光学邻近修正方法与流程

本发明涉及半导体，具体涉及一种光学邻近修正方法。

背景技术：

1、光刻技术是半导体制作技术中至关重要的一项技术，光刻技术能够实现将图形从掩膜版中转移到硅片表面，形成符合设计要求的半导体产品。光刻工艺包括曝光步骤、曝光步骤之后进行的显影步骤和显影步骤之后的刻蚀步骤。在曝光步骤中，光线通过掩膜版中透光的区域照射至涂覆有光刻胶的硅片上，光刻胶在光线的照射下发生化学反应；在显影步骤中，利用感光和未感光的光刻胶对显影剂的溶解程度的不同，形成光刻图案，实现掩膜版图案转移到光刻胶上；在刻蚀步骤中，基于光刻胶层所形成的光刻图案对硅片进行刻蚀，将掩膜版的图案进一步转移至硅片上。

2、在半导体制造中，随着设计尺寸的不断缩小，设计尺寸越来越接近光刻成像系统的极限，光的衍射效应变得越来越明显，导致最终对设计图形产生光学影像退化，实际形成的光刻图案相对于掩膜版上的图案发生严重畸变，最终在硅片上经过光刻形成的实际图形和设计图形不同，这种现象称为光学邻近效应(ope：optical proximity effect)。

3、为了修正光学邻近效应，便产生了光学邻近修正(opc：optical proximitycorrection)。光学邻近修正的核心思想就是基于抵消光学邻近效应的考虑建立光学邻近修正模型，根据光学邻近修正模型设计光掩模图形，这样虽然光刻后的光刻图形相对应光掩模图形发生了光学邻近效应，但是由于在根据光学邻近修正模型设计光掩模图形时已经考虑了对该现象的抵消，因此，光刻后的光刻图形接近于用户实际希望得到的目标图形。

4、然而，现有技术的光学邻近修正仍存在诸多问题。

技术实现思路

1、本发明解决的技术问题是，提供一种光学邻近修正方法，以提升修正精度。

2、为解决上述技术问题，本发明的技术方案提供一种光学邻近修正方法，包括：获取第一修正版图，所述第一修正版图中包括第一修正图形和第二修正图形，所述第一修正图形包括第一修正边、以及与所述第一修正边相垂直的第二修正边，所述第二修正图形包括相对的第三修正边和第四修正边，所述第三修正边与所述第一修正边相邻且平行，所述第三修正边与所述第一修正边之间具有第一间距尺寸，且所述第一间距尺寸等于掩膜规则尺寸；对所述第一修正版图进行第一曝光处理获取第一曝光版图，所述第一曝光版图包括第一曝光图形和第二曝光图形，所述第一曝光图形包括与所述第一修正边相对应的第一曝光边、以及与所述第二修正边相对应的第二曝光边，所述第二曝光图形包括与所述第三修正边相对应的第三曝光边、以及与所述第四修正边相对应的第四曝光边，所述第三曝光边与所述第四曝光边之间具有第二间距尺寸，所述第二间距尺寸小于或等于预设间距尺寸；提供目标版图，所述目标版图包括第一目标图形，所述第一目标图形包围所述第一曝光图形，所述第一目标图形包括与所述第一曝光边相对应的第一目标边；获取所述第一曝光边与所述第一目标边之间的第一边缘放置误差；提供预设边缘放置误差范围；对所述第一修正版图进行若干次光学邻近修正，若干次所述光学邻近修正用于平移所述第一修正边和所述第二修正边以使得所述第一边缘放置误差位于所述预设边缘放置误差范围内，以及平移所述第三修正边以增大所述第二间距尺寸至大于所述预设间距尺寸，且所述第一间距尺寸大于或等于所述掩膜规则尺寸，获取第二修正版图。

3、可选的，所述第一边缘放置误差位于所述预设边缘放置误差范围内、或所述第一边缘放置误差大于所述预设边缘放置误差范围。

4、可选的，当所述第一边缘放置误差位于所述预设边缘放置误差范围内时，若干次所述光学邻近修正用于平移所述第一修正边和所述第二修正边以保持所述第一边缘放置误差位于所述预设边缘放置误差范围内。

5、可选的，当所述第一边缘放置误差大于所述预设边缘放置误差范围时，若干次所述光学邻近修正用于平移所述第一修正边和所述第二修正边以减小所述第一边缘放置误差至所述预设边缘放置误差范围内。

6、可选的，每次所述光学邻近修正的方法包括：将所述第一修正边朝向远离所述第二修正图形的方向平移第一修正尺寸；将所述第二修正边朝向远离所述第一修正图形的方向平移第二修正尺寸，所述第二修正尺寸小于所述第一修正尺寸；将所述第三修正边朝向靠近所述第一修正图形的方向平移第三修正尺寸，所述第一修正尺寸大于或等于所述第三修正尺寸。

7、可选的，所述第一修正尺寸与所述第二修正尺寸之比为：2.5：1～3.5:1。

8、可选的，所述第一修正图形还包括：与所述第一修正边相垂直的第五修正边；每次所述光学邻近修正的方法还包括：将所述第五修正边朝向远离所述第一修正图形的方向平移第四修正尺寸，所述第四修正尺寸小于所述一修正尺寸。

