专利名称：光导波元件的制作方法
技术领域：
本发明涉及光导波元件，尤其是涉及使用具有电光效应且厚度为 ομπι以下的薄板的光导波元件。
背景技术：
在光计测技术领域或光通信技术领域中，多使用光调制器等光导波元件，其中该光调制器使用了具有电光效应的基板。而且，为了实现频率响应特性的宽带化或驱动电压的减少，将基板的厚度减薄至 ο μ m左右，降低调制信号即微波的实效折射率，实现微波与光波的速度匹配，进而实现电场效率的提高。如专利文献I所示，这种薄板以机械强度的确保为目的，而与其他的加强基板粘接而使用。在薄的主基板(也称为“薄板”)中，在基板内传播的信号光的行为成为问题。尤其是从薄板内的光导波例如S字部、分支 结合部泄漏的杂散光与主基板具有100 μ m以上的厚度的情况不同，将薄板作为片状导波路进行传播。并且，由光导波元件的端面反射的片状传播光以浅的角度与光导波交叉时，产生光结合，因结合状态而产生光导波元件的波长依赖性。而且，由于在对传播损失或对消光比进行监控的监控用受光元件的相位差中产生波长依赖性，因此光导波元件的动作特性会发生劣化。损失或消光比等的规格被规定在使用波长域内，因此需要在整个使用波长域内测定该特性。其结果是，测定将花很长时间，即便一个波长中，未达到特性，也会对成品率造成很大的影响。在先技术文献专利文献
专利文献I日本特开2010-85789号公报
发明内容
本发明要解决的课题是解决上述的问题，提供一种光导波元件，其对于使用具有电光效应，厚度为10 μ m以下的薄板的光导波元件，将在该元件的端面反射的片状传播光除去，从而抑制动作特性的劣化。为了解决上述课题，本发明第一方面涉及一种光导波元件，其具有薄板和加强基板，该薄板具有电光效应且厚度为IOym以下，在该薄板上形成有光导波，该加强基板经由粘接层而与该薄板粘接，所述光导波元件的特征在于，在该光导波元件的侧面的局部形成有防反射膜。本发明第二方面以第一方面的光导波兀件为基础，其特征在于，形成有该防反射膜的面是该光导波的配置有出射侧端部的面。本发明第三方面以第一或第二方面的光导波元件为基础，其特征在于，该防反射膜跨该薄板和该加强基板这两者而形成。本发明第四方面以第一至第三方面中任一方面的光导波元件为基础，其特征在于，该防反射膜通过以考虑到粘接剂的方式(考虑到粘接剂的折射率的方式)来设计。发明效果根据本发明第一方面，光导波元件具有薄板和加强基板，该薄板具有电光效应且厚度为10 μ m以下，在该薄板上形成有光导波，该加强基板经由粘接层而与该薄板粘接，在该光导波元件的侧面的局部形成有防反射膜，因此，能够提供一种将薄板的端面等处反射的片状传播光除去，并抑制了动作特性的劣化的光导波元件。根据本发明第二方面，形成有防反射膜的面是光导波的配置有出射侧端部的面，因此能够有效地除去沿着光导波延伸的方向传播的片状传播光，能够进一步改善动作特性。根据本发明第三方面，防反射膜跨薄板和加强基板这两方形成，因此防反射膜的粘接面积增加，能够抑制膜体的剥离或缺陷的发生。根据本发明第四方面，防反射膜通过以考虑到粘接剂的方式来设计，因此在利用粘接剂将光纤与光导波元件对接时，能抑制光导波与粘接剂之间的反射，能够减少结合损
失。
图1是说明本发明的光导波元件的概略情况的剖视图。图2是说明本发明的光导波元件中的反射率的波长依赖性的图形。
具体实施例方式以下，关于本发明的光导波元件，使用优选例进行详细说明。如图1所示，本发明的光导波元件具有薄板和加强基板，该薄板具有电光效应且厚度为10 μ m以下，在该薄板上形成有光导波，该加强基板经由粘接层而与该薄板粘接，所述光导波元件的特征在于，在该光导波元件的侧面的局部形成有防反射膜。作为具有电光效应的基板(薄板)，尤其优选可以利用LiNb03、LiTa05或PLZT (锆钛酸铅镧)中的任一个的单结晶。尤其是优选多使用在光调制器中的LiNb03、LiTaO515而且，形成于基板的光导波例如通过使钛(Ti)等高折射率物质在LiNbO3基板(LN基板)上发生热扩散而形成。