专利名称：配向膜干燥系统的制作方法
技术领域：
配向膜干燥系统
技术领域：
本实用新型属于液晶显示器生产技术领域，特别是涉及一种配向膜干燥系统。背景技术：
随着光电技术和半导体技术的不断发展，液晶显示器(Liquid Crystal Display, LCD)已广泛应用于社会的各个领域。液晶显示器主要由两片玻璃基板以及设置在两片玻璃基板之间的液晶层构成。目前，液晶显示器以薄膜晶体管(Thin Film Transistor,TFT) 液晶显示器为主。TFT液晶显示器的制作工艺一般分为三个步骤两片玻璃基板上图形的制作；液晶密封到两片玻璃基板之间形成液晶显示单元(CELL)；液晶显示单元组装成LCD显示模块 (Liquid Crystal Module, LCM)。在具体实施过程中，玻璃基板上往往设置多个液晶显示单元，产品型号和尺寸的不同，基板上液晶显示单元排列的个数和位置也随之变化。基板上的多个液晶显示单元在完成液晶密封之后通过切割工艺形成单个液晶显示单元。在将液晶密封到两片玻璃基板之间形成液晶显示单元的制作工艺过程中，两片玻璃基板的液晶显示单元区域(简称显示区，其他区域简称非显示区，下同)分别会配置一层配向膜(Alignment Film)，配置在基板显示区的配向膜经过摩擦等生产工艺产生配向能力，从而对液晶层起到配向作用，使液晶沿着固定方向均一排列。现有技术中，玻璃基板上配向膜的形成过程包括以下步骤(1)、涂膜步骤，将溶剂稀释过的配向膜材料通过印刷等工艺形成于基板表面， 目前业界常用的配向膜材料为聚酰亚胺(Polyimide)，其溶剂一般为N-甲基吡咯烷酮 (N-methyl-2-pyrrolidone, NMP)， Y _ 丁内酉旨(Y -Butyroladone, GBL)，乙二醇单丁謎 (2-Butoxyethanol, BC)等组成；(2)、干燥步骤，以100°C左右的温度使溶剂蒸发只留下分布均一的配向膜；(3)、焙烧步骤，以180°C以上的温度使配向膜固化。其中，在干燥步骤中，请参阅图1，一般采用将基板101放置在支撑梢102上，利用热板103产生的热量对基板101上的配向膜涂布区104进行加热。由于热板103上的热量通过热对流和热辐射传递到基板101，导致加热速度慢。此外，由于图1所示的加热方式是先加热基板101，再由基板101将热能传导给配向膜涂布区104的配向液，因此存在以下问题a)，在干燥过程中，配向膜涂布区104的中心区域和边缘在加热过程中会产生受热不均，从而导致配向膜涂布区104中溶剂的挥发速度不同，造成形成的配向膜边缘膜厚不均，导致配向膜边缘区域的配向能力和配向膜中心区域的配向能力不同，从而导致显示器出现显示异常的问题；b)，支撑梢102与基板101的接触位置会由于支撑梢102的影响造成接触位置与其他位置的受热不均，很容易导致支撑梢102位置的配向膜出现干燥异常和配向能力异常的问题，而产生显示不良。 综上，如何对基板上的配向膜涂布区的配向液进行均勻的加热，形成厚度均勻的配向膜，保证液晶显示器的显示效果，是液晶显示器生产技术领域需要解决的技术问题之
实用新型内容本实用新型的目的在于提供一种配向膜干燥系统，以解决现有技术中配向液加热不均勻而形成厚度不一的配向膜的技术问题。为实现上述目的，本实用新型提供了一种配向膜干燥系统，用于干燥涂布在一基板上的配向液，所述配向膜干燥系统包括用于对所述的配向液进行电磁波加热使所述配向液形成配向膜的磁控管，所述配向液涂布在所述基板朝向所述磁控管一侧。在本实用新型提供的配向膜干燥系统中，所述配向膜干燥系统包括多个磁控管， 所述多个磁控管呈蜂窝状排列。在本实用新型提供的配向膜干燥系统中，所述配向膜干燥系统还包括一干燥腔体，所述磁控管设置于所述干燥腔体内。在本实用新型提供的配向膜干燥系统中，所述配向膜干燥系统还包括气体流通设备，所述气体流通设备包括进气管和排气管，所述磁控管位于所述基板和所述进气管之间。