一种抗压、耐摩擦、高遮蔽扩散膜的制作方法

1.本实用新型涉及液晶显示技术领域，尤指一种抗压、耐摩擦、高遮蔽扩散膜。


背景技术：

2.扩散膜是液晶显示器中不可缺少的光学元件，位于背光模组中，在传统的扩散膜制作工艺中，通常用散射的颗粒状物混合于粘接剂中，在透明基膜上涂布混合的粘接剂，烘烤制得扩散膜，通过扩散粒子达到分散光线的目的，另扩散膜在裁切或包装或运输过程中，容易被刮擦或背光模组的不同膜间摩擦，导致扩散膜受到损坏，或是粒子脱落而损坏扩散膜的品质，或是粒子小，或不抗压，造成背光模组存在背光白点、白班、黑点、黑斑等等。


技术实现要素：

3.为解决上述问题，本实用新型提供一种抗压、耐摩擦、高遮蔽扩散膜，旨在解决扩散掉粒子在擦伤背光源导光板或其他光学膜的情况下，或因粒子小，不抗压，造成背光白点、白班、黑点、黑斑等等的问题。
4.为实现上述目的，本实用新型采用如下的技术方案是一种抗压、耐摩擦、高遮蔽扩散膜，包括透明基材层，所述的透明基材层具有相对的第一表面和第二表面，所述的第一表面为展示面，所述的第二表面与导光板贴合，在所述的第一表面涂布a胶形成扩散层，在所述的第二表面涂布b胶形成抗摩擦层，所述的扩散层和抗摩擦层均具有纳米级凸点结构。
5.优选地，所述的纳米级凸点结构具有若干凸点阵列，凸点半径为 r，r为10微米至1000微米，凸点底面直径为d，d为10微米至1000 微米。
6.优选地，所述的a胶和b胶为纳米uv色浆胶水。
7.优选地，所述的a胶为uv树脂胶水，所述的b胶为纳米uv色浆胶水。
8.优选地，所述的a胶为uv色浆胶水，所述的b胶为uv树脂胶水。
9.优选地，所述的a胶为纳米uv色浆胶水，所述的扩散层的雾度为30％至98％。
10.优选地，所述的b胶为纳米uv色浆胶水，所述的抗摩擦层的雾度为30％至98％。
11.优选地，所述的透明基材层为pet膜或pc膜或pe膜或pp膜。
12.优选地，所述的透明基材层厚度为25-250μm，所述的扩散层厚度为2-20μm，所述的抗摩擦层厚度为2-20μm。
13.本实用新型的有益效果在于：本实用新型通过滚压方式将纳米 uv色浆胶水涂布在透明基材制成的扩散膜，加入色粉比例越高，雾度越高，遮蔽性越好，采用纳米uv色浆胶水涂布在透明基材上下表面制得的扩散膜具有较高的雾度和遮蔽性能，进而使最终背光源产品具有符合使用要求的雾度和遮蔽性能。
14.另外通过涂布的方式在透明基材层上形成扩散层和抗摩擦层，使背光模组可以少使用一张膜，有效克服扩散板的遮蔽不足和重量等缺陷。
附图说明
15.图1是本实用新型实施例一的结构图。
16.图2是图1中a处放大图。
17.图3是本实用新型实施例二的结构图。
18.图4是本实用新型实施例三的结构图。
19.标注说明：
20.1、pet膜；11、扩散层；12、抗摩擦层；13、纳米级凸点阵列； 131、凸点半径；132、凸点底面直径；2、pc膜。
具体实施方式
21.实施例一
22.请参阅图1-4所示，本实用新型关于一种抗压、耐摩擦、高遮蔽扩散膜，包括透明基材层，所述的透明基材层为pet膜1或pc膜2 或pe膜或pp膜，本实施例中，透明基材层为pet膜1，所述的pet 膜1具有相对的第一表面和第二表面，所述的第一表面为展示面，所述的第二表面与导光板贴合，在所述的第一表面涂布纳米uv色浆胶水形成扩散层11，在所述的第二表面涂布纳米uv色浆胶水形成抗摩擦层12，所述的扩散层11和抗摩擦层12均具有纳米级凸点结构，所述的纳米级凸点结构具有若干凸点，凸点半径131为r，r为10微米至1000微米，凸点底面直径132为d，d为10微米至1000微米，一般来说凸点半径131越大抗压性越好，但是凸点底面直径132大密度就会越小，密度越小，抗摩擦性也会变差，即凸点半径131大抗压好，凸点底面直径132少，即多抗摩擦好。所述的扩散层11的雾度为30％至98％；所述的抗摩擦层12的雾度为30％至98％，所述的透明基材层厚度为25-250μm，所述的扩散层11厚度为2-20μm，所述的抗摩擦层12厚度为2-20μm。
23.优选地，所述纳米uv色浆胶水原料，以重量份数计包括如下组分：uv树脂胶水100份和纳米色浆5份至95份，uv树脂胶水的粘稠度为10mpa.s至500mpa.s，纳米色浆的制备原料，以重量份数计包括如下组分：无树脂uv胶水100份和色粉5份至50份，所述色粉的粒径为20-500nm，无树脂uv胶水的粘稠度为1mpa.s至300mpa.s。所述色粉包括白色或白偏蓝或白偏红或白偏紫或白偏中的任意一种或至少两种的组合。
24.本实用新型的技术方案如下：一种抗压、耐摩擦、高遮蔽扩散膜，通过滚压或模压方式，在pet膜1上下表面涂布纳米uv色浆胶水过程中，在pet膜1表面形成纳米级凸点结构，凸点阵列使扩散膜具有抗压性和抗摩擦性，纳米uv色浆胶水在普通uv树脂胶水中掺加纳米级色粉颗粒，增加了扩散膜的雾度，使其具备了遮蔽性。
25.实施例二
26.实施例二与实施例一的区别在于，本实施例中，透明基材层为 pc膜2，在所述的第一表面涂布纳米uv色浆胶水形成扩散层11，在所述的第二表面涂布uv树脂胶水形成抗摩擦层12,所述的扩散层11 的雾度为30％至98％。
27.实施例三
28.实施例三与实施例一的区别在于，本实施例中，在所述的第一表面涂布uv树脂胶水形成扩散层11，在所述的第二表面涂布纳米uv 色浆胶水形成抗摩擦层12,所述的抗摩擦层12的雾度为30％至98％。
29.本实用新型的有益效果：本实用新型纳米uv色浆胶水附着力高、硬度高、抗压、高遮蔽，同时，uv树脂胶水加入纳米色浆制得纳米 uv色浆胶水，通过滚压或模压方式涂布在pet膜1或pc膜2表面，既形成使其具有抗压、抗摩擦的纳米级凸点结构，同时制得的扩散层11和/或抗摩擦层12外观颗粒感小、通透性高、颜色鲜艳，另外，纳米uv色浆胶水不含溶剂，无voc释放，绿色环保；采用该具有良好的抗压性、抗磨擦性以及高遮蔽性的扩散膜制得的背光源，有效提高背光源良率。
30.以上实施方式仅仅是对本实用新型的优选实施方式进行描述，并非对本实用新型的范围进行限定，在不脱离本实用新型设计精神的前提下，本领域普通工程技术人员对本实用新型的技术方案作出的各种变形和改进，均应落入本实用新型的权利要求书确定的保护范围内。


