显示面板及显示面板的制作方法
【专利摘要】本发明提供一种显示面板及显示面板的制作方法，该显示面板包括相对设置的彩膜基板和阵列基板、设置于彩膜基板与阵列基板之间的液晶层，所述彩膜基板或所述阵列基板上形成有黑矩阵，其中所述液晶层内的预定位置处设置有聚合物阻隔层，用以阻止所述液晶层内液晶分子的下沉，所述预定位置相对于所述彩膜基板与所述阵列基板垂直，所述黑矩阵的制成材料内包括用于吸附形成所述聚合物阻隔层、滴注在所述预定位置的磁性预聚物的磁性氧化物。本发明通过在液晶层内设置聚合物阻隔层，能够解决现有技术液晶分子下沉造成的重力mura问题。
【专利说明】显示面板及显示面板的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及显示器领域，尤其是指一种显示面板及显示面板的制作方法。
【背景技术】
[0002]液晶显示器在使用过程中，由于重力作用，液晶分子会从显示屏的上侧往下侧沉积，导致下侧的液晶量过多而造成重力mura (姆拉)；此外大尺寸液晶显示器在工作时功率较大，零部件较多，因此长时间工作时会有较高的温度，当温度达到一定值时液晶会有受热产生膨胀的现象，膨胀以后的液晶分子也会从显示屏的上侧往下侧沉积，从而也会导致下侧的液晶量过多而造成重力mura。
[0003]当重力mura严重时，液晶就会不断向液晶面板的边缘扩散，当液晶与面板边缘的封框胶相互接触时，就会造成封框胶的污染或封框胶断裂。
【发明内容】
[0004]本发明技术方案的目的是提供一种显示面板及显示面板的制作方法，解决现有技术液晶分子下沉造成的重力mura问题。
[0005]本发明提供一种显示面板，包括相对设置的彩膜基板和阵列基板、设置于彩膜基板与阵列基板之间的液晶层，所述彩膜基板或所述阵列基板上形成有黑矩阵，其中所述液晶层内的预定位置处设置有聚合物阻隔层，用以阻止所述液晶层内液晶分子的下沉，所述预定位置相对于所述彩膜基板与所述阵列基板垂直，所述黑矩阵的制成材料内包括用于吸附形成所述聚合物阻隔层、滴注在所述预定位置的磁性预聚物的磁性氧化物。
[0006]优选地，上述所述的显示面板，所述聚合物阻隔层的至少一部分垂直于液晶分子的下沉方向。
[0007]优选地，上述所述的显示面板，所述聚合物阻隔层在形成有所述黑矩阵的基板上的正投影与所述黑矩阵的位置相对应。
[0008]优选地，上述所述的显示面板，所述聚合物阻隔层包括由所述磁性预聚物经聚合反应形成的聚合物材料网格。
[0009]优选地，上述所述的显示面板，所述聚合物阻隔层还包括间隔设置在聚合物材料网格之间的隔垫物。
[0010]本发明还提供一种如上所述显示面板的制作方法，包括:
[0011]制成阵列基板；
[0012]制成彩膜基板，其中彩膜基板上形成黑色矩阵的材料中添加磁性氧化物；
[0013]在彩膜基板或阵列基板上滴注液晶，在所述预定位置所滴注液晶中添加磁性预聚物；
[0014]阵列基板与彩膜基板相对盒，磁性氧化物吸附磁性预聚物，同时磁性预聚物发生聚合反应时，形成在所述预定位置的聚合物阻隔层。
[0015]优选地，上述所述的制作方法，所述磁性氧化物为铁氧化物，所述磁性预聚物为磁性纳米丙烯酸酯预聚物。
[0016]优选地，上述所述的制作方法，所述阵列基板与彩膜基板相对盒的步骤中，包括封框胶固化的过程，所述磁性预聚物发生聚合反应的过程与封框胶固化的过程同时执行。
[0017]优选地，上述所述的制作方法，所述聚合物阻隔层的至少一部分垂直于液晶分子的下沉方向。
[0018]本发明具体实施例上述技术方案中的至少一个具有以下有益效果:
