光波导、量子运算装置及光波导的制造方法与流程

本发明涉及光波导、量子运算装置及光波导的制造方法。

背景技术：

1、对使用色心作为金刚石层中的复合缺陷的量子运算装置用的光波导进行了研究。

2、现有技术文献

3、专利文献

4、专利文献1：美国专利第8837544号说明书

5、专利文献2：日本特表2007-526639号公报

6、专利文献3：美国专利申请公开第2007/0277730号说明书

技术实现思路

1、发明所要解决的课题

2、量子运算装置在数k左右的极低温下使用，但在以往的光波导中，在极低温下复合缺陷的荷电状态容易变得不稳定。

3、本公开的目的在于提供一种能够提高复合缺陷的荷电状态的稳定性的光波导、量子运算装置及光波导的制造方法。

4、用于解决课题的手段

5、根据本公开的一方式，提供一种光波导，具有：金刚石层，其具有第一面及第二面，且包含复合缺陷；第一包层，其与所述第一面相接；第二包层，其与所述第二面相接，且具有极性；及金属层，其与所述第二包层进行肖特基接触。

6、发明效果

7、根据本公开，能够提高复合缺陷的荷电状态的稳定性。

技术特征：

1.一种光波导，其特征在于，该光波导具有：

2.根据权利要求1所述的光波导，其特征在于，

3.根据权利要求1或2所述的光波导，其特征在于，

4.根据权利要求1至3中任一项所述的光波导，其特征在于，

5.根据权利要求1至4中任一项所述的光波导，其特征在于，

6.根据权利要求1至5中任一项所述的光波导，其特征在于，

7.根据权利要求6所述的光波导，其特征在于，

8.根据权利要求1至7中任一项所述的光波导，其特征在于，

9.根据权利要求1至8中任一项所述的光波导，其特征在于，

10.根据权利要求1至9中任一项所述的光波导，其特征在于，

11.一种量子运算装置，其特征在于，

12.一种光波导的制造方法，其特征在于，该光波导的制造方法具有以下工序：

13.根据权利要求12所述的光波导的制造方法，其特征在于，

14.根据权利要求12或13所述的光波导的制造方法，其特征在于，

15.根据权利要求12至14中任一项所述的光波导的制造方法，其特征在于，

技术总结
光波导具有：金刚石层，其具有第一面及第二面，且包含复合缺陷；第一包层，其与所述第一面相接；第二包层，其与所述第二面相接，且具有极性；以及金属层，其与所述第二包层进行肖特基接触。

技术研发人员：石黒哲郎,宫武哲也,河口研一,岩井俊树,土肥義康,佐藤信太郎
受保护的技术使用者：富士通株式会社
技术研发日：
技术公布日：2024/2/1