一种高折射率不导电镀膜材料、RPVD微纳装饰光效薄膜及其制备方法和应用与流程

本发明涉及光学薄膜，具体涉及一种高折射率不导电镀膜材料、 rpvd微纳装饰光效薄膜及其制备方法和应用。

背景技术：

1、装饰光效薄膜是通过高低折射率在不同基底上堆叠呈现可见光 380-780nm波段，红、橙、黄、绿、青、蓝、紫，颜色效果的一种装饰光效薄膜。目前装饰光效薄膜广泛应用于手机装饰、汽车装饰、手表和门锁等领域，具有极其广阔的市场空间。现有的装饰光效薄膜使用的高折导电材料不可以使用在电子消费产品上，例如手机，会影响信号或者导电短路给使用者造成伤害等。不导电高折材料折射率偏低，市场上可选型较少。

技术实现思路

1、为了克服现有技术的不足，本发明提供一种镀膜材料、包括该镀膜材料的rpvd微纳装饰光效薄膜，以及所述rpvd微纳装饰光效薄膜的制备方法和应用。本发明的方法能够在保持低导电和很好光效效果的前提下，实现更低的膜层厚度，并同时兼具良好的附着力、高质感和高饱和，能够通过功能性太阳辐射，并具有较低的成本。

2、为了实现上述目的，本发明第一方面提供了一种镀膜材料，所述镀膜材料包括交替层叠的高折射率材料和低折射率材料，所述高折射率材料与所述低折射率材料的折射率之差不小于2，所述层叠的层数为大于等于2的偶数。

3、在一实例中，所述高折射率材料的折射率为4.0-4.6；所述低折射率材料的折射率为1.45-1.6；和/或，所述高折射率材料为sih；所述低折射率材料为sio2。

4、在一实例中，所述高折射率材料的层的厚度为5-80nm；所述低折射率材料的层的厚度为10-150nm；单层所述高折射率材料和单层所述低折射率材料的厚度总和为40-160nm。

5、本发明第二方面提供了一种rpvd微纳装饰光效薄膜，所述rpvd微纳装饰光效薄膜具有多层结构，所述多层结构包括镀膜材料层，所述镀膜材料层为第一方面所述的镀膜材料。

6、在一实例中，所述rpvd微纳装饰光效薄膜包括依次设置的透光层、胶层、柔性层、任选的纹理层、镀膜材料层和遮挡层；和/或，

7、所述透光层选自玻璃、树脂及宝石中的至少一种；所述胶层选自oca 胶、sca胶及cof胶中的至少一种；所述柔性层选自涤纶树脂柔性基材、聚丙烯、聚苯乙烯、聚氯乙烯、聚碳酸酯及非晶型共聚酯中的至少一种；所述纹理层选自uv纹理、pu漆及热固化漆中的至少一种；所述遮挡层选自带色油墨。

8、本发明第三方面提供了一种制备第二方面所述的rpvd微纳装饰光效薄膜的方法，包括形成镀膜材料层，所述形成镀膜材料层的过程包括：

9、通过溅射镀膜工艺，沉积高折射率材料和低折射率材料中的一种；在所形成的层上继续沉积所述高折射率材料和低折射率材料中的另一种；形成一组高折射率材料层和低折射率材料层的层组；所述高折射率材料与所述低折射率材料的折射率之差不小于2；

10、进行一次或重复多次，形成所述镀膜材料层。

11、在一实例中，所述溅射镀膜工艺条件包括：真空度为：5.0×10-3-2.0× 10-4pa，仓室温度为：35-60℃。

12、在一实例中，所述溅射镀膜工艺在镀高折射率材料时的条件包括：靶材管道充入氩气和氢气的混合气体，所述氩气为90-99体积％，所述氢气为1-10 体积％，溅射功率为6-15kw，镀膜速率为0.25-0.5nm/s。

