本实用新型涉及一种利用全息干涉记录手段制备小占宽比全息光栅的设备。
背景技术：
目前，与刻划光栅相比，全息光栅具有能消除鬼线，降低杂散光，分辨率高，适用光谱范围宽，生产效率高等优点。全息光栅的占宽比(线宽与周期之比)是全息光栅中一项重要参数，全息光栅占宽比不同，全息光栅的衍射效率等性质也不同。然而采用全息干涉记录手段的方式制备全息光栅，占宽比一般只能控制在0.2～0.6范围之间。原因在于：利用全息干涉记录手段方法在制备全息光栅的过程中，随着曝光时间的增加，全息光栅的占宽比随之减小，这个过程也会导致光栅槽型地不断变化，由于干涉条纹的暗条纹中心和两边的曝光量不同，随着曝光时间的增加，光栅的波峰变得越来越窄(即光栅的线宽越来越小)，光栅周期不变的情况下，光栅的占宽比也就随之越来越小；而当使得占宽比(线宽与周期之比)小于0.2时，全息光栅沟槽将发生坍塌，光栅形貌无法保留。因此传统的全息干涉记录手段方法制备的全息光栅很难得到小于0.2占宽比的全息光栅。目前，为了得到小占宽比的光栅，已有的方法有离子束刻蚀法、利用导波耦合角度法等，但是，离子束刻蚀法需要增加额外的设备，大大增加了制备成本；利用导波耦合角度实时控制光刻胶版光栅掩模的占宽比的方法，制备工艺复杂，不易于实现。
技术实现要素：
本实用新型的主要目的在于克服现有技术中的上述缺陷，提出一种利用全息干涉记录手段制备小占宽比全息光栅的设备。
一种利用全息干涉记录手段制备小占宽比全息光栅的设备，包括：光线产生单元，分束单元，第一光路改变单元，第二光路改变单元，记录材料以及为位置移动单元；所述分束单元设置在光线产生单元，用于将光线产生单元产生的光线分成两束光线，所述第一光路改变单元设置在分束单元的第一出射面，所述第二光路改变单元设置在分束单元的第二出射面，记录材料设置在所述第一光路改变单元和所述第二光路改变单元的共同出射面上，使得两出射光线以一定的角度在记录材料上发生干涉，位置移动单元连接记录材料，调整记录材料的位置。
所述光线产生单元为ar+激光器，能够产生458nm波长的激光。
所述光路改变单元包括反射镜、扩束镜和准直透镜，反射镜设置在分束单元的出射面，所述扩束镜设置在发射镜的出射面，用于将光线扩束，所述准直器设置在扩束镜的出射面，用于将光线进行准直从而形成平行光线。
所述位置移动单元为步进电机，能够垂直或水平移动记录材料。
由上述对本实用新型的描述可知，与现有技术相比，本实用新型具有如下有益效果：通过上述设备能够实现全息干涉记录手段制备小占宽比的全息光栅，不仅对制备材料没有特殊要求，而且不需要额外的设备和特殊元件，利用该中设备制备小占宽比全息光栅过程简单，制备速度快，且制备成本低。
附图说明
图1为全息干涉记录手段制备小占宽比全息光栅的设备及连接图。
具体实施方式
以下通过具体实施方式对本实用新型作进一步的描述。
一种利用全息干涉记录手段制备小占宽比全息光栅的设备，包括：光线产生单元，分束单元，第一光路改变单元，第二光路改变单元，记录材料以及为位置移动单元；所述分束单元设置在光线产生单元，用于将光线产生单元产生的光线分成两束光线，所述第一光路改变单元设置在分束单元的第一出射面，所述第二光路改变单元设置在分束单元的第二出射面，记录材料设置在所述第一光路改变单元和所述第二光路改变单元的共同出射面上，使得两出射光线以一定的角度在记录材料上发生干涉，位置移动单元连接记录材料，调整记录材料的位置。
所述光线产生单元为ar+激光器1，能够产生458nm波长的激光。
所述光路改变单元包括反射镜2、扩束镜3、4和准直透镜5、6，反射镜设置在分束单元的出射面，所述扩束镜3、4分别设置在反射镜2的出射面，用于将光线扩束，所述准直器5、6分别设置在扩束镜3、4的出射面，用于将光线进行准直从而形成平行光线。
所述位置移动单元为步进电机10，能够垂直或水平移动记录材料9。
工作原理为：光源采用458nm波长的ar+激光器1，光线由激光器发出后经分束镜2将光线分为两束，两束光线分别经过反射镜3、反射镜4后，光线反射到扩束镜5、扩束镜6将光线进行扩束，扩束后的光线经过准直透镜7、准直透镜8将扩束后的光线进行准直从而形成平行光线，准直后的平行光线以一定角度入射到记录材料9上发生干涉，再一定曝光时间后，通过步进电机10水平或垂直调整记录材料9的位置，然后进行第二次曝光，随后进行显影处理即得到小占宽比的全息光栅。
由上述对本实用新型的描述可知，与现有技术相比，本实用新型具有如下有益效果：通过上述设备能够实现全息干涉记录手段制备小占宽比的全息光栅，不仅对制备材料没有特殊要求，而且不需要额外的设备和特殊元件，利用该中设备制备小占宽比全息光栅过程简单，制备速度快，且制备成本低。
上述仅为本实用新型的具体实施方式，但本实用新型的设计构思并不局限于此，凡利用此构思对本实用新型进行非实质性的改动，均应属于侵犯本实用新型保护范围的行为。
1.一种利用全息干涉记录手段制备小占宽比全息光栅的设备，其特征在于，所述全息干涉记录手段制备小占宽比全息光栅的设备包括：光线产生单元，分束单元，第一光路改变单元，第二光路改变单元，记录材料以及为位置移动单元；所述分束单元设置在光线产生单元，用于将光线产生单元产生的光线分成两束光线，所述第一光路改变单元设置在分束单元的第一出射面，所述第二光路改变单元设置在分束单元的第二出射面，记录材料设置在所述第一光路改变单元和所述第二光路改变单元的共同出射面上，使得两出射光线以一定的角度在记录材料上发生干涉，位置移动单元连接记录材料，调整记录材料的位置。
2.根据权利要求1所述的一种利用全息干涉记录手段制备小占宽比全息光栅的设备，其特征在于，所述光线产生单元为ar+激光器，能够产生458nm波长的激光。
3.根据权利要求1所述的一种利用全息干涉记录手段制备小占宽比全息光栅的设备，其特征在于，所述光路改变单元包括反射镜、扩束镜和准直透镜，反射镜设置在分束单元的出射面，所述扩束镜设置在发射镜的出射面，用于将光线扩束，所述准直透镜设置在扩束镜的出射面，用于将光线进行准直从而形成平行光线。
4.根据权利要求1所述的一种利用全息干涉记录手段制备小占宽比全息光栅的设备，其特征在于，所述位置移动单元为步进电机，能够垂直或水平移动记录材料。