，将光源220和光屏蔽层250对准，从而它们在它们的位置彼此对应，并且将之上形成了光屏蔽层250的透明膜270附接到第二层230，以形成如图20 (c)所示的背光单元。在此，光源220和光屏蔽层250可以彼此对应，如图15-图19所示。以上讨论的背光单兀包括形成在第二层230上的第一光屏蔽层250a和被第三光屏蔽层250c覆盖的第二光屏蔽层250b。第三光屏蔽层250c可以被设置在第二光屏蔽层250b和第一光屏蔽层250a上。透明膜270可以保留或者可以之后被去除。如图20 (C)所不,第一光屏蔽层250a的特定边缘不与第二层230接触,而第一光屏蔽层250a的其它部分根据施加到透明膜270的压力的程度与第二层230接触。此外，在本示例中，光屏蔽层250的中部可以与对应的光源220的光发射表面221对准或者大致对准。组成光屏蔽层的各个层(例如，二个或者更多个层)可以由不同材料制成，或者可以由相同材料制成。图21是根据本发明的实施方式的通过数字表示说明根据背光单元中的光屏蔽层的光屏蔽图案的光透射率的图。如图21所示，当两个相邻的光源220之间的区域被划分为10个区段时，每个区段可以包括具有根据预定的光透射率的特定形状的光屏蔽图案。当10个区段中的一个是图案单元时，图案单元可以具有称为“A”的区域。具有区域“A”的图案单元可以是其中形成了孔的开口区域(Aopen)或者是具有光屏蔽图案的图案区域(Apatterned)。因而，如果具有区域“A”的图案单元不包括光屏蔽图案，则对应区域的光透射率是 T(x)= “A” 的开口区域(Aopen)/ “A” 的整个区域(Acell)。具有区域“A”的图案单元可以包括没有光屏蔽图案的开口区域(Aopen)和具有光屏蔽图案的图案区域(Apatterned)。在此,具有光屏蔽图案的图案区域(Apatterned)可以被设置在区域“A”的中心部分或者边缘。当具有光屏蔽图案的图案区域(Apatterned)的图案透射率是Tpattern时,具有带有光屏蔽图案的区域“A”的图案单元的光透射率是T(X)= “A”的开口区域(Aopen)/ “A”的整个区域(Acell)+{ “A”的图案区域(Aclosed)*图案透射率(Tpattern)/ “A”的整个区域(Acell) }。因而，当在光屏蔽层上形成光屏蔽图案时，可以通过使用上述等式调整光透射率。S卩，当制造光屏蔽层的光屏蔽图案时，可按照以下顺序设定光屏蔽层的光透射率。首先，因为光屏蔽层的每一个区域的光透射率是预先设定的，所以搜索以确定要形成光屏蔽图案的区域的光透射率。接着，使用根据预先设定的光透射率通过算式确定对应的区域的图案区域和开口区域。再接着，根据所确定的图案区域和开口区域在光屏蔽层上形成光屏蔽图案。按此方式，在本发明的示例性实施方式中，根据背光(诸如光源)的设计条件确定光屏蔽层的各个透射率，并且形成光屏蔽层的光屏蔽图案，因而制造具有可以将光的亮度调整为均匀并且使透射的光的颜色变化最小化的光屏蔽图案的背光单元。图22和图23例示具有根据本发明的实施方式的用于背光单元的光屏蔽图案的光屏蔽层的示例。具体地，图22例示带有孔形式的光屏蔽图案的具有三层结构的光屏蔽层，图23例示带有凹槽形式的光屏蔽图案的具有一层结构的光屏蔽层。这些光屏蔽层均可以按照以上讨论的任意方式被布置在背光单元中。如图22所示，具有孔形式的光屏蔽图案的光屏蔽层可以具有的结构为其中第一光屏蔽层250a、第二光屏蔽层250b和第三光屏蔽层250c被叠置,但是光屏蔽层可以具有二层结构，其中第一光屏蔽层250a和第二光屏蔽层250b被叠置，或者根据情形可以形成为单层，其仅仅包括第一光屏蔽层250a。在具有三层结构的光屏蔽层中，第一光屏蔽层250a包括没有第一光屏蔽图案的第一区域和与第一区域的外边界相邻并且具有第一光屏蔽图案的第二区域。