[0019]通过在液晶层内设置聚合物阻隔层来阻止液晶分子下沉，以避免液晶分子从显示面板的上侧往下侧沉积，导致下侧的液晶量过多而造成重力mura以及封框胶污染、断裂等问题。
【专利附图】
【附图说明】
[0020]图1表示本发明第一实施例所述显示面板的立体结构示意图；
[0021]图2表示本发明具体实施例所述显示面板的通常使用状态的示意图；
[0022]图3表示本发明所述显示面板中，聚合物阻隔层所形成的第一种形状示意图；
[0023]图4表示本发明第二实施所述显示面板的俯视示意图；
[0024]图5表示图4中B-B向的截面示意图；
[0025]图6表示本发明具体实施例所述显示面板的制作方法的流程示意图；
[0026]图7表示本发明所述显示面板中，聚合物阻隔层所形成的第二种形状示意图；
[0027]图8表示本发明所述显示面板中，聚合物阻隔层所形成的第三种形状示意图。
【具体实施方式】
[0028]为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例对本发明进行详细描述。
[0029]图1为本发明第一实施例所述显示面板的立体结构示意图。参阅图1所示,本发明所述显示面板包括相对设置的彩膜基板10和阵列基板20、设置于彩膜基板10与阵列基板20之间的液晶层30，其中所述液晶层30内的预定位置处设置有相对于所述彩膜基板10与所述阵列基板20垂直的聚合物阻隔层40，用以阻止所述液晶层30内液晶分子的下沉。
[0030]较佳地，显示面板的黑矩阵制成材料内包括用于吸附形成所述聚合物阻隔层、滴注在所述预定位置的磁性预聚物的磁性氧化物，通过黑矩阵中的磁性氧化物吸附在液晶层内滴注的磁性预聚物形成该聚合物阻隔层40。
[0031]本发明所述显示面板，通过在液晶层30内设置聚合物阻隔层40来阻止液晶分子的下沉，以避免液晶分子从显示面板的上侧往下侧沉积，导致下侧的液晶量过多而造成重力mura以及封框胶污染、断裂等问题。
[0032]优选地，聚合物阻隔层40的至少一部分垂直于液晶分子的下沉方向，以达到最佳地避免液晶分子下沉的效果。
[0033]如图2所示为显示面板的通常使用状态的示意图。本领域技术人员可以理解，显示面板的通常观看状态为显示面板相对于地面竖直设置，也即彩膜基板10和阵列基板20相对于地面垂直，基于此，采用本发明所述显示面板，为避免液晶层30内的液晶分子的下沉，优选地，聚合物阻隔层40的至少一部分为水平，且更佳地，如图2和图3所示，液晶层30内包括多条水平设置的聚合物阻隔层40。
[0034]本领域技术人员还可以理解，在显示面板的阵列基板20中，包括多条相互平行的数据线，还包括多条相互平行且与数据线相垂直的栅线，在显示面板的通常使用状态中，也即相对于地面竖直时，数据线为竖直，栅线为水平，基于此，采用本发明所述显示面板，优选地所述聚合物阻隔层40的至少一部分与栅线相水平。
[0035]本发明所述显示面板中，所述聚合物阻隔层40在液晶层30内的设置位置以不影响显示效果为准。
[0036]图4为本发明第二实施例所述显示面板俯视结构示意图。与第一实施例相同，第二实施例所述显示面板包括相对设置的彩膜基板10和阵列基板20、设置于彩膜基板10与阵列基板20之间的液晶层，其中所述液晶层内的预定位置处设置有相对于所述彩膜基板10与所述阵列基板20垂直的聚合物阻隔层40，用以阻止所述液晶层内液晶分子的下沉。
[0037]本领域人员可以理解，在显示面板的彩膜基板10或阵列基板20上形成有黑矩阵11，采用本发明第二实施例所述显示面板，优选地，如图4所示，所述聚合物阻隔层40在形成有所述黑矩阵11的基板(也即为彩膜基板10或阵列基板20)上的正投影与黑矩阵11的位置相对应。