在本实用新型提供的配向膜干燥系统中，所述配向膜干燥系统还包括温度控制设备，所述温度控制设备包括用于监测所述干燥腔体内的温度的测温仪，以及用于在所述测温仪监测到所述干燥腔体内的温度超过系统设置的阈值时，降低所述干燥腔体内的温度的控温器，所述测温仪连接所述控温器。在本实用新型提供的配向膜干燥系统中，所述干燥腔体内设置有传送轮；所述干燥腔体还开设有供所述基板进出所述干燥腔体的入口和出口。在本实用新型提供的配向膜干燥系统中，所述干燥腔体的内壁涂敷有电磁波吸收层，所述干燥腔体开设有阀门；所述阀门设置有用于在所述阀门关闭时防止所述干燥腔体内的电磁波泄漏的封条。本实用新型采用磁控管产生的电磁波直接加热配向液，从而避免热能从基板向配向液传递的过程中由于受热不均而产生的配向膜厚度不均勻的问题；并且不会影响配向膜的干燥均一性；热损失小，加热速度快。为让本实用新型的上述内容能更明显易懂，下文特举优选实施例，并配合所附图式，作详细说明如下
图1为现有技术中对基板上配向膜涂布区的配向液加热示意图；图2为本实用新型的配向膜干燥系统的第一较佳实施例的结构示意图；图3为图2的侧视图；图4为本实用新型的配向膜干燥系统中磁控管的排列示意图；图5为本实用新型的配向膜干燥系统的第二较佳实施例的结构示意图；[0029]图6为图5的侧视图；图7为使用图2所示的本实用新型第一较佳实施例中配向膜干燥系统进行干燥的流程图；图8为使用图3所示的本实用新型第二较佳实施例中配向膜干燥系统进行干燥的流程图。
具体实施方式以下各实施例的说明是参考附加的图式，用以例示本实用新型可用以实施的特定实施例。本实用新型提供的配向膜干燥系统对配向液进行均勻的电磁波加热，使得形成的配向膜厚度一致，保证了液晶显示器的显示效果。请参阅图2，图2为本实用新型提供的配向膜干燥系统的第一较佳实施例的结构示意图。在图2所示的实施例中，所述配向膜干燥系统包括支撑梢202、磁控管204、干燥腔体205以及气体流通设备。支撑梢202用于支撑一基板201，所述基板201上设置有配向膜涂布区203，所述配向膜涂布区203涂布有用于形成配向膜的配向液。优选的，支撑梢202 的高度以方便基板201的取放为准。在图2中，所述支撑梢202为4个，但本实用新型并不限定支撑梢202的数量，支撑梢202的数量可根据具体情况适当增减。在图2所示的实施例中，所述配向膜涂布区203设置在所述基板201朝向所述磁控管204的一侧。所述磁控管204用于对所述配向膜涂布区203的配向液进行电磁波加热， 以使所述配向膜涂布区203的配向液形成配向膜。优选的，所述磁控管204的电磁波加热包括微波加热，当然也可以是其它形式的电磁波加热，此处不一一列举。优选的，所述配向膜干燥系统包括多个磁控管204，请参阅图4，图4为配向膜干燥系统中磁控管204的排列结构示意图。所述多个磁控管204呈蜂窝状排列，使磁控管204 产生的电磁波均勻的到达基板201。在图2所示的实施例中，所述支撑梢202以及磁控管204均设置于所述干燥腔体 205内。所述干燥腔体205的内壁上涂敷有电磁波吸收层(图未示)，所述电磁波吸收层设置有电磁波吸收材料，譬如硅橡胶，用于吸收多余的电磁波，防止电磁波反射到磁控管204 造成磁控管204元件的损伤。干燥腔体205的内壁上涂敷的电磁波吸收材料还可以防止磁控管204产生的微波外泄。在图2所示的实施例中，所述气体流通设备包括进气管206和排气管207，所述进气管206用于将气体送入干燥腔体205，所述磁控管204位于所述基板201和所述进气管 206之间，从所述进气管206流入的气体经由所述磁控管204加热后流向所述配向膜涂布区 203的配向液，进一步地实现对所述配向液的烘干，加速干燥基板201上的配向液的。所述排气管207将经所述磁控管204加热后气体排出，气体流动方向请参阅图2中虚线箭头方向。在本实施例中，所述配向膜干燥系统还包括温度控制设备(图未示)，所述温度控制设备包括测温仪和控温器。所述测温仪用于监测所述干燥腔体205内的温度，以防止电磁波放射过度，使配向液的温度过高而暴沸，以保证干燥效果。在所述测温仪监测到所述干
