一种复合镀膜镜片的制作方法

本实用新型涉及镜片技术领域，尤其涉及一种复合镀膜镜片。

背景技术：

玻璃镜片是一中和常用的眼镜镜片，玻璃镜片相对于树脂镜片更耐刮擦，折射率相对较高，普通片为1.523，超薄片为1.72以上，在相同的读数下，玻璃镜片的厚度要比树脂镜片薄。

现有的玻璃镜片在使用时，由于玻璃镜片的表面只进行单一的镀膜，导致玻璃镜片的镀膜特性较为匮乏，从而导致玻璃镜片的功能性较为单一，降低了玻璃镜片的适用范围。

技术实现要素：

本实用新型的目的是为了解决现有技术中玻璃镜片的功能单一导致使用范围较小的问题，而提出的一种复合镀膜镜片。

为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：

一种复合镀膜镜片，包括玻璃基片，所述玻璃基片下侧的侧壁镀有抗uv膜，所述抗uv膜的厚度为0.5-0.65μm，所述抗uv膜远离玻璃基片一侧的侧壁涂覆有抗电磁辐射膜，所述抗电磁辐射膜的厚度为0.7-0.85μm，所述抗电磁辐射膜下侧的侧壁粘接有离型膜，所述玻璃基片上侧的侧壁镀有加硬膜，所述加硬膜的厚度为1-1.2μm，所述加硬膜远离玻璃基片一侧的侧壁镀有减反射膜，所述减反射膜的厚度为0.2-0.5μm，所述减反射膜远离加硬膜的一侧涂覆有抗污膜，所述抗污膜的厚度为0.005-0.01μm。

优选的，所述抗uv膜的具体材质为高纯uv-531。

优选的，所述抗电磁辐射膜为铟锡氧化物半导体透明导电膜。

优选的，所述加硬膜的具体材质为有机基质和包含硅元素的无机超微粒物的混合物。

优选的，所述减反射膜的具体材质为氧化钛化合物。

优选的，所述抗污膜的具体材质为氟化物。

与现有技术相比，本实用新型提供了一种复合镀膜镜片，具备以下有益效果：

该复合镀膜镜片，通过设置的玻璃基片、抗uv膜、抗电磁辐射膜、离型膜、加硬膜、减反射膜和抗污膜，高纯uv-531材质的抗uv膜具有色浅、无毒、相容性好、迁移性小、易于加工等特点，能够有效的吸收阳光中的紫外线，提高玻璃镜片在阳光下使用的舒适度；抗电磁辐射膜为铟锡氧化物半导体透明导电膜，根据电磁干扰遮蔽原理，能够将低频辐射及微波进行反射和吸收，有效地滤除电磁辐射波；离型膜能够对玻璃镜片进行保护，避免玻璃镜片在运输的过程中受损；加硬膜能够提高玻璃镜片的耐磨性能，还能够提高透光性；氧化钛化合物材质的减反射膜可以减少光能在镜片表面的反射损失，以提高成像强度和分辨率；氟化物为主的抗污膜能够可将多孔的减反射膜层覆盖起来，并且能够减少水和油与镜片的接触面积，使油和水滴不易粘附于镜片表面，从而提高了玻璃镜片的抗污性能，本镜片具有多种不同的功能特性，能够适用于不同的使用环境，有效的提高了玻璃镜片的适用范围。

该装置中未涉及部分均与现有技术相同或可采用现有技术加以实现，本实用新型具有多种不同的功能特性，能够适用于不同的使用环境，有效的提高了玻璃镜片的适用范围。

附图说明

图1为本实用新型提出的一种复合镀膜镜片的结构示意图；

图2为图1中a部分的结构示意图。

图中：1玻璃基片、2抗uv膜、3抗电磁辐射膜、4离型膜、5加硬膜、6减反射膜、7抗污膜。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

参照图1-2，一种复合镀膜镜片，包括玻璃基片1，玻璃基片1下侧的侧壁镀有抗uv膜2，抗uv膜2的厚度为0.5-0.65μm，抗uv膜2远离玻璃基片1一侧的侧壁涂覆有抗电磁辐射膜3，抗电磁辐射膜3的厚度为0.7-0.85μm，抗电磁辐射膜3下侧的侧壁粘接有离型膜4，玻璃基片1上侧的侧壁镀有加硬膜5，加硬膜5的厚度为1-1.2μm，加硬膜5远离玻璃基片1一侧的侧壁镀有减反射膜6，减反射膜6的厚度为0.2-0.5μm，减反射膜6远离加硬膜5的一侧涂覆有抗污膜7，抗污膜7的厚度为0.005-0.01μm，高纯uv-531材质的抗uv膜2具有色浅、无毒、相容性好、迁移性小、易于加工等特点，能够有效的吸收阳光中的紫外线，提高玻璃镜片在阳光下使用的舒适度；抗电磁辐射膜3为铟锡氧化物半导体透明导电膜，根据电磁干扰遮蔽原理，能够将低频辐射及微波进行反射和吸收，有效地滤除电磁辐射波；离型膜能够对玻璃镜片进行保护，避免玻璃镜片在运输的过程中受损；加硬膜5能够提高玻璃镜片的耐磨性能，还能够提高透光性；氧化钛化合物材质的减反射膜6可以减少光能在镜片表面的反射损失，以提高成像强度和分辨率；氟化物为主的抗污膜7能够可将多孔的减反射膜层覆盖起来，并且能够减少水和油与镜片的接触面积，使油和水滴不易粘附于镜片表面，从而提高了玻璃镜片的抗污性能，本镜片具有多种不同的功能特性，能够适用于不同的使用环境，有效的提高了玻璃镜片的适用范围。

