光阻膜及其应用的制作方法

文档序号:35268919发布日期:2023-08-30 10:52阅读:92来源:国知局
光阻膜及其应用的制作方法

本发明是关于一种光阻膜,尤其是关于一种高厚度光阻膜,以及该光阻膜的应用。


背景技术:

1、光阻膜一般由树脂、光敏材料及添加剂组成,根据曝光显影后的变化,分为正型光阻膜以及负型光阻膜。正型光阻膜在曝光之后,受到光照的部分在显影时将溶解,显影后留下未受曝光部分的图案。负型光阻膜在曝光之后,未受到光照的部分在显影时将溶解,显影后留下受曝光部分的图案。

2、在印刷电路板(pcb)产业中,必须利用光阻膜来进行蚀刻程序,以形成电路图案。由于电子元件越来越复杂,体积渐大,印刷电路板产业对于具有高深宽比的厚光阻膜需求逐渐增加。然而,既有光阻膜与基板的贴合性不佳,或外观存在皱纹,或者在贴合时会产生流胶,进而造成光阻膜的厚度不均,影响蚀刻精准度等问题,仍亟待改良。


技术实现思路

1、有鉴于上述技术问题,本发明旨在提供一种操作性、贴合性、及外观均良好的高厚度光阻膜。

2、因此,本发明的一个目的在于提供一种光阻膜,其具有在30℃下的剪切损耗模数(shear loss modulus)g”值以及在30℃下的剪切储存模数(shear storage modulus)g'值,其中该g”值相对于该g'值的比值(g"/g')为0.50至10.40。于本发明的部分实施方案中,该g”值相对于该g'值的比值为0.50至10.36。

3、于本发明的部分实施方案中,该30℃下的剪切储存模数g'值为0.001kpa至4300kpa,以及该30℃下的剪切损耗模数g”值为0.08kpa至1900kpa。

4、于本发明的部分实施方案中,该30℃下的剪切损耗模数g”值及30℃下的剪切储存模数g'值是借由流变仪以如下操作条件测得:夹具为25毫米平行平板式etc铝、模式为剪切模式、静置时间(soak time)为0秒、起始温度为30℃、升温速度为3℃/分钟、终温为150℃、升温后静置时间为0秒、压力为1000pa、单点测定、以及频率为1hz。

5、于本发明的部分实施方案中,该光阻膜的厚度为60微米至600微米,例如65微米至400微米。

6、于本发明的部分实施方案中,该光阻膜是负型光阻膜。

7、于本发明的部分实施方案中,该负型光阻膜包含:具有羧基的(甲基)丙烯酸系聚合物以及光聚合起始剂。

8、本发明的另一目的在于提供一种复合膜,其包含如上所述的光阻膜,以及一形成于该光阻膜的至少一表面上的保护膜。

9、于本发明的部分实施方案中,该保护膜选自以下群组:聚对苯二甲酸乙二酯膜、聚烯烃膜及前述的复合物。

10、为使本发明的上述目的、技术特征及优点能更明显易懂,下文以部分具体实施方案进行详细说明。



技术特征:

1.一种光阻膜,其特征在于,具有在30oc下的剪切损耗模数(shear loss modulus)g''值以及在30oc下的剪切储存模数(shear storage modulus)g'值,其中该g''值相对于该g'值的比值(g"/g')为0.50至10.40。

2.如权利要求1所述的光阻膜,其特征在于,该g''值相对于该g'值的比值为0.50至10.36。

3.如权利要求1所述的光阻膜,其特征在于,该30oc下的剪切储存模数g'值为0.001 kpa至4300 kpa,以及该30oc下的剪切损耗模数g''值为0.08 kpa至1900 kpa。

4.如权利要求1所述的光阻膜,其特征在于,该30oc下的损耗模数g''值及30oc下的剪切储存模数g'值借由流变仪以如下操作条件测得:夹具为25毫米平行平板式etc铝、模式为剪切模式、静置时间(soak time)为0秒、起始温度为30oc、升温速度为3oc/分钟、终温为150oc、升温后静置时间为0秒、压力为1000 pa、单点测定、以及频率为1 hz。

5.如权利要求1至4中任一项所述的光阻膜,其特征在于,其厚度为60微米至600微米。

6.如权利要求5所述的光阻膜,其特征在于,其厚度为65微米至400微米。

7.如权利要求1至4中任一项所述的光阻膜,其特征在于,其是负型光阻膜。

8.如权利要求7所述的光阻膜,其特征在于,包含具有羧基的(甲基)丙烯酸系聚合物及光聚合起始剂。

9.一种复合膜,其特征在于,包含:

10.如权利要求9所述的复合膜,其特征在于,该保护膜选自以下群组:聚对苯二甲酸乙二酯膜、聚烯烃膜及前述的复合物。


技术总结
本发明提供一种光阻膜及其应用,该光阻膜具有在30oC下的剪切损耗模数(shear loss modulus)G''值以及在30oC下的剪切储存模数(shear storage modulus)G'值,其中该G''值相对于该G'值的比值为0.50至10.40。

技术研发人员:庄子毅,杜安邦
受保护的技术使用者:长春人造树脂厂股份有限公司
技术研发日:
技术公布日:2024/1/14
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