5燥腔体205内的温度超过系统设置的阈值时，譬如超过180°C，所述控温器降低所述干燥腔体205内的温度，当然也可以通过控制磁控管204功率的方式降低干燥腔体205内的温度。在具体实施过程中，干燥腔体205内的温度控制在80°C _180°C，最佳温度为 120°C。请参阅图3，图3为图2的侧视图。在本实施例中，所述干燥腔体205设有阀门208，所述阀门208对应所述基板201 设置，所述基板201通过该阀门208放入干燥腔体205或自干燥腔体205中取出。所述阀门208设置有封条209，在所述阀门208关闭时，封条209用于防止所述干燥腔体205内的电磁波泄漏。下面结合图2至图4，说明本实用新型配向膜干燥系统第一较佳实施例的工作原理请参阅图3，打开气体流通设备，气体从进气管206进入干燥腔体205，由排气管 207排出，并保持气体流通设备处于工作状态。打开阀门208，一机械手臂将涂布有配向液的基板201放置在支撑梢202上，关闭阀门，控制磁控管204开始工作。磁控管204产生电磁波对基板201上的配向液直接加热， 同时，经磁控管204加热后的气体流向配向液涂布203的配向液。温度控制设备检测干燥腔体205内的温度，并根据干燥腔体205内的温度控制磁控管204的功率。在基板201上的配向液完全干燥并形成配向膜后，磁控管204停止工作，打开阀门，机械手臂取出基板201，至此，完成一片基板201上配向膜的干燥过程。其中，最优的干燥时间为20-60秒。本实施例具有以下有益效果Al)、磁控管204产生的电磁波直接加热配向液，从而避免热能从基板201向配向液传递的过程中由于受热不均而产生的配向膜厚度不均勻的问题；Bi)、磁控管204产生的电磁波直接加热配向液，支撑梢202不会影响配向膜的干燥均一性；Cl)、磁控管204产生的电磁波直接加热配向液，热损失小，加热速度快。图5为本实用新型提供的液晶显示器的配向膜干燥系统的第二较佳实施例的结构示意图。在图5所示的实施例中，所述配向膜干燥系统包括传送轮501，磁控管204、干燥腔体205以及气体流通设备。送轮501用于支撑一基板201，并带动所述基板201沿水平方向运动。所述基板201上设置有配向膜涂布区203，所述配向膜涂布区203涂布有用于形成配向膜的配向液。在图5所示的实施例中，所述配向膜涂布区203设置在所述基板201朝向所述磁控管204的一侧。所述磁控管204用于对所述配向膜涂布区203的配向液进行电磁波加热， 以使所述配向膜涂布区203的配向液形成配向膜。优选的，所述磁控管204的电磁波加热包括微波加热，当然也可以是其它形式的电磁波加热，此处不一一列举。优选的，所述配向膜干燥系统包括多个磁控管204，请参阅图4，图4为配向膜干燥系统中磁控管204的排列结构示意图。所述多个磁控管204呈蜂窝状排列，使磁控管204 产生的电磁波均勻的到达基板201。[0056]在图5所示的实施例中，所述传送轮501以及磁控管204均设置于所述干燥腔体 205内。所述干燥腔体205的内壁上涂敷有电磁波吸收材料，譬如硅橡胶，用于吸收多余的电磁波，防止电磁波反射到磁控管204造成磁控管204元件的损伤。干燥腔体205的内壁上涂敷的电磁波吸收材料还可以防止磁控管204产生的微波外泄。在图5所示的实施例中，所述气体流通设备包括进气管206和排气管207，所述进气管206用于将气体送入干燥腔体205。 所述磁控管204位于所述基板201和所述进气管206之间，从所述进气管206流入的气体经由所述磁控管204加热后流向所述配向膜涂布区203的配向液，进一步地实现对所述配向液的烘干，加速干燥基板201上的配向液。