13、在一实例中，所述溅射镀膜工艺在镀低折射率材料时的条件包括：靶材管道充入氩气与氧气的混合气体，所述氩气为45-55体积％，所述氧气为 45-55体积％，溅射功率为6-12kw，镀膜速率为0.2-0.4nm/s。

14、本发明第四方面提供了一种本发明第二方面所述的rpvd微纳装饰光效薄膜和/或本发明第三方面所述的rpvd微纳装饰光效薄膜在电子设备上的应用。

15、通过上述技术方案，本发明与现有技术相比至少具有以下优势：

16、(1)使用高折材料sih与低折材料sio2的叠层比使用常规高折材料膜层厚度具有显著减少；

17、(2)效率大幅度提升，比使用常规高折材料的靶材的成本显著减少；

18、(3)从设计效果与实际效果看，装饰的颜色更纯净，饱和度更高，膜层的强度更好，全套功能性测试均更满足客户需求。

技术特征：

1.一种镀膜材料，其特征在于，所述镀膜材料包括交替层叠的高折射率材料和低折射率材料，所述高折射率材料与所述低折射率材料的折射率之差不小于2，所述层叠的层数为大于等于2的偶数。

2.根据权利要求1所述的镀膜材料，其中，所述高折射率材料的折射率为4.0-4.6；所述低折射率材料的折射率为1.45-1.6；和/或，

3.根据权利要求1所述的镀膜材料，其中，所述高折射率材料的层的厚度为5-80nm；所述低折射率材料的层的厚度为10-150nm；单层所述高折射率材料和单层所述低折射率材料的厚度总和为40-160nm。

4.一种rpvd微纳装饰光效薄膜，其特征在于，所述rpvd微纳装饰光效薄膜具有多层结构，所述多层结构包括镀膜材料层，所述镀膜材料层为权利要求1-3中任意一项所述的镀膜材料。

5.根据权利要求4所述的rpvd微纳装饰光效薄膜，其中，所述rpvd微纳装饰光效薄膜包括依次设置的透光层、胶层、柔性层、任选的纹理层、镀膜材料层和遮挡层；和/或，

6.一种制备权利要求4或5所述的rpvd微纳装饰光效薄膜的方法，其特征在于，包括形成镀膜材料层，所述形成镀膜材料层的过程包括：

7.根据权利要求6所述的方法，其中，所述溅射镀膜工艺条件包括：真空度为：5.0×10-3-2.0×10-4pa，仓室温度为：35-60℃。

8.根据权利要求6或7所述的方法，其中，所述溅射镀膜工艺在镀高折射率材料时的条件包括：靶材管道充入氩气和氢气的混合气体，所述氩气为90-99体积％，所述氢气为1-10体积％，溅射功率为6-15kw，镀膜速率为0.25-0.5nm/s。

9.根据权利要求6或7所述的方法，其中，所述溅射镀膜工艺在镀低折射率材料时的条件包括：靶材管道充入氩气与氧气的混合气体，所述氩气为45-55体积％，所述氧气为45-55体积％，溅射功率为6-12kw，镀膜速率为0.2-0.4nm/s。

10.权利要求4或5所述的rpvd微纳装饰光效薄膜和/或权利要求6-9中任意一项所述的rpvd微纳装饰光效薄膜在电子设备上的应用。

技术总结
本发明涉及光学薄膜技术领域，具体涉及一种高折射率不导电镀膜材料、RPVD微纳装饰光效薄膜及其制备方法和应用。镀膜材料包括交替层叠的高折射率材料和低折射率材料，所述高折射率材料与所述低折射率材料的折射率之差不小于2，所述层叠的层数为大于等于2的偶数。本发明的镀膜材料能够在保持低导电和很好光效效果的前提下，实现更低的膜层厚度，并同时兼具良好的附着力、高质感和高饱和，能够通过功能性太阳辐射，并具有较低的成本。

技术研发人员：吴平安
受保护的技术使用者：昇印光电（昆山）股份有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/15