一种障壁曝光机间隔计测单元的制作方法
【专利摘要】本实用新型涉及一种等离子显示屏制造用障壁曝光设备，尤其是涉及一种新型障壁曝光机间隔计测单元。本实用新型所要解决的技术问题是：针对现有技术存在的问题，提供了一种新型障壁曝光机间隔计测单元，可用间隔传感器支架对UV光线进行遮挡，同时间隔传感器支架结构的变化及母版间隔窗口面积减小，更能有效对UV光进行遮挡，克服即不出现图形残留又不出现曝光不足问题。本实用新型通过间隔传感器支架结构变化，将间隔传感器支架厚度进行减少，再增加一个小挡片，使得支架总遮光面积减小，可以防止间隔传感器支架遮挡面积太大，出现曝光不足的问题。
【专利说明】一种障壁曝光机间隔计测单元
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种等离子显示屏制造用障壁曝光设备，尤其是涉及一种障壁曝光机间隔计测单元。
【背景技术】
[0002]等离子显示器的障壁图形一般通过光刻工艺进行，经PR (感光)胶涂敷、PR曝光、显影、障壁刻蚀、剥膜形成，而PR曝光设备是障壁图形形成的关键设备。
[0003]PR曝光机工作时，为了防止基板与Mask (掩膜板)直接接触，在曝光之前需对基板与Mask之间的间隔进行测量。
[0004]间隔计测单元主要包括间隔传感器、间隔传感器支架、母版间隔窗口。各单元主要作用:母版间隔窗口为透明的，在测量基板与Mask之间的间隔过程中，光线可通过此窗口照射到图形表面；间隔传感器为发射与接收光线的装置，间隔计测时，间隔传感器发光部发射一束光线，光线通过母版间隔窗口照射到Mask表面、再经过Mask底部、基板图形表面、最后照射到基板底部；再由间隔传感器收光部接受由Mask表面、Mask底部、基板图形表面、基板底部反射回的光线(此光线也是通过母版间隔窗口反射回来)；间隔传感器将光线强度数据发送至其他处理器进行计算出间隔距离；间隔传感器支架起固定间隔传感器及遮挡UV光的作用。
[0005]目前量产尺寸产品，因图形与母版间隔窗口已重合，曝光时，为了防止UV光线通过母版间隔窗口直接照射到图形表面，需对母版间隔窗口进行遮挡。若遮挡面积太大，则影响到图形区域的曝光量而导致曝光不足；若遮挡面积太小，则UV光线会透过母版间隔窗口导致图形残留。因产品设计余度与曝光机设备配合余度较小，而没有专用部件对母版间隔窗口进行遮挡，从而会导致图形残留。由于受固定Mask的框架大小限制，间隔传感器不能无限制的往图形区域以外移动。
[0006]UV光线通过母版间隔窗口直接照射在图形上时，形成的图形残留存在于后板排气孔位置，对品质有严重的噪音隐患；而间隔传感器支架遮光面积太大导致的曝光不足，将造成荧光粉对位线形貌异常，进而使荧光粉喷涂异常，导致荧光粉再生率提高，同时对位线周围障壁形貌异常，出现障壁open (开路)不良。
实用新型内容
[0007]本实用新型所要解决的技术问题是:针对现有技术存在的问题，提供了一种障壁曝光机间隔计测单元，可用间隔传感器支架对UV光线进行遮挡，同时间隔传感器支架结构的变化及母版间隔窗口面积减小，更能有效对UV光进行遮挡，克服即不出现图形残留又不出现曝光不足问题。有效的防止了曝光后出现图形残留及曝光不足的问题，改善了曝光品质。
[0008]本实用新型采用的技术方案如下:
[0009]一种障壁曝光机间隔计测单元，其特征在于包括间隔传感器支架、间隔传感器和母版间隔窗口、挡片，所述挡片与间隔传感器分别贴于间隔传感器支架对立面，所述挡片位于间隔传感器支架近母版间隔窗口一侧；
[0010]所述间隔传感器支架满足H1+H2 ( H，H为间隔传感器支架结构的原始厚度，Hl为间隔传感器支架结构变化之后的厚度，H2为挡片厚度；Hl>2mm ;所述挡片距离间隔传感器支架顶端距离范围满足O < B3 < (B1-B2)，B=BLB为间隔传感器支架结构的原始宽度，BI为间隔传感器支架结构变化之后的宽度，B2为挡片宽度，B3为挡片距离间隔传感器支架顶
端距离。
[0011]所述H范围H > C，C为原母版间隔窗口的长度；B范围B > D，D为原母版间隔窗口的宽度。
[0012]所述的原母版间隔窗口上贴附耐高温胶带，所述的耐高温胶带完全覆盖贴附于母版间隔窗口与间隔传感器之间同侧的近掩膜图形区域一侧。
[0013]所述C1+C2≥C，D=Dl, D2≥D ；C1为贴附高温胶带后的母版间隔窗口长度，C2为耐高温胶带长度，C为原母版间隔窗口长度，Dl为贴附高温胶带后的母版间隔窗口宽度，D2为耐高温胶带宽度。
[0014]所述原母版间隔窗口长度C的范围C ^ 3mm, D ^ 3mm, Cl ^ 2mm。
[0015]综上所述，由于采用了上述技术方案，本实用新型的有益效果是:
[0016]I)所述的间隔传感器支架，可用于曝光时遮挡UV光，防止UV光线直接照射到图形表面，导致图形残留。