技术特征：
1.一种抗压、耐摩擦、高遮蔽扩散膜，包括透明基材层，所述的透明基材层具有相对的第一表面和第二表面，所述的第一表面为展示面，所述的第二表面与导光板贴合，其特征在于：在所述的第一表面涂布a胶形成扩散层，在所述的第二表面涂布b胶形成抗摩擦层，所述的扩散层和抗摩擦层均具有纳米级凸点结构。2.根据权利要求1所述的一种抗压、耐摩擦、高遮蔽扩散膜，其特征在于：所述的纳米级凸点结构具有若干凸点阵列，凸点半径为r，r为10微米至1000微米，凸点底面直径为d，d为10微米至1000微米。3.根据权利要求1所述的一种抗压、耐摩擦、高遮蔽扩散膜，其特征在于：所述的a胶和b胶为纳米uv色浆胶水。4.根据权利要求1所述的一种抗压、耐摩擦、高遮蔽扩散膜，其特征在于：所述的a胶为uv树脂胶水，所述的b胶为纳米uv色浆胶水。5.根据权利要求1所述的一种抗压、耐摩擦、高遮蔽扩散膜，其特征在于：所述的a胶为uv色浆胶水，所述的b胶为uv树脂胶水。6.根据权利要求3或4所述的一种抗压、耐摩擦、高遮蔽扩散膜，其特征在于：所述的a胶为纳米uv色浆胶水，所述的扩散层的雾度为30％至98％。7.根据权利要求3或5所述的一种抗压、耐摩擦、高遮蔽扩散膜，其特征在于：所述的b胶为纳米uv色浆胶水，所述的抗摩擦层的雾度为30％至98％。8.根据权利要求1所述的一种抗压、耐摩擦、高遮蔽扩散膜，其特征在于：所述的透明基材层为pet膜或pc膜或pe膜或pp膜。9.根据权利要求1所述的一种抗压、耐摩擦、高遮蔽扩散膜，其特征在于：所述的透明基材层厚度为25-250μm，所述的扩散层厚度为2-20μm，所述的抗摩擦层厚度为2-20μm。

技术总结
本实用新型涉及一种抗压、耐摩擦、高遮蔽扩散膜，包括透明基材层，所述的透明基材层具有相对的第一表面和第二表面，所述的第一表面为展示面，所述的第二表面与导光板贴合，在所述的第一表面涂布A胶形成扩散层，在所述的第二表面涂布B胶形成抗摩擦层，所述的扩散层和抗摩擦层均具有纳米级凸点结构，通过滚压方式在透明基材两面形成纳米级凸点结构，涂布纳米UV色浆胶水，最终制得形成抗压、耐摩擦、高遮蔽扩散膜。扩散膜。扩散膜。


技术研发人员：伯红权
受保护的技术使用者：东莞市钰晟电子科技有限公司
技术研发日：2022.10.12
技术公布日：2023/3/6