光学曝光系统的制作方法

本申请涉及数字化曝光(或光刻)，特别是涉及一种光学曝光系统。

背景技术：

1、目前控制器的光刻过程按照工艺制程可分为：线路或字符层曝光以及阻焊层曝光。其中，阻焊层是印刷控制器的表面的一层防焊层，主要用于防止线路图案表面出现氧化以及电子元器件间发生短路等。阻焊层曝光的传统工艺是通过紫外光源照射菲林掩模板来完成曝光。但由于菲林掩模版易污染，且每个新的电路图形都需要新的菲林掩模版，成本高。ldi(laser direct imaging，激光直接成像技术)不需要使用菲林掩膜板，且效率高，成本小。因此以激光直接成像为基础的数字光刻技术正在取代pcb行业里的菲林板曝光方式。

2、传统技术中用于曝光的数字光刻设备，利用特定波长的激光进行直接绘图，工作效率高。但是，采用这种数字光刻设备进行曝光之后的阻焊板表面的光泽度往往不能满足需求。因此，传统的数字光刻设备使用不可靠。

技术实现思路

1、基于此，有必要针对上述问题，提供一种光学曝光系统。

2、一种光学曝光系统，包括光源输出装置、照明装置和调制投射装置，所述光源输出装置连接所述照明装置，所述照明装置连接所述调制投射装置；

3、所述光源输出装置用于产生两种以上波长的光源并传输至所述照明装置，所述照明装置对接收到的所述两种以上波长的光源进行整合处理得到组合光，并将所述组合光投射至所述调制投射装置，所述调制投射装置用于将所述组合光进行图形调制后，投射至待曝光材料表面进行曝光。

4、在其中一个实施例中，所述光源输出装置包括两个以上的激光发射器，各所述激光发射器均连接所述照明装置。

5、在其中一个实施例中，光学曝光系统还包括控制器，各所述激光发射器均连接所述控制器。

6、在其中一个实施例中，光学曝光系统还包括合束装置，各所述激光发射器均通过所述合束装置连接所述照明装置。

7、在其中一个实施例中，所述控制器的数量为一个，各所述激光发射器连接同一个所述控制器。

8、在其中一个实施例中，光学曝光系统还包括箱体，所述光源输出装置和所述合束装置均设置于所述箱体内，所述光源输出装置产生的两种以上波长的光源通过所述合束装置在所述箱体内集束。

9、在其中一个实施例中，所述控制器的数量与所述激光发射器的数量相匹配，各所述激光发射器分别连接一个所述控制器。

10、在其中一个实施例中，所述照明装置的数量与所述激光发射器的数量相匹配，各所述激光发射器分别连接一个所述照明装置，各所述照明装置均连接所述调制投射装置。

11、在其中一个实施例中，所述照明装置包括耦合件、匀光件和聚焦整形镜组，所述耦合件连接所述光源输出装置，并连接所述匀光件，所述匀光件连接所述聚焦整形镜组，所述聚焦整形镜组连接所述调制投射装置。

12、在其中一个实施例中，所述调制投射装置包括数字微反射镜和投影镜头，所述照明装置连接所述数字微反射镜，所述数字微反射镜连接所述投影镜头。

13、上述光学曝光系统，包括光源输出装置、照明装置和调制投射装置，光源输出装置连接照明装置，照明装置连接调制投射装置，光源输出装置用于产生两种以上波长的光源并传输至照明装置，照明装置对接收到的两种以上波长的光源进行整合处理得到组合光，并将组合光投射至调制投射装置，调制投射装置用于将组合光进行图形调制后，投射至待曝光材料表面进行曝光。光源输出装置可以输出多种波长的光源，通过照明装置和调制投射装置对不同波长的光源的整形和图形调制等处理后，投射至待曝光材料表面进行曝光，实现了同样位置下不同波长的光源输出，曝光效果好，效率高，使用可靠。

技术特征：

1.一种光学曝光系统，其特征在于，包括光源输出装置、照明装置和调制投射装置，所述光源输出装置连接所述照明装置，所述照明装置连接所述调制投射装置；

2.根据权利要求1所述的光学曝光系统，其特征在于，所述光源输出装置包括两个以上的激光发射器，各所述激光发射器均连接所述照明装置。

3.根据权利要求2所述的光学曝光系统，其特征在于，还包括控制器，各所述激光发射器均连接所述控制器。

4.根据权利要求3所述的光学曝光系统，其特征在于，还包括合束装置，各所述激光发射器均通过所述合束装置连接所述照明装置。

5.根据权利要求4所述的光学曝光系统，其特征在于，所述控制器的数量为一个，各所述激光发射器连接同一个所述控制器。

6.根据权利要求4所述的光学曝光系统，其特征在于，还包括箱体，所述光源输出装置和所述合束装置均设置于所述箱体内，所述光源输出装置产生的两种以上波长的光源通过所述合束装置在所述箱体内集束。

7.根据权利要求3所述的光学曝光系统，其特征在于，所述控制器的数量与所述激光发射器的数量相匹配，各所述激光发射器分别连接一个所述控制器。

8.根据权利要求2所述的光学曝光系统，其特征在于，所述照明装置的数量与所述激光发射器的数量相匹配，各所述激光发射器分别连接一个所述照明装置，各所述照明装置均连接所述调制投射装置。

9.根据权利要求1-8任一项所述的光学曝光系统，其特征在于，所述照明装置包括耦合件、匀光件和聚焦整形镜组，所述耦合件连接所述光源输出装置，并连接所述匀光件，所述匀光件连接所述聚焦整形镜组，所述聚焦整形镜组连接所述调制投射装置。

10.根据权利要求1-8任一项所述的光学曝光系统，其特征在于，所述调制投射装置包括数字微反射镜和投影镜头，所述照明装置连接所述数字微反射镜，所述数字微反射镜连接所述投影镜头。

技术总结
本申请涉及一种光学曝光系统，包括光源输出装置、照明装置和调制投射装置，光源输出装置连接照明装置，照明装置连接调制投射装置，光源输出装置用于产生两种以上波长的光源并传输至照明装置，照明装置对接收到的两种以上波长的光源进行整合处理得到组合光，并将组合光投射至调制投射装置，调制投射装置用于将组合光进行图形调制后，投射至待曝光材料表面进行曝光。光源输出装置可以输出多种波长的光源，通过照明装置和调制投射装置对不同波长的光源的整形和图形调制等处理后，投射至待曝光材料表面进行曝光，实现了同样位置下不同波长的光源输出，曝光效果好，效率高，使用可靠。

技术研发人员：王阔,尚小兵
受保护的技术使用者：杭州新诺微电子有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/13