所述排气管207将经所述磁控管204加热后气体排出，气体流动方向请参阅图5中虚线箭头方向。在本实施例中，所述配向膜干燥系统还包括温度控制设备(图未示)，所述温度控制设备包括测温仪和控温器。所述测温仪用于监测所述干燥腔体205内的温度，以防止电磁波放射过度，使配向液温度过高而暴沸，以保证干燥效果。优选的，干燥腔体205内的温度控制在80°C _180°C，最佳温度为120°C。在所述测温仪监测到所述干燥腔体205内的温度超过系统设置的阈值时，譬如超过180°C，所述控温器降低所述干燥腔体205内的温度， 当然也可以通过控制磁控管204功率的方式降低干燥腔体205内的温度。请参阅图5和图6，所述传送轮501包括转轴5011和转盘5012，转轴5011控制转盘5012转动，进而带动基板201沿水平方向运动。在图5所示的实施例中，所述干燥腔体205开设有供所述基板201进出所述干燥腔体205的入口 502和出口 503，所述基板201在所述传动轮501的带动下，由所述入口 502 进入所述干燥腔体205，经由所述磁控管204进行电磁波加热后，由传动轮501自所述出口 503送出所述干燥腔体205。下面结合图5和图6进一步的说明本实用新型第二较佳实施例的工作原理打开气体流通设备，使得干燥腔体205外的气体从进气管206进入干燥腔体205， 并由排气管207排出，保持气体流通设备处于工作状态。机械手臂将涂布有配向液的基板201放置在入口 502处的传动轮501上，在传动轮501的带动下，基板201由所述入口 502进入所述干燥腔体205。在所述基板201进入所述干燥腔体205后，打开磁控管204，控制磁控管204开始工作。磁控管204产生电磁波对基板201上的配向液直接加热，经磁控管204加热后的气体同时流向配向液，温度控制设备检测干燥腔体205内的温度，并根据干燥腔体205内的温度控制磁控管204的功率。在基板201上的配向液干燥完全，形成配向膜后，磁控管204停止工作，所述传动轮501运转，将所述基板201由所述出口 503送出所述干燥腔体205。本实施例具有以下有益效果A2)、磁控管204产生的电磁波直接加热配向液，从而避免热能从基板201向配向液传递的过程中由于受热不均而产生的配向膜厚度不均勻的问题；B2)、磁控管204产生的电磁波直接加热配向液，支撑梢202不会影响配向膜的干燥均一性；C2)、磁控管204产生的电磁波直接加热配向液，热损失小，加热速度快。[0070] 图7示出了本实用新型提供的配向膜干燥方法的第一较佳实施例的流程图，其中，图7所述的液晶显示器的配向膜干燥方法对应图2和图3的配向膜干燥系统的实施例结构示意图。 在步骤S701中，将基板自干燥腔体的阀门放入干燥腔体内，并关闭阀门。其中，所述基板上设置有配向膜涂布区，所述配向膜涂布区涂布有用于形成配向膜的配向液。在步骤S702中，通过磁控管对所述配向膜涂布区的配向液进行电磁波加热。在具体实施过程中，在对配向膜涂布区的配向液进行电磁波加热的过程中，还通过进气管向所述干燥腔体内注入气体，从所述进气管流入的气体经由所述磁控管加热后流向所述配向膜涂布区的配向液，进一步地实现对所述配向液的烘干，排气管将经所述磁控管加热后气体排出。在具体实施过程中，在对配向膜涂布区的配向液进行电磁波加热的过程中，还通过测温仪监测所述干燥腔体内的温度，以防止电磁波放射过度使配向液上温度过高而暴沸，保证干燥效果。在所述测温仪监测到所述干燥腔体内的温度超过系统设置的阈值时，譬如超过 180，通过控温器降低所述干燥腔体内的温度，当然也可以通过控制磁控管204功率的方式降低干燥腔体205内的温度。在步骤S703中，在所述配向液形成配向膜后，打开所述阀门，取出所述基板。图8示出了本实用新型提供的配向膜干燥方法的第二较佳实施例的流程，图8所述的配向膜干燥方法对应图5和图6所示的配向膜干燥系统的结构示意图。