第二光屏蔽层250b可以形成在第一光屏蔽层250a的第一区域中，并且可以包括没有第二光屏蔽图案的第三区域和与第三区域的外边界相邻并且具有第二光屏蔽图案的第四区域。第三光屏蔽层250c可以形成在第二层250b的第三区域上，并且包括带有第三光屏蔽图案的第五区域。在此，光源可以被设置为与第三光屏蔽层250c的第五区域相对应。最靠近光源的光屏蔽层可以具有为最厚的三层结构，并且最远离光源的光屏蔽层可以具有为最薄的一层结构。图23例示带有凹陷形式的光屏蔽图案的具有一层结构的光屏蔽层。如图23所示，第一光屏蔽层被配置为单层并且可以被形成为随着光屏蔽层从光源延伸其厚度逐渐减小，例如，随着光屏蔽层在光源的光发射方向上延伸光屏蔽层的厚度可以减小。可以通过使用具有特定图案的模具800形成图23例示的光屏蔽层的光屏蔽图案。 即，模具800的图案可以被转印到光屏蔽层250，以形成光屏蔽图案。在此情况下，靠近光源的区域可以更厚并且具有凹陷状光屏蔽图案，而远离光源的区域可以更薄并且具有凹陷或者孔状光屏蔽图案。凹陷状光屏蔽图案可以具有带有多个凹进的表面，而孔状光屏蔽图案可以包括位于图案内的通孔。图24到图26例示根据本发明的第一示例性实施方式的具有光屏蔽层的背光单元的示例。具体地，图24例示带有具有变化厚度的光屏蔽图案的具有单层结构的光屏蔽层，图25例示带有具有变化厚度的光屏蔽图案的具有多层结构的光屏蔽层，图26例示采用带有具有不同厚度的不同的光屏蔽图案的光屏蔽层的背光单元。这些光屏蔽层允许从背光单元的整个区域更均匀的光发射。如图24所示，具有单层结构的光屏蔽层250可以被制造为各个区域根据它们的光透射率而具有不同厚度。例如，在光屏蔽层250的整个区域中，透射最亮的光的区域可以具有对应于相关光透射率的最大厚度dl以屏蔽最大量的光，并且透射最少量的光的区域可以具有对应于相关光透射率的最小厚度d3以屏蔽最小量的光。如图25所示，包括多个层的具有多层结构的光屏蔽层250可以被制造为一个或者更多个层被叠置，其提供具有根据每一个区域的光透射率的变化厚度的光屏蔽层250。S卩，在光屏蔽层250的整个区域中，第一光屏蔽层250a、第二光屏蔽层250b和第三光屏蔽层250c可以被叠置以具有与可以透射最亮的光的区域处的相关光透射率相对应的变化厚度以屏蔽最大量的光，并且仅仅第一光屏蔽层250a可以被形成为具有与可以透射最少量的光的区域处的相关光透射率相对应的厚度以屏蔽最小量的光。例如，光屏蔽层250的具有厚度dl的部分可以被布置为对应于相应的光源220。图25的多层结构的有利之处可以在于每一个层可以由不同材料制成并且光屏蔽层250可以具有不同的总厚度，因而与单层结构相比，可以更精细地调整光透射率。例如，光屏蔽层250的具有最大总厚度(例如，形成层250a-250c)的部分可以被布置为对应于相应的光源220。如图26所示，在最靠近光源220的区域处，光屏蔽层250更厚，而在最远离光源220的区域处，光屏蔽层250更薄，因而均匀地调整光透射率。
在本发明的第一示例性实施方式中，根据情形，可以在光屏蔽层250上形成诸如孔或者凹陷这样的开口区域。在此，随着光屏蔽层从光源延伸，开口区域的宽度可以是逐渐增加的或者可以是相等的。图27和图28例示形成在根据本发明的第一示例性实施方式的光屏蔽层的孔或者凹陷。如图27和图28所示，形成在第三光屏蔽层250c的孔或者凹陷的深度可以等于第三光屏蔽层250c的厚度值，可以等于通过将第二光屏蔽层250b和第三光屏蔽层250c的厚度相加得到的厚度值，或者可以等于通过将第一光屏蔽层250a、第二光屏蔽层250b和第三光屏蔽层250c的厚度相加得到的厚度值。