本发明涉及一种紫外曝光机,尤其涉及一种基于micro-led无掩模投影扫描式紫外曝光机。
背景技术:
在微电子、光学、线路板等微加工领域,紫外曝光机具有非常重要的应用。传统掩模式曝光机使用的是大尺寸平行紫外光源加掩模的曝光形式。而目前现有无掩模曝光机采用的是光源、光源准直系统、dmd芯片以及投影镜头的复杂结构,导致光源能量到工作表面能量损失过高,同时由于光源功率和dmd芯片最大承受功率受限,无法达到足够的曝光强度。
技术实现要素:
本发明要解决的问题是:
现有传统掩模式曝光机和无掩模紫外曝光机,系统效率低,曝光强度不足等问题。
而本发明采用一种基于micro-led无掩模投影扫描式紫外曝光机,micro-led是在芯片集成高密度微小尺寸led阵列,并保证每一个led像素可定址,并单独驱动点亮。底层用cmos集成电路工艺制成驱动电路。cmos集成电路工艺主要包括硅基cmos电路工艺和玻璃基cmos电路工艺。micro-led发出的光通过放大或缩小镜头作用到待曝光工件表面,没有经过复杂光学系统的损耗,因此本发明所述曝光机可以实现更高的能量利用效率、更高的曝光强度、更快的加工速度。
本发明提供一种基于micro-led无掩模投影扫描式紫外曝光机,该系统包括micro-led、计算机及控制软件、放大或缩小镜头、待曝光工件表面和工作台。
所述micro-led是在芯片集成高密度微小尺寸led阵列,并保证每一个led像素可定址,并单独驱动点亮的一种微型显示芯片及其各种封装产品。
所述micro-led用作光源及图形投影,光波长为190~420nm,每个led像素尺寸为:长≥2μm,宽≥2μm。led阵列的行数m≥2,列数n≥2。
所述计算机及控制软件包括运动控制和图形控制,运动控制是指在x、y轴上的运动控制,图形控制是指图形分切,瞬时图形数据向micro-led传输。
所述用计算机及控制软件控制micro-led每个或若干个刷新周期刷新下一位置的图形,使各图形连续拼接成所需曝光图形。
所述放大或缩小镜头是为使micro-led像素尺寸符合实际曝光需求,用于放大或缩小曝光像素尺寸的镜头。
所述待曝光工件表面是micro-led通过放大或缩小镜头成像所投射到待曝光工件表面所形成的工作面。
所述工作台用于放置待曝光工件表面,并固定micro-led的机械运动部件。
本发明所提供一种基于micro-led无掩模投影扫描式紫外曝光机的主要优点和积极效果如下:由于无复杂的光机损耗,可以实现更高的能量利用效率、更高的曝光强度、更快的加工速度。并且结构小巧,易于和机器人相结合接入自动化流水线。
附图说明
为进一步说明本发明的技术内容,以下结合实施例及附图详细说明如后,其中:
图1为本发明的结构示意图。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚明白,以下结合具体实施例,并参照附图,对本发明进一步详细说明。
请参阅图1所示,本发明提供一种基于micro-led无掩模投影扫描式紫外曝光机,包括:
-micro-led是在芯片集成高密度微小尺寸led阵列,并保证每一个led像素可定址,并单独驱动点亮的一种微型显示芯片及其各种封装产品;
-micro-led用作光源及图形投影,光波长为190~420nm,每个led像素尺寸为:长≥2μm,宽≥2μm。led阵列的行数m≥2,列数n≥2;
-计算机及控制软件包括运动控制和图形控制,运动控制是指在x、y轴上的运动控制,图形控制是指图形分切,瞬时图形数据向micro-led传输;
-用计算机及控制软件控制micro-led每个或若干个刷新周期刷新下一位置的图形,使各图形连续拼接成所需曝光图形;
-所述放大或缩小镜头是为使micro-led像素尺寸符合实际曝光需求,用于放大或缩小曝光像素尺寸的镜头;
-待曝光工件表面是micro-led通过放大或缩小镜头成像所投射到待曝光工件表面所形成的工作面;
-工作台用于放置待曝光工件表面,并固定micro-led的机械运动部件;
以上所述的具体实施例,对于本发明的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明,所应理解的是,以上所述仅为本发明的具体实施例而已,并不局限于本发明,凡在本发明的精神和原则之内,所做的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。