一种LDI单波长激光紫外直写镜头照明结构的制作方法

一种ldi单波长激光紫外直写镜头照明结构
技术领域
1.本实用新型涉及一种ldi单波长激光紫外直写镜头照明结构，属于光刻中无掩模数字激光直写技术领域。


背景技术：

2.ldi激光直写成像技术，属于一种pcb工艺中的曝光工序，其直接利用cam工作站输出的数据，驱动激光成像的装置，在涂覆有光致抗蚀剂的印制电路板上进行图形成像。ldi 激光直写成像技术随着大规模集成电路的发展于上个世纪80年代提出，而其中的ldi紫外激光直写技术更是发展迅猛，属于无掩模数字光刻技术，采用单面曝光以及紫外光敏感抗蚀剂，与传统接触式成像技术相比较，具有图案数字化，操作简便，对准精度高，制造流程少等优点，该镜头要求利用uv波段曝光，具有良好的光刻分辨率。
3.多层印制电路板的制造工序有100多道，其中的图像转移是印制电路板生产过程中的关键步骤，传统pcb印刷电路板采用了接触式成像，接触式成像需要照相原版，并且曝光时生产底板与印制板必须充分接触，但接触式成像合格率低，对位精度和重合度不够，大面积不均匀接触导致分辨率降低且底版容易损坏。因此，迫切需要一种ldi单波长激光紫外直写镜头照明结构，以解决现有技术中存在的这一问题。
4.为了解决上述技术问题，特提出一种新的技术方案。


技术实现要素：

5.本实用新型的目的在于提供一种ldi单波长激光紫外直写镜头照明结构，以解决上述背景技术中提出的问题。
6.为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种ldi单波长激光紫外直写镜头照明结构，包括激光光源、光棒、镜头、反射镜、dmd、物方光学组件和样板，所述物方光学组件包含顶偏心模块、光阑和像方光学组件，激光光源发出的光经过光棒后，通过一个放大的镜头将照明面积放大后被反射镜发射后到达dmd，经dmd反射的光进入物方光学组件中依次经过顶偏心模块、光阑和像方光学组件，最终将图像投影到被刻蚀的样板上。
7.优选地，所述顶偏心模块包含透镜。
8.与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：提高精细线路的精度和合格率，避免了重复缺陷，同时还降低了生产成本，提高了效率，满足pcb大面积和高产能的要求。
附图说明
9.图1为本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
10.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的
实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
11.请参阅说明书附图，本实用新型提供一种技术方案：一种ldi单波长激光紫外直写镜头3照明结构，包括激光光源1、光棒2、镜头3、反射镜4、dmd5、物方光学组件6和样板7，物方光学组件6包含顶偏心模块8、光阑9和像方光学组件10，激光光源1发出的光经过光棒2后，通过一个放大的镜头3将照明面积放大后被反射镜4发射后到达dmd5，经dmd5反射的光进入物方光学组件6中依次经过顶偏心模块8、光阑9和像方光学组件 10，最终将图像投影到被刻蚀的样板7上。
12.优选地，顶偏心模块8包含透镜。
13.在使用的时候，本实用新型未具体说明的部分都可作为现有技术中本领域普通技术人员可知的实施方式，本实用新型在现有技术这一基础上采用激光光源1、光棒2、镜头3、反射镜4、dmd5、物方光学组件6和样板7，如图1所示，物方光学组件6包含顶偏心模块8、光阑9和像方光学组件10，激光光源1发出的光经过光棒2后，通过一个放大的镜头3将照明面积放大后被反射镜4发射后到达dmd5，经dmd5反射的光进入物方光学组件 6中依次经过顶偏心模块8、光阑9和像方光学组件10，最终将图像投影到被刻蚀的样板 7上，以便于提高精细线路的精度和合格率，避免了重复缺陷，同时还降低了生产成本，提高了效率，满足pcb大面积和高产能的要求。
14.尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。


技术特征：
1.一种ldi单波长激光紫外直写镜头照明结构，其特征在于：包括激光光源、光棒、镜头、反射镜、dmd、物方光学组件和样板，所述物方光学组件包含顶偏心模块、光阑和像方光学组件，激光光源发出的光经过光棒后，通过一个放大的镜头将照明面积放大后被反射镜发射后到达dmd，经dmd反射的光进入物方光学组件中依次经过顶偏心模块、光阑和像方光学组件，最终将图像投影到被刻蚀的样板上。2.根据权利要求1所述的ldi单波长激光紫外直写镜头照明结构，其特征在于：所述顶偏心模块包含透镜。

技术总结
本实用新型公开了一种LDI单波长激光紫外直写镜头照明结构，包括激光光源、光棒、镜头、反射镜、DMD、物方光学组件和样板，所述物方光学组件包含顶偏心模块、光阑和像方光学组件，激光光源发出的光经过光棒后，通过一个放大的镜头将照明面积放大后被反射镜发射后到达DMD，经DMD反射的光进入物方光学组件中依次经过顶偏心模块、光阑和像方光学组件，最终将图像投影到被刻蚀的样板上。本实用新型提高精细线路的精度和合格率，避免了重复缺陷，同时还降低了生产成本，提高了效率，满足PCB大面积和高产能的要求。高产能的要求。高产能的要求。


技术研发人员：陈铭勇 向先兵
受保护的技术使用者：深圳市灿锐科技有限公司
技术研发日：2021.02.26
技术公布日：2021/12/14