盖板装置的制作方法

文档序号:35967346发布日期:2023-11-09 07:37阅读:37来源:国知局
盖板装置的制作方法

本公开提供一种盖板装置,尤其涉及一种包含不同折射率的光学膜层的盖板装置。


背景技术:

1、随着科技不断进步且为适应使用者的使用习惯,现今仍需持续对显示装置进行改善。目前,在户外或环境光较强的情况下使用显示装置时,仍存在反射光太强对视觉造成干扰或对比度下降等问题,或者在显示装置为暗态时,边框与显示面板间存在明显边界等美观问题。

2、传统上,可通过在显示装置的盖板表面镀上一层抗反射膜来达成降低反射光的效果,或者可通过将盖板染色,以改善美观问题。然而,传统方法仍存在制备工艺繁杂、对比度或抗反射效果不佳等情形。

3、因此,目前亟需发展一种盖板装置,以改善现有缺陷。


技术实现思路

1、本公开提供一种盖板装置,包含:一基板;以及一光学膜层,设置于该基板上,其中,该光学膜层包含一第一膜层及一第二膜层,该第一膜层设置于该第二膜层上;其中,在光学波长550nm下,该第一膜层的折射率不同于该第二膜层的折射率,该第二膜层包含一金属氧化物。



技术特征:

1.一种盖板装置,其特征在于,包含:

2.根据权利要求1所述的盖板装置,其特征在于,在光学波长550nm下,该第一膜层的折射率小于该第二膜层的折射率。

3.根据权利要求2所述的盖板装置,其特征在于,该第一膜层为该光学膜层最远离该基板的膜层。

4.根据权利要求1所述的盖板装置,其特征在于,该第一膜层的材料包含二氧化硅、氟化镁、或其组合。

5.根据权利要求1所述的盖板装置,其特征在于,该金属氧化物包含氧化铟锡、氧化铝锌、氧化铟镓锌、氧化锡锑、氟掺杂氧化锡、或其组合。

6.根据权利要求1所述的盖板装置,其特征在于,在光学波长550nm下,该第一膜层的折射率大于或等于1.38且小于或等于1.48。

7.根据权利要求1所述的盖板装置,其特征在于,在光学波长550nm下,该第二膜层的折射率大于或等于1.8且小于或等于2.1。

8.根据权利要求1所述的盖板装置,其特征在于,在光学波长550nm下,该第二膜层的消光系数大于或等于0.01且小于或等于0.05。

9.根据权利要求1所述的盖板装置,其特征在于,该光学膜层的厚度大于或等于0.5μm且小于或等于3μm。

10.根据权利要求1所述的盖板装置,其特征在于,在光学波长550nm下,该光学膜层的反射率小于或等于4%。

11.根据权利要求1所述的盖板装置,其特征在于,在光学波长550nm下,该光学膜层的穿透率大于或等于60%且小于或等于80%。

12.根据权利要求1所述的盖板装置,其特征在于,该光学膜层还包含一第三膜层及一第四膜层,该第三膜层及该第四膜层设置于该第一膜层与该第二膜层之下,其中,在光学波长550nm下,该第三膜层的折射率不同于该第四膜层的折射率。

13.根据权利要求12所述的盖板装置,其特征在于,该第三膜层设置于该第二膜层与该第四膜层之间,且在光学波长550nm下,该第一膜层及该第三膜层的折射率分别小于该第二膜层与该第四膜层的折射率。

14.根据权利要求13所述的盖板装置,其特征在于,该光学膜层还包含一第五膜层,该第五膜层设置于该第四膜层与该基板之间,且在光学波长550nm下,该第五膜层的折射率分别小于该第二膜层与该第四膜层的折射率。


技术总结
本公开提供了一种盖板装置,包含:一基板;以及一光学膜层,设置于该基板上,其中,该光学膜层包含一第一膜层及一第二膜层,该第一膜层设置于该第二膜层上;其中,在光学波长550nm下,该第一膜层的折射率不同于该第二膜层的折射率,该第二膜层包含一金属氧化物。

技术研发人员:朱韦名,许育纯
受保护的技术使用者:群创光电股份有限公司
技术研发日:
技术公布日:2024/1/16
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