形成在第二光屏蔽层250b的孔或者凹陷的深度可以等于第二光屏蔽层250b的厚度值，或者可以等于通过将第一光屏蔽层250a和第二光屏蔽层250b的厚度相加得到的厚 度值。形成在第一光屏蔽层250a的孔或者凹陷的深度可以等于第一光屏蔽层250a的厚度值或者更小。例如，在图27的示例中，全部通孔被对准并且形成为穿过光屏蔽层250的全部各个层。在图28的示例中，仅仅在光屏蔽层250的各个层的上层形成通孔。这些通孔提供用于提供更均匀的光透射的图案。图29例示根据本发明的第二示例性实施方式的具有光屏蔽层的背光单元。在图29中，光屏蔽层250的光屏蔽图案具有岛状形状。如图29所示，根据本发明的示例性实施方式的光屏蔽层250具有的形式为两侧的倾斜不同。在最靠近光源220的区域处光屏蔽层更厚并且具有陡峭斜率的斜坡，在远离光源220的区域处光屏蔽层更薄并且具有平缓斜率的斜坡，因而均匀地调整光透射率。在本发明的第二示例性实施方式中，根据情形可以在光屏蔽层250上形成诸如孔或者凹陷这样的开口区域。在此，随着光屏蔽层250从光源延伸，开口区域的宽度可以逐渐增加或者可以相等。图30和图31例示形成在根据本发明的第二示例性实施方式的光屏蔽层的孔或者凹陷的示例。如图30和图31所示，孔或者凹陷的深度可以依赖于光屏蔽层的厚度而改变。优选地，光屏蔽层的最厚的部分可以对应于各个光源。图32到图34例示根据本发明的第三示例性实施方式的具有光屏蔽层的背光单元。具体地，图32例示光屏蔽层，其孔宽度和光屏蔽图案宽度改变，图33例示图32的光屏蔽层的平面图，图24例示采用带有具有孔宽度和光屏蔽图案宽度的光屏蔽层的背光单元。在本发明的第三示例性实施方式中，如图32到图34所示，随着光屏蔽层250从光源220延伸，形成在光屏蔽层250的孔宽度wl和光屏蔽图案宽度w2改变。S卩，随着光屏蔽层从光源220延伸，光屏蔽层250的孔宽度wl逐渐增大，并且同时随着光屏蔽层从光源220延伸，光屏蔽层250的光屏蔽图案宽度w2逐渐减小。在示例中，如图34所示，光屏蔽层250的具有更大宽度w2的部分将被设置为对应于光源220。在本发明的第三示例性实施方式中，根据情形，光屏蔽层250可以是单层或者可以被配置为包括至少两个或者更多个层的多个层。图35到图37例示根据本发明的第四示例性实施方式的具有光屏蔽层的背光单元。具体地，图35例示光屏蔽图案宽度均匀并且孔宽度改变的光屏蔽层，图36是图35的光屏蔽层的平面图，图37例示采用光屏蔽图案宽度均匀并且孔宽度改变的光屏蔽层的背光单元。在本发明的第四示例性实施方式中，如图35到图37所示，随着光屏蔽层250从光源220延伸，形成在光屏蔽层250的孔宽度wl改变，并且光屏蔽图案宽度w2是均匀的。S卩，随着光屏蔽层250从光源220延伸，光屏蔽层250的孔宽度wl逐渐增大，并且尽管光屏蔽层250从光源220延伸，光屏蔽层250的光屏蔽图案宽度w2仍是均匀的。
在本发明的第四示例性实施方式中，根据情形，光屏蔽层250可以是单层或者可以被配置为包括至少两个或者更多个层的多个层。图38到图40例示根据本发明的第五示例性实施方式的具有光屏蔽层的背光单元。具体地，图38例示孔宽度均匀并且光屏蔽图案宽度变化的光屏蔽层，图39是图38的光屏蔽层的平面图，图40例示孔宽度均匀并且光屏蔽图案宽度变化的光屏蔽层的背光单元。在本发明的第五示例性实施方式中，如图38到图40所示，随着光屏蔽层250从光源220延伸，形成在光屏蔽层250上的光屏蔽图案宽度w2改变，并且孔宽度wl是均匀的。S卩，随着光屏蔽层250从光源220延伸，光屏蔽层250的光屏蔽图案宽度w2逐渐减小，并且尽管光屏蔽层250从光源220延伸，光屏蔽层250的孔宽度wl仍是均匀的。在本发明的第五示例性实施方式中，根据情形，光屏蔽层250可以是单层或者可以被配置为包括至少两个或者更多个层的多个层。