[0038]采用第一实施例所述显示面板，所述聚合物阻隔层40形成为如图1所示的聚合物材料网格结构；采用第二实施例所述显示面板，所述聚合物阻隔层40形成为如图4和图5所示，聚合物阻隔层40由如图1所示的聚合物材料网格结构与间隔设置在聚合物材料网格之间的隔垫物31构成，以使聚合物阻隔层40的设置不影响显示面板的显示效果。
[0039]本发明所述显示面板，所述聚合物阻隔层40可以由磁性预聚物材料经过聚合反应形成，成为聚合物网络结构，具体形成聚合物阻隔层40的方法可以为:在制作显示面板的黑矩阵的材料中加入磁性氧化物；在液晶滴注时，在需要形成聚合物阻隔层40的预定区域滴注加入了磁性预聚物的液晶分子，使彩膜基板10与阵列基板20对盒过程中，混合有磁性预聚物的液晶分子在均匀扩散时，磁性预聚物被吸附在黑矩阵上侧的区域，待封框胶固化，升温升压的同时，磁性预聚物发生聚合反应形成聚合物网络结构，所形成结构如图4和图5所示，达到防止液晶分子下沉的目的。
[0040]因此，本发明第二实施例所述显示面板中，所述黑矩阵的制成材料内包括用于吸附形成所述聚合物阻隔层、滴注在所述预定位置的磁性预聚物的磁性氧化物。
[0041]以下将对本发明上述实施例所述显示面板的制作方法进行详细描述。
[0042]图6所示为本发明所述显示面板的制作方法的流程示意图，结合图4及图5，所述制作方法包括以下步骤:
[0043]制成阵列基板20 ;如包括依次采用镀膜、上光阻、显影、蚀刻和去光阻等方式形成薄膜晶体管的过程；本领域技术人员应该会了解阵列基板的制作过程，该部分并非为本发明的重点，在此不详细描述；
[0044]制成彩膜基板10 ;所述彩膜基板的制作过程包括制成彩膜和黑矩阵的过程，本领域技术人员应该会了解彩膜基板的具体制作过程，该部分并非为本发明的重点，在此不详细描述；相较于现有技术形成彩膜基板的过程，采用本发明，在彩膜基板上形成黑矩阵11的材料中添加磁性氧化物，如为铁氧化物；
[0045]在彩膜基板10或阵列基板20上滴注液晶，在所述预定位置所滴注液晶中添加磁性预聚物；所述磁性预聚物例如为磁性纳米丙烯酸酯预聚物，具有在常温及常压状态能够均匀扩散，在高温及高压状态时发生聚合反应的特点；在该步骤中，结合图4和图5，所述预定位置为欲形成聚合物阻隔层的区域，具体该预定区域在黑矩阵11所在基板上的投影位于其中一行或其中一列黑色矩阵所在区域的附近；
[0046]阵列基板20与彩膜基板10相对盒，液晶分子以及磁性预聚物由粒状扩散开，在该混合物的扩散过程中，黑矩阵11上的磁性氧化物吸附液晶分子中的磁性预聚物，当升温升压时磁性预聚物发生聚合反应，形成在所述预定位置的聚合物阻隔层40。
[0047]本领域技术人员可以理解，所述阵列基板20的制作过程还包括封框胶的涂覆过程，所述阵列基板与彩膜基板相对盒的步骤中，包括封框胶固化的过程，采用本发明上述的制作方法，所述磁性预聚物发生聚合反应的过程与封框胶固化的过程同时执行，也即在对阵列基板20与彩膜基板10相对盒，进行升温升压，使封框胶在固化的同时，磁性预聚物也会发会聚合反应在黑矩阵11上的上侧区域形成聚合物网络结构。
[0048]采用上述制作方法所形成显示面板的结构如图4及图5所示，所述聚合物阻隔层40在形成有所述黑矩阵11的基板上的正投影与所述黑矩阵11的位置相对应，此外，所述聚合物阻隔层11除包括如上形成的聚合物材料网格外，还可以包括间隔设置在聚合物材料网格之间的隔垫物31。
[0049]本发明具体实施例所述显示面板及制作方法，所形成聚合物阻隔层40的分布结构除可以为如图3所示形状之外，还可以为图7和图8所示分布形状，且并不以此为限，具体依据显示面板的设计要求设定。
