防眩层及其制作方法与流程

本发明涉及一种防眩表面及其制作方法，尤其涉及一种防眩层及其制作方法。

背景技术：

1、一般而言，显示设备的表面通常会设置防眩层，以减少使用者因眩光导致的视觉不适，而降低对显示设备的整体体验。常见的防眩层的制作方式包括利用喷淋粒子的方式或是钢板压印的方式，以在表面形成凹凸结构，使光线散射，进而达到防眩的效果。然而，利用喷淋粒子的方式所制造的防眩层，因其粒子随机分布，而无法生产具有相同表面结构及表面粗糙度的防眩层，导致防眩层的质量不稳定。此外，以钢板压印的方式制作的防眩层，压印的钢版虽具固定图案，但压印材料具有流动性，因此每次压印的图案并不相同，也无法生产具有相同表面结构及表面粗糙度的防眩层，导致防眩层的质量不稳定。

技术实现思路

1、本发明是针对一种防眩层及其制作方法，其易于量化并使防眩层的结构具有再现性，进而使防眩层的质量稳定。

2、根据本发明的实施例，本发明的防眩层的制作方法包括提供基板，涂布防眩材料层于基板上，以及通过灰阶光罩对防眩材料层进行光刻工艺，以形成防眩层，其中防眩层包括多个高度不同的凸出结构。

3、在根据本发明的实施例的防眩层的制作方法中，上述的光刻工艺还形成防眩层的连续部，连续部连续的延伸于凸出结构之间。

4、在根据本发明的实施例的防眩层的制作方法中，上述的光刻工艺还将防眩层的凸出结构分隔开来。

5、在根据本发明的实施例的防眩层的制作方法中，上述的光刻工艺还将防眩层形成为具有在0.5μm至2μm之间的表面粗糙度。

6、在根据本发明的实施例的防眩层的制作方法中，上述的光刻工艺还将防眩层中相邻的凸出结构分隔小于1mm的距离。

7、在根据本发明的实施例的防眩层的制作方法中，上述的光刻工艺还将防眩层中凸出结构形成为具有高度在0.1μm至10μm之间或宽高比在0至1之间。

8、在根据本发明的实施例的防眩层的制作方法中，上述的防眩层的材料包括光敏感性树脂。

9、在根据本发明的实施例的防眩层的制作方法中，上述的光刻工艺还将防眩层中凸出结构形成为具有包括矩形或梯形的截面形状。

10、在根据本发明的实施例的防眩层的制作方法中，上述的灰阶光罩包括至少四种透光率不同的区域。

11、在根据本发明的实施例的防眩层的制作方法中，上述的光刻工艺还将防眩层中凸出结构形成为包括至少四种不同的高度，分别对应灰阶光罩的至少四种透光率不同的区域。

12、在根据本发明的实施例的防眩层的制作方法中，还包括将防眩层设置于电子装置的外表面，其中凸出结构向外凸出。

13、根据本发明的实施例，本发明的防眩层包括基板以及多个凸出结构。多个凸出结构设置于基板上，其中多个凸出结构由光刻工艺制成，且相邻的凸出结构的分隔距离小于1mm。

14、在根据本发明的实施例的防眩层中，上述的防眩层还包括连续部，设置于基板上，且连续的延伸于凸出结构之间。

15、在根据本发明的实施例的防眩层中，上述的防眩层的表面粗糙度在0.5μm至2μm之间。

16、在根据本发明的实施例的防眩层中，上述的多个凸出结构具有至少四种不同的高度。

17、在根据本发明的实施例的防眩层中，上述的多个凸出结构的高度介于0.1μm至10μm之间或宽高比介于0至1之间。

18、在根据本发明的实施例的防眩层中，上述的多个凸出结构的材料包括光敏感性树脂。

19、在根据本发明的实施例的防眩层中，上述的多个凸出结构具有包括矩形或梯形的截面形状。

20、基于上述，本发明利用灰阶光罩并以光刻工艺制作防眩层，因此使防眩层的结构可具有再现性且易于量化，进而可使防眩层的质量稳定。

1.一种防眩层的制作方法，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述光刻工艺还形成所述防眩层的连续部，所述连续部连续的延伸于所述凸出结构之间。

3.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述光刻工艺还将所述防眩层的所述凸出结构分隔开来。

4.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述光刻工艺还将所述防眩层形成为具有在0.5μm至2μm之间的表面粗糙度。

5.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述光刻工艺还将所述防眩层中相邻的所述凸出结构分隔小于1mm的距离。

6.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述光刻工艺还将所述防眩层中所述凸出结构形成为具有高度介于0.1μm至10μm之间或宽高比介于0至1之间。

7.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述凸出结构的材料包括光敏感性树脂。

8.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述光刻工艺还将所述防眩层中所述凸出结构形成为具有包括矩形或梯形的截面形状。

9.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述灰阶光罩包括至少四种透光率不同的区域。

10.根据权利要求9所述的制作方法，其特征在于，所述光刻工艺还将所述防眩层中所述凸出结构形成为包括至少四种不同的高度，分别对应所述灰阶光罩的所述至少四种透光率不同的区域。

11.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，还包括将所述防眩层设置于电子装置的外表面，其中所述凸出结构向外凸出。

12.一种防眩层，其特征在于，包括：

13.根据权利要求12所述的防眩层，其特征在于，还包括：

14.根据权利要求12所述的防眩层，其特征在于，所述防眩层的表面粗糙度在0.5μm至2μm之间。

15.根据权利要求12所述的防眩层，其特征在于，所述多个凸出结构具有至少四种不同的高度。

16.根据权利要求12所述的防眩层，其特征在于，所述多个凸出结构的高度介于0.1μm至10μm之间或宽高比介于0至1之间。

17.根据权利要求12所述的防眩层，其特征在于，所述多个凸出结构的材料包括光敏感性树脂。

18.根据权利要求12所述的防眩层，其特征在于，所述多个凸出结构具有包括矩形或梯形的截面形状。