图41和图42例示根据本发明的第六示例性实施方式的具有光屏蔽层的背光单元。具体地，图41例示从光屏蔽层的上部分和下部分反射的光的反射特性，图42例示采用在其上部分和下部分具有不同的光反射特性的光屏蔽层的背光单元。在本发明的第六示例性实施方式中，如图41和图42所示，光屏蔽层可以附加地包括形成在光屏蔽层250上的反射膜400。也就是说，本发明的光屏蔽层可以包括反射膜400和以上讨论的光屏蔽层。在此，反射膜400可以由能够将入射光漫反射的材料制成。例如，反射膜400可以被形成为白色墨水薄膜等。即，图41例示的光屏蔽层250可以被形成为具有高反射率的金属薄膜层以将入射光镜面反射，并且形成在光屏蔽层250上的反射膜400可以扩散经反射的入射光。如图42所示，当之上形成了反射膜400的光屏蔽层250被应用于背光单元中时，从光源220输出的光透射穿过光屏蔽层250的孔或者图案，被设置在上面的光学片500反射，接着入射到反射膜400。接着，入射到反射膜400的光被反射膜400扩散和/或反射以被均匀扩散。因此，之上形成了反射膜400的光屏蔽层250将点光源改变成面光源，这与没有反射膜400的光屏蔽层240相比有一定的优点。按此方式，可以根据本发明按照各种方式制造具有各种结构的光屏蔽层。图43到图45是示出根据本发明的第一示例性实施方式的用于制造光屏蔽层的方法的顺序处理的截面图。在本发明的第一示例性实施方式中，如图43所示，在基板700上形成光屏蔽层250，并且在光屏蔽层250上形成掩模层600。在此,光屏蔽层250可以是金属层，并且掩模层600可以由不与光屏蔽层250的蚀刻剂反应的材料制成。例如，当光屏蔽层250是由金属制成时，掩模层600可以是包括有机和无机颗粒的白色墨水。接着，将掩模层600根据期望形成的光屏蔽图案构图，以露出光屏蔽层250的部分。在此，可以使用以上讨论的光屏蔽图案。接着，如图44所示，通过使用构图的掩模层600作为掩模，蚀刻以去除光屏蔽层250的露出部分。之后，如图45所示，去除剩余掩模层600以形成具有光屏蔽图案的光屏蔽层250。根据情形，可以不进行图45的处理，以将掩模层600留在光屏蔽层250上，而不是被去除。期望这样做的原因是，当掩模层600被形成作为诸如白色墨水这样的反射膜时，可以按照类似于本发明的第六不例性实施方式的方式，将掩模层600按照原样留在光屏蔽层250上,用于漫反射入射到掩模层600的光。 按此方式，根据本发明的第一示例性实施方式的制造光屏蔽层的方法使用化学蚀刻处理结合光刻处理。图46到图48是示出根据本发明的第二示例性实施方式的用于制造光屏蔽层的方法的顺序处理的截面图。在根据本发明的第二示例性实施方式的制造光屏蔽层的方法中，使用脉冲激光进行构图。基本机制是光吸收材料吸收脉冲激光以造成瞬时热膨胀，并且由于这种迅速的热膨胀导致光吸收材料接着被从基板分离。此处理是直接光蚀刻处理，不要求光刻处理和化学蚀刻处理。在直接光蚀刻处理中，必须在激光束和光吸收材料之间进行充分的交互并且该现象必须在短时间内发生。在本发明的第二示例性实施方式中，首先，如图46所示，在基板700上顺序地形成光屏蔽层250和掩模层600，并且根据期望形成的光屏蔽图案对掩模层600构图，以露出光屏蔽层250的部分。接着，如图47所示，将脉冲激光照射到之上形成了光屏蔽层250的光透射基板700的背表面。在此，光屏蔽层250由吸收激光束的光吸收材料制成，因而，穿过光透射基板700的激光束被光屏蔽层250吸收。 光屏蔽层250立即热膨胀，并且在此情况下，光屏蔽层250的相对薄部分(例如，如所不出的，从掩模层600露出的部分)从基板700分尚。