抗uv膜2的具体材质为高纯uv-531。

抗电磁辐射膜3为铟锡氧化物半导体透明导电膜。

加硬膜5的具体材质为有机基质和包含硅元素的无机超微粒物的混合物。

减反射膜6的具体材质为氧化钛化合物。

抗污膜7的具体材质为氟化物。

本实用新型中，高纯uv-531材质的抗uv膜2具有色浅、无毒、相容性好、迁移性小、易于加工等特点，能够有效的吸收阳光中的紫外线，提高玻璃镜片在阳光下使用的舒适度；抗电磁辐射膜3为铟锡氧化物半导体透明导电膜，根据电磁干扰遮蔽原理，能够将低频辐射及微波进行反射和吸收，有效地滤除电磁辐射波；离型膜能够对玻璃镜片进行保护，避免玻璃镜片在运输的过程中受损；加硬膜5能够提高玻璃镜片的耐磨性能，还能够提高透光性；氧化钛化合物材质的减反射膜6可以减少光能在镜片表面的反射损失，以提高成像强度和分辨率；氟化物为主的抗污膜7能够可将多孔的减反射膜层覆盖起来，并且能够减少水和油与镜片的接触面积，使油和水滴不易粘附于镜片表面，从而提高了玻璃镜片的抗污性能，本镜片具有多种不同的功能特性，能够适用于不同的使用环境，有效的提高了玻璃镜片的适用范围。

以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

技术特征：

1.一种复合镀膜镜片，包括玻璃基片(1)，其特征在于，所述玻璃基片(1)下侧的侧壁镀有抗uv膜(2)，所述抗uv膜(2)的厚度为0.5-0.65μm，所述抗uv膜(2)远离玻璃基片(1)一侧的侧壁涂覆有抗电磁辐射膜(3)，所述抗电磁辐射膜(3)的厚度为0.7-0.85μm，所述抗电磁辐射膜(3)下侧的侧壁粘接有离型膜(4)，所述玻璃基片(1)上侧的侧壁镀有加硬膜(5)，所述加硬膜(5)的厚度为1-1.2μm，所述加硬膜(5)远离玻璃基片(1)一侧的侧壁镀有减反射膜(6)，所述减反射膜(6)的厚度为0.2-0.5μm，所述减反射膜(6)远离加硬膜(5)的一侧涂覆有抗污膜(7)，所述抗污膜(7)的厚度为0.005-0.01μm。

2.根据权利要求1所述的一种复合镀膜镜片，其特征在于，所述抗uv膜(2)的具体材质为高纯uv-531。

3.根据权利要求1所述的一种复合镀膜镜片，其特征在于，所述抗电磁辐射膜(3)为铟锡氧化物半导体透明导电膜。

4.根据权利要求1所述的一种复合镀膜镜片，其特征在于，所述减反射膜(6)的具体材质为氧化钛化合物。

5.根据权利要求1所述的一种复合镀膜镜片，其特征在于，所述抗污膜(7)的具体材质为氟化物。

技术总结
本实用新型涉及镜片技术领域，且公开了一种复合镀膜镜片，包括玻璃基片，所述玻璃基片下侧的侧壁镀有抗UV膜，所述抗UV膜的厚度为0.5‑0.65μm，所述抗UV膜远离玻璃基片一侧的侧壁涂覆有抗电磁辐射膜，所述抗电磁辐射膜的厚度为0.7‑0.85μm，所述抗电磁辐射膜下侧的侧壁粘接有离型膜，所述玻璃基片上侧的侧壁镀有加硬膜，所述加硬膜的厚度为1‑1.2μm，所述加硬膜远离玻璃基片一侧的侧壁镀有减反射膜，所述减反射膜的厚度为0.2‑0.5μm，所述减反射膜远离加硬膜的一侧涂覆有抗污膜，所述抗污膜的厚度为0.005‑0.01μm。本实用新型具有多种不同的功能特性，能够适用于不同的使用环境，有效的提高了玻璃镜片的适用范围。

技术研发人员：董厚明;匡贵云
受保护的技术使用者：深圳市吉美光学有限公司
技术研发日：2020.08.13
技术公布日：2021.05.07