[0050]本发明具体实施例所述显示面板及制作方法具有以下有益效果:
[0051]聚合物阻隔层40的制备过程简单，只需要在需要阻隔的区域滴注液晶与磁性预聚物的混合物，磁性预聚物与封框胶一起固化即可，不增加额外的工艺过程；
[0052]所形成的聚合物阻隔层40能阻止液晶的重力下沉等现象，并且在黑矩阵区域成型的聚合物阻隔层不会影响显示面板的光学性质；
[0053]由于聚合物阻隔层40是在液晶分子扩散均匀后与封框胶一起固化成型，因此该制备过程不会影响液晶分子的扩散；
[0054]聚合物阻隔层40的形成过程，不会改变现有隔垫物的结构，因此不会导致玻璃基板变形。
[0055]因此采用本发明所述制作方法形成的显示面板，能够解决现有技术液晶下沉造成的重力mura问题，综合性能以及效果优异。
[0056]以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本【技术领域】的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。
【权利要求】
1.一种显示面板，其特征在于，包括相对设置的彩膜基板和阵列基板、设置于彩膜基板与阵列基板之间的液晶层，所述彩膜基板或所述阵列基板上形成有黑矩阵，其中所述液晶层内的预定位置处设置有聚合物阻隔层，用以阻止所述液晶层内液晶分子的下沉，所述预定位置相对于所述彩膜基板与所述阵列基板垂直，所述黑矩阵的制成材料内包括用于吸附形成所述聚合物阻隔层、滴注在所述预定位置的磁性预聚物的磁性氧化物。
2.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述聚合物阻隔层的至少一部分垂直于液晶分子的下沉方向。
3.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述聚合物阻隔层在形成有所述黑矩阵的基板上的正投影与所述黑矩阵的位置相对应。
4.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述聚合物阻隔层包括由所述磁性预聚物经聚合反应形成的聚合物材料网格。
5.如权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述聚合物阻隔层还包括间隔设置在聚合物材料网格之间的隔垫物。
6.一种如权利要求1所述显示面板的制作方法，其特征在于，包括: 制成阵列基板； 制成彩膜基板，其中彩膜基板上形成黑色矩阵的材料中添加磁性氧化物； 在彩膜基板或阵列基板上滴注液晶，在所述预定位置所滴注液晶中添加磁性预聚物； 阵列基板与彩膜基板相对盒，磁性氧化物吸附磁性预聚物，同时磁性预聚物发生聚合反应时，形成在所述预定位置的聚合物阻隔层。
7.如权利要求6所述的制作方法，其特征在于，所述磁性氧化物为铁氧化物，所述磁性预聚物为磁性纳米丙烯酸酯预聚物。
8.如权利要求6所述的制作方法，其特征在于，所述阵列基板与彩膜基板相对盒的步骤中，包括封框胶固化的过程，所述磁性预聚物发生聚合反应的过程与封框胶固化的过程同时执行。
9.如权利要求6所述的制作方法，其特征在于，所述聚合物阻隔层的至少一部分垂直于液晶分子的下沉方向。
【文档编号】G02F1/1339GK103913901SQ201410111355
【公开日】2014年7月9日 申请日期:2014年3月24日 优先权日:2014年3月24日
【发明者】王新星, 姚继开 申请人:京东方科技集团股份有限公司