接着，如图48所示，去除剩余的掩模层600以形成具有光屏蔽图案的光屏蔽层250。在变形形式中，根据情形，可以不进行图48的处理，并且掩模层600可以被按照原样维持在光屏蔽层250上，而不是被去除。这样做的原因是，当掩模层600被形成作为诸如白色墨水这样的反射膜时，可以按照类似于本发明的第六示例性实施方式的方式，将掩模层600按照原样维持，用于漫反射入射到掩模层600的光。按此方式，根据本发明的第二示例性实施方式的制造光屏蔽层的方法使用物理蚀刻处理与光刻处理和脉冲激光构图处理相结合。图49到图51是示出根据本发明的第三示例性实施方式的用于制造光屏蔽层的方法的顺序处理的截面图。在本发明的第三示例性实施方式中，首先，如图49所示，在光透射基板700上形成光屏蔽层250，接着在之上形成了光屏蔽层250的光透射基板700的背面上形成掩模层600。接着，根据期望形成的光屏蔽图案对掩模层600构图，以露出光屏蔽层250的部分。再接着，如图50所示，通过使用掩模层600作为掩模，将脉冲激光照射到之上形成了掩模层600的光透射基板700。在此，光屏蔽层250是由吸收激光束的光吸收材料制成，因而，穿过光透射基板700的激光束被光屏蔽层250吸收。光屏蔽层250的吸收了激光束的部分立即热膨胀接着从基板700分离。之后，如图51所示，去除剩余的掩模层600以形成具有光屏蔽图案的光屏蔽层250。根据情形，可以不进行图51的处理，以将掩模层600按照原样留下，而不是去除。
按此方式，根据本发明的第三示例性实施方式的制造光屏蔽层的方法使用物理蚀 刻处理结合光刻处理和脉冲激光构图处理。图52例示包括根据本发明的示例性实施方式的背光单元的显示模块。如图52所示，显示模块(例如，图53所示的显示模块20)可以包括显示面板100和背光单元200。显示面板100包括以面对面方式附接的滤色器基板110和薄膜晶体管(TFT)基板120，两个基板110和120之间维持单元间隔，并且液晶层可以夹在两个基板110和120之间。滤色器基板110可以包括多个滤色器，包括红(R)滤色器、绿(G)滤色器和蓝(B)滤色器，并且当被照射光时产生对应于红色、绿色和蓝色的图像。滤色器可以包括红滤色器、绿滤色器和蓝滤色器，但是不限于此，红子像素、绿子像素、蓝子像素和白子像素(W)可以组成单个像素，因而可以使用不同的滤色器。TFT基板120包括用于开关像素电极的开关元件(例如，TFT)。例如，公共电极和像素电极可以根据从外部源施加的特定电压改变液晶层的液晶分子的配向。液晶层包括多个液晶分子，并且液晶分子的配向可以根据像素电极和公共电极之间的电压差而改变。因此，从背光单元200提供的光可以根据液晶层的液晶分子的配向对应地入射到滤色器基板110。在显示面板100的上、下面上可以布置上偏振器130和下偏振器140。具体地，上偏振器112可以被布置在滤色器基板110的上表面上，并且下偏振器122可以被布置在TFT基板120的下表面上。尽管未示出，选通驱动器单元和数据驱动器单元可以被设置在显示面板200的侧面以产生用于驱动该面板100的驱动信号。如图52所示，根据本发明的示例性实施方式的显示模块可以被配置为背光单元200紧密附接到显示面板100。例如，背光单元200可以被固定接合到显示面板100的下侧，例如，接合到下偏振器140，为此可以在下偏振器140和背光单元200之间形成粘接层。因为背光单元200被紧密附接到显示面板100，所以可以减小显示设备的整体厚度以改进显示设备的外观，并且因为可以省略用于固定背光单元200的附加结构，能够简化显示设备的结构和制造工序。另外，因为背光单元200和显示面板100之间没有空间，所以可以防止或者减少由于杂质侵入这些空间而导致的显示设备的故障或者显示图像的画面质量的劣化。