在步骤S801中，将基板自干燥腔体的入口放置在干燥腔体内的传送带上。其中，所述基板上设置有配向膜涂布区，所述配向膜涂布区放置有用于形成配向膜的配向液。 在步骤S802中，所述传动轮带动所述基板进入所述干燥腔体内。在步骤S803中，通过所述干燥腔体内的磁控管对所述配向液进行电磁波加热。在具体实施过程中，在对配向膜涂布区的配向液进行电磁波加热的过程中，还通过进气管向所述干燥腔体内注入气体；从所述进气管流入的气体经由所述磁控管加热后流向所述配向膜涂布区的配向液，实现对所述配向液的烘干；通过排气管将经所述磁控管加热后气体排出。在具体实施过程中，在对配向膜涂布区的配向液进行电磁波加热的过程中，还还通过测温仪监测所述干燥腔体内的温度，以防止电磁波放射过度使配向液上温度过高而暴沸，保证干燥效果。在所述测温仪监测到所述干燥腔体内的温度超过系统设置的阈值时，譬如超过 180，通过控温器降低所述干燥腔体内的温度，当然也可以通过控制磁控管204功率的方式降低干燥腔体205内的温度。在步骤S804中，在磁控管对所述配向液干燥完毕后，所述传动轮将所述基板送出所述干燥腔体。本实用新型采用磁控管产生的电磁波直接加热配向液，从而避免热能从基板向配向液传递的过程中由于受热不均而产生的配向膜厚度不均勻的问题；并且支撑梢不会影响配向膜的干燥均一性；热损失小，加热速度快。 虽然本实用新型已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本实用新型，本领域的普通技术人员，在不脱离本实用新型的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本实用新型的保护范围以权利要求界定的范围为准。
权利要求1.一种配向膜干燥系统，用于干燥涂布在一基板上的配向液，其特征在于所述配向膜干燥系统包括用于对所述的配向液进行电磁波加热使所述配向液形成配向膜的磁控管， 所述配向液涂布在所述基板朝向所述磁控管一侧。
2.根据权利要求1所述的配向膜干燥系统，其特征在于所述配向膜干燥系统包括多个磁控管，所述多个磁控管呈蜂窝状排列。
3.根据权利要求1或2所述的配向膜干燥系统，其特征在于所述配向膜干燥系统还包括一干燥腔体，所述磁控管设置于所述干燥腔体内。
4.根据权利要求3所述的配向膜干燥系统，其特征在于所述配向膜干燥系统还包括气体流通设备，所述气体流通设备包括进气管和排气管，所述磁控管位于所述基板和所述进气管之间。
5.根据权利要求3所述的配向膜干燥系统，其特征在于所述配向膜干燥系统还包括温度控制设备，所述温度控制设备包括用于监测所述干燥腔体内的温度的测温仪，以及用于在所述测温仪监测到所述干燥腔体内的温度超过系统设置的阈值时降低所述干燥腔体内的温度的控温器，所述测温仪连接所述控温器。
6.根据权利要求3所述的配向膜干燥系统，其特征在于所述干燥腔体内设置有传送轮；所述干燥腔体还开设有供所述基板进出所述干燥腔体的入口和出口。
7.根据权利要求3所述的配向膜干燥系统，其特征在于所述干燥腔体的内壁涂敷有电磁波吸收层，所述干燥腔体还开设有阀门；所述阀门设置有用于在所述阀门关闭时防止所述干燥腔体内的电磁波泄漏的封条。
专利摘要本实用新型公开了一种配向膜干燥系统，用于干燥涂布在一基板上的配向液，所述配向膜干燥系统包括用于对所述的配向液进行电磁波加热使所述配向液形成配向膜的磁控管，所述配向液涂布在所述基板朝向所述磁控管一侧，所述磁控管对所述配向液进行电磁波加热，使所述配向液形成厚度一致的配向膜，本实用新型保证了液晶显示器的显示效果。
文档编号G02F1/1337GK202189204SQ20112026107
公开日2012年4月11日 申请日期2011年7月22日 优先权日2011年7月22日
发明者严茂程 申请人:深圳市华星光电技术有限公司