光源参数信息管理方法、光源参数信息管理装置和计算机可读介质与流程

本公开涉及光源参数信息管理方法、光源参数信息管理装置和计算机可读介质。

背景技术：

1、近年来，在半导体曝光装置中，随着半导体集成电路的微细化和高集成化，要求分辨率的提高。因此，从曝光用光源发射的光的短波长化得以发展。例如，作为曝光用的气体激光装置，使用输出波长大约为248nm的激光的krf准分子激光装置、以及输出波长大约为193nm的激光的arf准分子激光装置。

2、krf准分子激光装置和arf准分子激光装置的自然振荡光的谱线宽度较宽，大约为350～400pm。因此，在利用使krf和arf激光这种紫外线透过的材料构成投影透镜时，有时产生色差。其结果，分辨率可能降低。因此，需要将从气体激光装置输出的激光的谱线宽度窄带化到能够无视色差的程度。因此，在气体激光装置的激光谐振器内，为了使谱线宽度窄带化，有时具有包含窄带化元件(标准具、光栅等)的窄带化模块(line narrowing module：lnm)。下面，将谱线宽度被窄带化的气体激光装置称为窄带化气体激光装置。

3、现有技术文献

4、专利文献

5、专利文献1：国际公开第2020/161865号

6、专利文献2：国际公开第2020/031301号

7、专利文献3：国际公开第2019/043780号

8、专利文献4：日本特开2010-67794号公报

9、专利文献5：美国专利第5383217号

10、专利文献6：日本特开平11-121339号公报

技术实现思路

1、本公开的一个观点的光源参数信息管理方法对曝光装置中使用的光源的参数信息进行管理，其中，光源参数信息管理方法包含以下步骤：取得包含如下变量的项目和变量的目标值的优先目标参数信息，该变量的项目是在光源的运转中优先的优先目标参数；根据优先目标参数信息估计维护信息，该维护信息包含表示光源中的消耗品的到维护为止的寿命的值；以及输出维护信息。

2、本公开的另一个观点的光源参数信息管理装置包含：处理器；以及存储器，其存储有处理器执行的程序，处理器执行程序的命令，由此，处理器进行如下处理：取得包含如下变量的项目和变量的目标值的优先目标参数信息，该变量的项目是在光源的运转中优先的优先目标参数，根据优先目标参数信息估计维护信息，该维护信息包含表示光源中的消耗品的到维护为止的寿命的值，输出维护信息。

3、本公开的另一个观点的计算机可读介质是记录有程序的非暂时性的计算机可读介质，该程序使计算机实现对曝光装置中使用的光源的参数信息进行管理的功能，其中，程序使计算机实现以下功能：取得包含如下变量的项目和变量的目标值的优先目标参数信息，该变量的项目是在光源的运转中优先的优先目标参数；根据优先目标参数信息估计维护信息，该维护信息包含表示光源中的消耗品的到维护为止的寿命的值；以及输出维护信息。

技术特征：

1.一种光源参数信息管理方法，其对曝光装置中使用的光源的参数信息进行管理，其中，所述光源参数信息管理方法包含以下步骤：

2.根据权利要求1所述的光源参数信息管理方法，其中，

3.根据权利要求2所述的光源参数信息管理方法，其中，

4.根据权利要求3所述的光源参数信息管理方法，其中，

5.根据权利要求4所述的光源参数信息管理方法，其中，

6.根据权利要求5所述的光源参数信息管理方法，其中，

7.根据权利要求3所述的光源参数信息管理方法，其中，

8.根据权利要求1所述的光源参数信息管理方法，其中，

9.根据权利要求1所述的光源参数信息管理方法，其中，

10.根据权利要求1所述的光源参数信息管理方法，其中，

11.根据权利要求1所述的光源参数信息管理方法，其中，

12.根据权利要求1所述的光源参数信息管理方法，其中，

13.根据权利要求12所述的光源参数信息管理方法，其中，

14.根据权利要求1所述的光源参数信息管理方法，其中，

15.根据权利要求14所述的光源参数信息管理方法，其中，

16.根据权利要求14所述的光源参数信息管理方法，其中，

17.根据权利要求14所述的光源参数信息管理方法，其中，

18.根据权利要求1所述的光源参数信息管理方法，其中，

19.一种光源参数信息管理装置，其对曝光装置中使用的光源的参数信息进行管理，其中，所述光源参数信息管理装置包含：

20.一种非暂时性的计算机可读介质，其记录有使计算机实现对曝光装置中使用的光源的参数信息进行管理的功能的程序，其中，所述程序使所述计算机实现以下功能：

技术总结
光源参数信息管理方法对曝光装置中使用的光源的参数信息进行管理，其中，光源参数信息管理方法包含以下步骤：取得包含如下变量的项目和变量的目标值的优先目标参数信息，该变量的项目是在光源的运转中优先的优先目标参数；根据优先目标参数信息估计维护信息，该维护信息包含表示光源中的消耗品的到维护为止的寿命的值；以及输出维护信息。

技术研发人员：峰岸裕司,若林理
受保护的技术使用者：极光先进雷射株式会社
技术研发日：
技术公布日：2024/1/15