根据示例性实施方式的背光单元可以通过叠置多个功能层来构建，并且多个功能层中的至少一个可以包括多个光源。可以使用以上讨论的光源的各个示例。另外，为了背光单元200紧密接合以被固定到显示面板100的下表面，背光单元200，例如，组成背光单元200的多个功能层可以由柔性材料制成。根据本发明的实施方式的显示面板100可以被划分为多个区域，并且从背光单元200的相应的区域发射的光的亮度，即，相应光源的亮度，可以根据每一个划分的区域的灰度峰值或者颜色坐标信号调整，因而调整显示面板100的亮度。为此，背光单元200可以被划分为与显示面板100的划分区域分别相对应的多个划分驱动区域。例如，背光单元可以被划分为可以被选择性并且独立驱动的区，例如，打开/关闭，提供调光等。图53和图54例示根据本发明的示例性实施方式的显示设备。在此，显示模块20包括以上讨论的任意背光单元和被来自背光单元的光照射的显示面板。 如图53所示，根据本发明的示例性实施方式的显示设备I可以包括显示模块20、覆盖显示模块20的前盖30和后盖35、设置在后盖35上的驱动单元55以及覆盖驱动单元55的驱动单元盖40。前盖30可以包括由允许光透射的透明材料制成的前面板。前面板保护位于特定距离处的显示模块20，并且允许从显示模块20发射的光透射穿过从而在显示模块20上显示的图像可以被从外面看见。前盖30可以由没有窗口 30a的平坦板形成。在此情况下，前盖30可以由允许光透射穿过的透明材料制成。例如，前盖30可以由注射成型塑料制成。当前盖30由平坦板制成时，前盖30不需要具有框架。后盖35可以与前盖30耦合到一起以保护显示模块20。驱动电压55可以被布置在后盖35的一个表面上。驱动单兀55可以包括驱动控制器55a、主板55b和电源单兀55c。驱动控制器55a可以是时序控制器，控制显示模块20的每一个驱动器IC的操作时序。主板55b传递V SYNC、H SYNC、R、G和B分辨率信号以及其它信号到时序控制器。电源单元55c向显示模块20供电。驱动单元55可以被设置在后盖35上并且被驱动单元盖40覆盖。后盖35包括多个孔以允许显示模块20和驱动单元55彼此连接。可以设置支架60以支撑显示设备I。如图53所示，驱动单元55的驱动控制器55a可以被设置在后盖35上，并且主板55b和电源单元55c可以被设置在支架60处。驱动单元盖40可以仅仅覆盖形成在后盖35处的驱动单元55。在本实施方式中，主板55b和电源单兀55c被单独构建,但是本发明不意味着限于此，主板55b和电源单元55c也可以被配置为单个集成电路。
权利要求
1.一种光产生装置，所述光产生装置包括 第一层; 被布置在所述第一层上并且被配置为发射光的多个光源装置，所述光源装置中的至少一个包括用于产生光的发光二极管； 覆盖所述光源装置的第二层；以及 被布置在所述第二层上并且被配置为选择性地透射从所述光源装置发射的光的第一光屏蔽层和第二光屏蔽层，所述第一光屏蔽层和所述第二光屏蔽层由不同材料组成， 所述第一光屏蔽层和所述第二光屏蔽层被布置为对应于所述光源装置。
2.根据权利要求I所述的光产生装置，所述光产生装置还包括 被布置在所述第二光屏蔽层上并且对应于所述光源装置的第三光屏蔽层， 其中，所述第一光屏蔽层和所述第三光屏蔽层由相同材料组成。
3.根据权利要求2所述的光产生装置，其中，所述第一光屏蔽层、所述第二光屏蔽层和所述第三光屏蔽层的宽度彼此不同。
4.根据权利要求3所述的光产生装置，其中，所述第一光屏蔽层、所述第二光屏蔽层和所述第三光屏蔽层的宽度在垂直于光发射方向的方向上减小。
5.根据权利要求I所述的光产生装置，其中，被布置在对应于所述光源装置的区域处的任何光屏蔽层的总厚度大于被布置在与所述对应于所述光源装置的区域相邻的区域处的任何光屏蔽层的总厚度。
