含硫聚合物、其制造方法及含硫聚合物组合物与流程

文档序号:34388273发布日期:2023-06-08 07:53阅读:257来源:国知局
含硫聚合物、其制造方法及含硫聚合物组合物与流程

本发明涉及含硫聚合物、其制造方法及含硫聚合物组合物。更详细而言,涉及具有高折射率的含硫聚合物、其制造方法及含硫聚合物组合物。


背景技术:

1、作为高折射率材料,已知有具有芳香环的聚碳酸酯、具有芴骨架的高分子材料。作为提高led的光提取效率的折射率调整材料、摄像系统的透镜材料,要求阿贝值大、即光色散小的材料。作为这样的折射率高且光色散小的材料,开发出了导入有硫分子、卤素分子的材料以及含有金属氧化物纳米颗粒的材料等。

2、对于折射率高、光色散小的含有硫的材料,迄今为止也进行了各种研究。例如,在专利文献1中记载了下述高分子材料,其具有在主链中包含2个氢原子被甲基取代的苯环和硫原子的重复单元,分散度为3.0以上,由此使其在溶液状态下的成型性优异。

3、另外,例如,在专利文献2中记载了一种高分子材料,其通过含有具有在主链中包含1个氢原子被甲基取代的苯环和硫原子的重复单元的聚合物,能够使其在溶液状态下的成型性优异,并且能够形成具有高折射率的光学部件。

4、现有技术文献

5、专利文献

6、专利文献1:日本特开2015-168790号公报

7、专利文献2:日本特开2017-52834号公报


技术实现思路

1、发明所要解决的课题

2、但是,上述高分子材料的折射率还不能说足够高,存在改善的余地。另外,近年来,要求具有高折射率、进而能够赋予耐热性、机械强度、对基材的密合性等在光学用途等各种用途中所需的优异物性、能够用于更广泛的用途的高分子材料。

3、鉴于上述现状,本发明的目的在于提供一种折射率高且能够适合用于光学用途等的高分子材料。

4、用于解决课题的手段

5、本发明人对高折射率材料进行了各种研究,结果发现,通过制成具有特定官能团、具有特定结构的含硫聚合物,能够形成具有高折射率、可以适合用于光学用途等的高分子材料。另外,通过将这样的含硫聚合物与无机物组合而制成含硫聚合物组合物,能够形成透明性优异、作为光学材料等更合适的高折射率材料,由此完成了本发明。

6、即,本发明涉及一种含硫聚合物,其为具有选自由下述通式(1)所示的结构单元(a)、下述通式(2)所示的结构单元(b)和下述通式(3)所示的结构单元(c)组成的组中的至少一种结构单元的聚合物,其特征在于,上述聚合物具有反应性官能团。

7、[化1]

8、

9、[化2]

10、

11、[化3]

12、

13、(式(1)、(2)和(3)中,x1、x2和x3相同或不同,表示具有或不具有取代基的2价芳香族烃基。)

14、上述含硫聚合物优选包含选自由上述结构单元(a)、结构单元(b)和结构单元(c)组成的组中的至少一种结构单元作为重复单元。

15、上述含硫聚合物优选在主链末端和/或侧链具有上述反应性官能团。

16、上述含硫聚合物中,上述反应性官能团优选为选自由羧基、磷酸基、膦酸基、羟基和固化性官能团组成的组中的至少一种官能团、或者包含该官能团的基团。

17、上述含硫聚合物中,上述取代基优选为反应性官能团、卤原子、或者具有或不具有取代基的烷基、烷氧基、芳基、芳烷基、或者含硫取代基。

18、上述含硫聚合物中,与主链的硫原子s键合的氧原子o与上述主链的硫原子s的元素含有比例(o/s)优选为0.1~1.5。

19、上述含硫聚合物优选用于光学用途。

20、本发明还涉及一种含硫聚合物组合物,其包含上述的含硫聚合物与选自由无机物、交联剂和有机树脂组成的组中的至少一种。

21、本发明还涉及上述的含硫聚合物的固化物。

22、本发明还涉及上述的含硫聚合物组合物的固化物。

23、本发明还涉及一种含硫聚合物的制造方法,其为上述的含硫聚合物的制造方法,其特征在于,包括使具有聚合性双键和反应性官能团的化合物与末端具有二硫键和/或硫醇基的含硫芳香族系聚合物反应的工序。

24、发明的效果

25、根据本发明,可以提供高折射率的含硫聚合物和含硫聚合物组合物。本发明的含硫聚合物和含硫聚合物组合物能够适合用于摄像系统透镜材料等光学用途中。



技术特征:

1.一种含硫聚合物,其为具有选自由下述通式(1)所示的结构单元(a)、下述通式(2)所示的结构单元(b)和下述通式(3)所示的结构单元(c)组成的组中的至少一种结构单元的聚合物,其特征在于,

2.如权利要求1所述的含硫聚合物,其特征在于,所述含硫聚合物包含选自由所述结构单元(a)、结构单元(b)和结构单元(c)组成的组中的至少一种结构单元作为重复单元。

3.如权利要求1或2所述的含硫聚合物,其特征在于,所述含硫聚合物在主链末端和/或侧链具有所述反应性官能团。

4.如权利要求1~3中任一项所述的含硫聚合物,其特征在于,所述反应性官能团为选自由羧基、磷酸基、膦酸基、羟基和固化性官能团组成的组中的至少一种官能团、或者包含该官能团的基团。

5.如权利要求1~4中任一项所述的含硫聚合物,其特征在于,所述取代基为反应性官能团、卤原子、或者具有或不具有取代基的烷基、烷氧基、芳基、芳烷基、或者含硫取代基。

6.如权利要求1~5中任一项所述的含硫聚合物,其特征在于,与主链的硫原子s键合的氧原子o与该主链的硫原子s的元素含有比例o/s为0.1~1.5。

7.如权利要求1~6中任一项所述的含硫聚合物,其特征在于,其用于光学用途。

8.一种含硫聚合物组合物,其特征在于,其包含权利要求1~7中任一项所述的含硫聚合物与选自由无机物、交联剂和有机树脂组成的组中的至少一种。

9.权利要求1~7中任一项所述的含硫聚合物的固化物。

10.权利要求8所述的含硫聚合物组合物的固化物。

11.一种含硫聚合物的制造方法,其为权利要求1~7中任一项所述的含硫聚合物的制造方法,其特征在于,


技术总结
本发明的目的在于提供一种折射率高且能够适合用于光学用途的高分子材料。本发明涉及一种含硫聚合物,其为具有选自由下述通式(1)所示的结构单元(A)、下述通式(2)所示的结构单元(B)和下述通式(3)所示的结构单元(C)组成的组中的至少一种结构单元的聚合物,其中,上述聚合物具有反应性官能团(上述通式(1)、(2)和(3)中,X<supgt;1</supgt;、X<supgt;2</supgt;和X<supgt;3</supgt;相同或不同,表示具有或不具有取代基的2价芳香族烃基)。

技术研发人员:小柳津研一,松岛贯太,渡边清瑚,高山央,西尾博道,三浦智弘,中村润一,川濑健夫,藤林辉久,木村纯也
受保护的技术使用者:株式会社日本触媒
技术研发日:
技术公布日:2024/1/13
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