在光导波元件可以设置用于对在光导波中传播的光波进行调制的调制电极。调制电极由信号电极和接地电极构成，在基板表面形成Ti · Au的电极图案，可以通过镀金方法等形成。此外，根据需要也可以在光导波形成后的基板表面上设置电介质SiO2等缓冲层。将薄板与加强基板接合的粘接剂可以利用紫外线硬化性粘接剂等。但是，粘接层的厚度优选为ΙΟμπΓ ΟΟΟμπι。当比10 μ m薄时，难以实现调制信号即微波与在光导波中传播的光波的速度匹配。而且，当粘接层的厚度比1000 μ m大时，粘接层自身的膨胀 收缩产生的内部应力增大，而且，加强基板的加强效果弱，薄板容易破损。作为加强基板的材料，与薄板同样的材料在使热膨胀率与薄板匹配方面优选。例如，在利用LN基板时，厚度优选为400 μ πΓ600 μ m。当过厚时，光导波元件变得大型化，加强基板的热膨胀或焦电效果也会对薄板造成影响。而且当过薄时，无法太期待加强作用。作为防反射膜，膜种可以利用Si02、Ti02、Ta205、Al203、Nb205、MgF2等。而且，膜厚优选为 O. 05 μ m 3 μ m。防反射膜可以通过溅射法 蒸镀法*CVD法等的真空成膜的干法、或基于旋涂的湿法来形成。尤其是防反射膜(Si02、Ti02等)如图1所示，考虑到生产性时优选为单层，但以反射率来考虑时，由于在宽波长区域能够较高地减少反射率的多层膜为优选，因此优选为至少两层以上的层叠结构(膜体1、膜体2)。通过形成图1那样的防反射膜(SiO2 :0. 087 μ m、Ta205 :0. 062 μ m的层叠结构)，如图2的反射率的波长依赖性的图形所示，能抑制光导波元件的端面处的片状传播光(杂散光)的反射，防止杂散光向光导波结合，由此能够期待On/Off消光比、波长依赖性等的光学特性劣化的要因的排除。而且，作为副次效果，也能够使损失(Loss)减少。例如，将光纤与光导波元件对接时，涂敷的粘接材料涂敷在芯片端面的宽度、厚度方向的整个截面上。因此，通过以考虑粘接材料的方式来设计防反射膜，能抑制光导波与粘接材料间的反射，结合损失降低4%左右。此外，如图1所示，形成有防反射膜的面为光导波的配置有出射侧端部的面，由此能够有效地除去沿着光导波延 伸的方向传播的片状传播光，从而能够更进一步改善光导波元件的特性。另外，如图1所示，通过跨薄板和加强基板这两者而形成防反射膜，由此还能够在光导波元件的侧面增加防反射膜的粘接面积，抑制膜体的剥离或缺陷的发生。工业实用性如以上说明所示，根据本发明，能够提供一种对于使用具有电光效应、厚度为10 μ m以下的薄板的光导波元件，将在该元件的端面上反射的片状传播光除去，从而抑制了动作特性的劣化的光导波元件。
权利要求
1.一种光导波元件，其具有薄板和加强基板，该薄板具有电光效应且厚度为ΙΟμπι以下，在该薄板上形成有光导波，该加强基板经由粘接层而与该薄板粘接，所述光导波元件的特征在于， 在该光导波元件的侧面的局部形成有防反射膜。
2.根据权利要求1所述的光导波元件，其特征在于， 形成有该防反射膜的面是该光导波的配置有出射侧端部的面。
3 根据权利要求1或2所述的光导波元件，其特征在于， 该防反射膜跨该薄板和该加强基板这两者而形成。
4.根据权利要求Γ3中任一项所述的光导波元件，其特征在于， 该防反射膜通过以考虑到粘接剂的方式设计。
全文摘要
提供一种对于使用具有电光效应、厚度为10μm以下的薄板的光导波元件，将在该元件的端面反射的片状传播光除去，从而抑制动作特性的劣化的光导波元件。一种光导波元件，其具有薄板和加强基板，该薄板具有电光效应且厚度为10μm以下，在该薄板上形成有光导波，该加强基板经由粘接层而与该薄板粘接，所述光导波元件的特征在于，在该光导波元件的侧面的局部形成有防反射膜。
文档编号G02B6/122GK103033876SQ201210380538
公开日2013年4月10日 申请日期2012年9月29日 优先权日2011年9月30日
发明者竹村基弘, 藤野哲也, 神力孝 申请人:住友大阪水泥股份有限公司