一种新型压印结构的制作方法

本技术涉及纳米压印，尤其是一种可以提高压印层与基底层之间结合力的新型压印结构。

背景技术：

1、现有纳米压印技术中，通用采用“底涂剂”这类产品来提高压印产品中压印层与基底层的结合力，底涂济为液态药剂，存在使用不方便、环境污染的问题。

技术实现思路

1、实用新型目的：本实用新型目的是提供一种新型压印结构，既可以提高压印层与基底层之间粘接力，并且操作简单、无污染。

2、为了实现上述目的，本实用新型采用了如下的技术方案：

3、一种新型压印结构，包括基底层以及布置在基底层之上的压印层，所述基底层与压印层之间布置用于促进基底层与压印层之间结合力的增强层，所述增强层包含无机透明氧化物薄膜。

4、进一步的，所述无机透明氧化物薄膜的折射率或等效折射率与压印层材料折射率的差小于0.001，无机透明氧化物薄膜在可见光波段透过率大于90％。

5、进一步的，所述无机透明氧化物薄膜为单层，厚度为80nm，材质为二氧化硅。

6、进一步的，所述无机透明氧化物薄膜为多层，各层无机透明氧化物薄膜采用相同材质或不同材质。

7、进一步的，所述压印层的材质为压印光刻胶。

8、进一步的，所述压印层具有微透镜阵列结构。

9、进一步的，所述无机透明氧化物薄膜与基底层之间布置金属铬层，金属铬层具有透光区域和不透光区域。

10、进一步的，所述基底层为单层，材质为玻璃、塑料或金属。

11、进一步的，所述基底层为多层，各层基底层采用相同材质或不同材质，相邻基底层之间布置增强层。

12、有益效果：该压印结构采用无机透明氧化物薄膜作为压印层与基底层之间的增强层，利用无机透明氧化物薄膜表面含有大量活性的羟基，可以有效提高压印层与基底层结合力，无机透明氧化物薄膜的工艺成熟，操作无污染，透光性能好，成本低。

技术特征：

1.一种新型压印结构，包括基底层以及布置在基底层之上的压印层，其特征在于：所述基底层与压印层之间布置用于促进基底层与压印层之间结合力的增强层，所述增强层采用无机透明氧化物薄膜。

2.根据权利要求1所述的一种新型压印结构，其特征在于：所述无机透明氧化物薄膜的折射率或等效折射率与压印层材料折射率的差小于0.001，无机透明氧化物薄膜在可见光波段透过率大于90％。

3.根据权利要求2所述的一种新型压印结构，其特征在于：所述无机透明氧化物薄膜为单层，厚度为80nm，材质为二氧化硅。

4.根据权利要求2所述的一种新型压印结构，其特征在于：所述无机透明氧化物薄膜为多层，各层无机透明氧化物薄膜采用相同材质或不同材质。

5.根据权利要求3或4所述的一种新型压印结构，其特征在于：所述压印层的材质为压印光刻胶。

6.根据权利要求5所述的一种新型压印结构，其特征在于：所述压印层具有微透镜阵列结构。

7.根据权利要求1所述的一种新型压印结构，其特征在于：所述无机透明氧化物薄膜与基底层之间布置金属铬层，金属铬层具有透光区域和不透光区域。

8.根据权利要求1所述的一种新型压印结构，其特征在于：所述基底层为单层，材质为玻璃、塑料或金属。

9.根据权利要求1所述的一种新型压印结构，其特征在于：所述基底层为多层，各层基底层采用相同材质或不同材质，相邻基底层之间布置增强层。

技术总结
本技术公开了一种新型压印结构，包括基底层以及布置在基底层之上的压印层，基底层与压印层之间布置用于促进基底层与压印层之间结合力的增强层，增强层包含无机透明氧化物薄膜。该压印结构采用无机透明氧化物薄膜作为压印层与基底层之间的增强层，利用无机透明氧化物薄膜表面含有大量活性的羟基，可以有效提高压印层与基底层结合力，无机透明氧化物薄膜的工艺成熟，操作无污染，透光性能好，成本低。

技术研发人员：申建雷,李凡月,沈宝良,黄伟
受保护的技术使用者：拾斛科技（南京）有限公司
技术研发日：20221110
技术公布日：2024/1/11