9、可选的，所述第一修正尺寸与所述第四修正尺寸之比为：2.5：1～3.5:1。

10、可选的，所述第一修正边与所述第二修正边相连接。

11、可选的，所述五修正边与所述第二修正边相连接。

12、可选的，获取所述第一修正版图的方法包括：提供初始版图，所述初始版图中包括第一图形和第二图形，所述第一图形包括第一边、以及与所述第一边相垂直的第二边，所述第二图形包括相对的第三边和第四边，所述第三边与所述第一边相邻且平行；对所述初始版图进行初始光学邻近修正，获取所述第一修正版图，所述第一修正边与所述第一边相对应、所述第二修正边与所述第二边相对应、所述第三修正边与所述第三边相对应、所述第四修正边与所述第四边相对应。

13、可选的，获取所述第一边缘放置误差的方法包括：获取所述第一曝光边的第一采样点；获取所述第一目标边的第二采样点；获取所述第一采样点与所述第二采样点的第三间距尺寸，以所述第三间距尺寸作为所述第一边缘放置误差。

14、与现有技术相比，本发明实施例的技术方案具有以下有益效果：

15、本发明的技术方案提供的光学邻近修正方法中，对所述第一修正版图进行若干次光学邻近修正，若干次所述光学邻近修正用于平移所述第一修正边和所述第二修正边以使得所述第一边缘放置误差位于所述预设边缘放置误差范围内，以及平移所述第三修正边以增大所述第二间距尺寸至大于所述预设间距尺寸，且所述第一间距尺寸大于或等于所述掩膜规则尺寸，获取第二修正版图。通过若干次所述光学邻近修正既使得所述第一边缘放置误差位于所述预设边缘放置误差范围内，又能够增大所述第二间距尺寸至大于所述预设间距尺寸，同时还保证所述第一间距尺寸大于或等于所述掩膜规则尺寸，能够有效提升修正精度。

技术特征：

1.一种光学邻近修正方法，其特征在于，包括：

2.如权利要求1所述的光学邻近修正方法，其特征在于，所述第一边缘放置误差位于所述预设边缘放置误差范围内、或所述第一边缘放置误差大于所述预设边缘放置误差范围。

3.如权利要求2所述的光学邻近修正方法，其特征在于，当所述第一边缘放置误差位于所述预设边缘放置误差范围内时，若干次所述光学邻近修正用于平移所述第一修正边和所述第二修正边以保持所述第一边缘放置误差位于所述预设边缘放置误差范围内。

4.如权利要求2所述的光学邻近修正方法，其特征在于，当所述第一边缘放置误差大于所述预设边缘放置误差范围时，若干次所述光学邻近修正用于平移所述第一修正边和所述第二修正边以减小所述第一边缘放置误差至所述预设边缘放置误差范围内。

5.如权利要求3或4所述的光学邻近修正方法，其特征在于，每次所述光学邻近修正的方法包括：将所述第一修正边朝向远离所述第二修正图形的方向平移第一修正尺寸；将所述第二修正边朝向远离所述第一修正图形的方向平移第二修正尺寸，所述第二修正尺寸小于所述第一修正尺寸；将所述第三修正边朝向靠近所述第一修正图形的方向平移第三修正尺寸，所述第一修正尺寸大于或等于所述第三修正尺寸。

6.如权利要求5所述的光学邻近修正方法，其特征在于，所述第一修正尺寸与所述第二修正尺寸之比为：2.5：1～3.5:1。

7.如权利要求5所述的光学邻近修正方法，其特征在于，所述第一修正图形还包括：与所述第一修正边相垂直的第五修正边；每次所述光学邻近修正的方法还包括：将所述第五修正边朝向远离所述第一修正图形的方向平移第四修正尺寸，所述第四修正尺寸小于所述一修正尺寸。

8.如权利要求7所述的光学邻近修正方法，其特征在于，所述第一修正尺寸与所述第四修正尺寸之比为：2.5：1～3.5:1。

9.如权利要求1所述的光学邻近修正方法，其特征在于，所述第一修正边与所述第二修正边相连接。

10.如权利要求7所述的光学邻近修正方法，其特征在于，所述五修正边与所述第二修正边相连接。

11.如权利要求1所述的光学邻近修正方法，其特征在于，获取所述第一修正版图的方法包括：提供初始版图，所述初始版图中包括第一图形和第二图形，所述第一图形包括第一边、以及与所述第一边相垂直的第二边，所述第二图形包括相对的第三边和第四边，所述第三边与所述第一边相邻且平行；对所述初始版图进行初始光学邻近修正，获取所述第一修正版图，所述第一修正边与所述第一边相对应、所述第二修正边与所述第二边相对应、所述第三修正边与所述第三边相对应、所述第四修正边与所述第四边相对应。

12.如权利要求1所述的光学邻近修正方法，其特征在于，获取所述第一边缘放置误差的方法包括：获取所述第一曝光边的第一采样点；获取所述第一目标边的第二采样点；获取所述第一采样点与所述第二采样点的第三间距尺寸，以所述第三间距尺寸作为所述第一边缘放置误差。

技术总结
一种光学邻近修正方法，包括：获取第一修正版图，第一修正版图中包括第一修正图形和第二修正图形，第一修正图形包括第一修正边和第二修正边，第二修正图形包括第三修正边，第三修正边与第一修正边之间具有第一间距尺寸，且第一间距尺寸等于掩膜规则尺寸；获取第一曝光版图，第一曝光版图包括第一曝光图形和第二曝光图形；提供目标版图，目标版图包括第一目标图形；获取第一曝光图形与第一目标图形之间的第一边缘放置误差；对第一修正版图进行若干次光学邻近修正，若干次光学邻近修正用于平移第一修正边和第二修正边以使得第一边缘放置误差位于预设边缘放置误差范围，以及平移第三修正边以增大第二间距至大于预设间距尺寸，能够有效提升修正精度。

技术研发人员：严中稳,王晨,张戈
受保护的技术使用者：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/2/1