[0017]2)所述的间隔传感器支架结构变化，将间隔传感器支架厚度进行减少，再增加一个小挡片，使得支架总遮光面 积减小，可以防止间隔传感器支架遮挡面积太大，出现曝光不足的问题。
[0018]3)所述的母版间隔窗口采用贴附耐高温胶带，使母版间隔窗口长度减少，使母版间隔窗口面积减小，增大间隔传感器支架移动余度，更有效的防止图形残留。彻底的解决了障壁曝光机现有量产尺寸产品图形残留及曝光不足的问题，有效的提升曝光产品品质。
【专利附图】
【附图说明】
[0019]本实用新型将通过例子并参照附图的方式说明，其中:
[0020]图1是原有间隔传感器支架结构示意图。
[0021]图2是本实用新型的间隔传感器支架结构示意图。
[0022]图3是原有的母版间隔窗口尺寸示意图。
[0023]图4是本实用新型的母版间隔窗口尺寸示意图。
[0024]图5是原有间隔传感器支架遮挡母版间隔窗口示意图。
[0025]图6是本实用新型间隔传感器支架遮挡母版间隔窗口示意图。
【具体实施方式】
[0026]为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。
[0027]C2是不透光，比如UV灯光线。[0028]具体事例:
[0029]如附图所示，一种障壁曝光机间隔计测单元，包括间隔传感器支架和母版间隔窗□。
[0030]用间隔传感器支架在曝光时遮挡UV光，防止UV光直接照射到图形表面形成图形残留；对间隔传感器支架结构进行调整，将原间隔传感器支架厚度H由8_减少到间隔传感器支架结构变化之后的厚度Hl为4mm ;间隔传感器支架宽度B保持90mm不变；在距离间隔传感器支架顶部B3位置25mm处增加一个挡片，挡片厚度H2为4mm、宽度B2为20mm，使得遮光面积减小90*8- (90*4+20*4) =280 mm2，可以防止间隔传感器支架遮挡面积太大，出现曝光不足的问题。
[0031]在母版间隔窗口右侧长度2_，宽度8_的位置处完全覆盖贴附耐高温胶带，耐高温月父市长度C2=2mm，览度D2=8mm，使母版间隔窗口长度由原母版间隔窗口 C为6mm减少到贴附高温胶带后的母版间隔窗口 Cl为4mm，母版间隔窗口宽度保持8mm不变D=Dl=8mm，其面积减小8*6-8*4=16 mm2，更有效的防止图形残留，同时增大间隔传感器支架移动余度。
[0032]使用新型障壁曝光机间隔计测单元后，彻底解决了现有量产尺寸产品图形残留及曝光不足的问题，有效的提升了曝光产品品质。
[0033]本说明书中公开的所有特征，除了互相排斥的特征以外，均可以以任何方式组合。
[0034]本说明书(包括任何附加权利要求、摘要和附图)中公开的任一特征，除非特别叙述，均可被其他等效或具有类似目的的替代特征加以替换。即，除非特别叙述，每个特征只是一系列等效或类似特征中的一个例子而已。
【权利要求】
1.一种障壁曝光机间隔计测单元，其特征在于包括间隔传感器支架、间隔传感器和母版间隔窗口，其特征在于还包括挡片，所述挡片与间隔传感器分别贴于间隔传感器支架对立面，所述挡片位于间隔传感器支架近母版间隔窗口一侧。
2.根据权利要求1所述的一种障壁曝光机间隔计测单元，其特征在于所述间隔传感器支架满足H1+H2 ≤H，H为间隔传感器支架结构的原始厚度，Hl为间隔传感器支架结构变化之后的厚度，H2为挡片厚度；Hl>2mm ;所述挡片距离间隔传感器支架顶端距离范围满足O< B3 < (B1-B2)，B=B1，B为间隔传感器支架结构的原始宽度，BI为间隔传感器支架结构变化之后的宽度，B2为挡片宽度，B3为挡片距离间隔传感器支架顶端距离。
3.根据权利要求2所述的一种障壁曝光机间隔计测单元，其特征在于所述H范围H>C，C为原母版间隔 窗口的长度；B范围B > D，D为原母版间隔窗口的宽度。
4.根据权利要求3所述的一种障壁曝光机间隔计测单元，其特征在于所述的原母版间隔窗口上贴附耐高温胶带，所述的耐高温胶带完全覆盖贴附于母版间隔窗口与间隔传感器之间同侧的近掩膜图形区域一侧。
5.根据权利要求4所述的一种障壁曝光机间隔计测单元，其特征在于C1+C2^ C，D=Dl, D2 ≥D；C1为贴附高温胶带后的母版间隔窗口长度，C2为耐高温胶带长度，C为原母版间隔窗口长度，Dl为贴附高温胶带后的母版间隔窗口宽度，D2为耐高温胶带宽度。
6.根据权利要求5所述的一种障壁曝光机间隔计测单元，其特征在于所述原母版间隔窗口长度 C 的范围 C≥3mm, D ≥3mm, Cl≥ 2mm。
【文档编号】G03F7/20GK203643741SQ201320721170
【公开日】2014年6月11日 申请日期:2013年11月15日 优先权日:2013年11月15日
【发明者】刘衍伟, 韩荣, 陈富贵, 段冰, 魏兴龙 申请人:四川虹欧显示器件有限公司