6.根据权利要求I所述的光产生装置，其中，所述第一光屏蔽层和所述第二光屏蔽层中的每一个包括至少一个通孔。
7.根据权利要求6所述的光产生装置，其中，所述第一光屏蔽层的通孔和所述第二光屏蔽层的通孔彼此对准。
8.根据权利要求6所述的光产生装置，其中，所述第一光屏蔽层的通孔和所述第二光屏蔽层的通孔的宽度在光发射方向上增大。
9.根据权利要求2所述的光产生装置，其中，所述第一光屏蔽层、所述第二光屏蔽层和所述第三光屏蔽层中的至少一个包括至少一个通孔。
10.根据权利要求9所述的光产生装置，其中，所述第一光屏蔽层、所述第二光屏蔽层和所述第三光屏蔽层中的每一个包括所述至少一个通孔，并且所述第一光屏蔽层的通孔、所述第二光屏蔽层的通孔和所述第三光屏蔽层的通孔彼此对准。
11.根据权利要求9所述的光产生装置，其中，所述第一光屏蔽层的通孔、所述第二光屏蔽层的通孔和所述第三光屏蔽层的通孔的宽度在光发射方向上增大。
12.根据权利要求I所述的光产生装置，所述光产生装置还包括 被布置在所述第一层上并且被配置为反射从所述光源装置发射的光的反射层。
13.根据权利要求I所述的光产生装置，其中，所述多个光源装置被按照多个行排列。
14.一种显示设备，所述显示设备包括 被配置以显示图像的显示面板；以及 背光单元，所述背光单元包括如权利要求I所述的光产生装置并且被配置为将来自所述光产生装置的光提供到所述显示面板。
15.根据权利要求14所述的显示设备，其中，所述背光单元中的所述多个光源装置按照阵列延伸并且对应于所述显示面板的显示区域。
16.一种光产生装置，所述光产生装置包括 第一层; 被布置在所述第一层上并且被配置为发射光的多个光源装置，所述光源装置中的至少一个包括用于产生光的发光二极管； 覆盖所述光源装置的第二层；以及 被布置在所述第二层上并且被配置为选择性地透射从所述光源装置发射的光的光屏蔽层，所述光屏蔽层包括多个孔， 其中，所述光屏蔽层的所述孔的宽度在光发射方向上增大。
17.根据权利要求16所述的光产生装置，其中，所述光屏蔽层的厚度在光发射方向上减小。
18.一种光产生装置，所述光产生装置包括 第一层; 被布置在所述第一层上并且被配置为发射光的多个光源装置，所述光源装置中的至少一个包括用于产生光的发光二极管； 覆盖所述光源装置的第二层；以及 被布置在所述第二层上并且被配置为选择性地透射从所述光源装置发射的光的光屏蔽层，所述光屏蔽层包括多个通孔。
19.根据权利要求18所述的光产生装置，其中，所述光屏蔽层的所述通孔的宽度是均匀的，以及 其中，所述光屏蔽层的通孔之间的宽度在光发射方向上减小。
20.一种显示设备，所述显示设备包括 被配置为显示图像的显示面板；以及 背光单元，所述背光单元包括如权利要求18所述的光产生装置并且被配置为将来自所述光产生装置的光提供到所述显示面板。
全文摘要
本申请讨论了一种可以用作背光单元的光产生装置和包括该光产生装置的显示设备。根据实施方式，所述光产生装置可以包括第一层；被布置在所述第一层上并且被配置为发射光的多个光源装置，至少一个所述光源装置中的每一个光源装置包括用于产生光的发光单元二极管；覆盖所述光源装置的第二层；以及被布置在所述第二层上并且被配置为选择性地控制透射从所述光源装置发射的光的传播的第一光屏蔽层和第二光屏蔽层，所述第一光屏蔽层和所述第二光屏蔽层由相同材料或不同材料构成，所述第一光屏蔽层和所述第二光屏蔽层被布置为与所述光源装置相对应。
文档编号G02F1/13357GK102884476SQ201080066631
公开日2013年1月16日 申请日期2010年10月12日 优先权日2010年3月16日
发明者申铉拳, 金相天, 崔文九, 田成万, 李贤镐, 朴周度, 金一焕 申请人:Lg电子株式会社