高分子基材反射式光栅盘的制作方法

本技术涉及光栅盘，更具体地讲，涉及一种高分子基材反射式光栅盘。

背景技术：

1、非玻璃基板的光电码盘，具有极佳的抗冲击能力，非常适合军工宇航行业，是一类重要的光栅盘品类。但一般非玻璃基板不具有透光的性质，因此只能采用光反射式。为提高反射的光信号质量和精度，须具备能制备出高精度的光栅刻线且光栅反光区、吸光区具有大对比度；

2、目前常采用金属基板制作反射式光栅，如铝、钢等。但其存在如下技术难度：

3、1.铝作为较为活泼的金属，容易被酸碱腐蚀，使得在铝基板上蚀刻制备精密结构，需要较为繁琐的工艺流程，成品率不高；

4、2.制备精密光栅一般使用重量更轻、体积更小的薄板，但铝材薄板在运输、切割、制作过程中极容易弯曲，低平面度的光栅盘会造成测量精度的极具下降；

5、3.蚀刻后的铝材表明，粗糙度较大，会使光形成漫反射，降低反射区和吸光区间的对比度，影响测量精度；

6、4.使用化学、电化学抛光工艺，会过度腐蚀已经成形的刻线，导致光栅线条精度下降。

技术实现思路

1、本实用新型所要解决的技术问题是，提供一种高分子基材反射式光栅盘；本实用新型大大提高了光反射区与光吸收区的对比度，避免造成光漫反射，大大提高了测量精度。

2、本实用新型解决技术问题所采用的解决方案是：

3、一种高分子基材反射式光栅盘，包括由上至下依次层叠设置的薄膜组件、胶层、基板；

4、所述薄膜组件远离吸光胶层的一侧设置有形成光发射取和光吸收区的光栅图案。

5、相比现有技术在基板上直接通过蚀刻出光栅图案，本实用新型通过设置薄膜组件，将光栅图案设置有薄膜组件上，避免了直接在基板上蚀刻出现较大粗糙度，造成光形成漫反射，从而降低光反射区和光吸光区的对比度，影响测量精度的问题出现；

6、同时相比现有技术，薄膜组件相比基板重量更轻，体积更小，使得光栅图案的制作精度更高。

7、在一些可能的实施方式中，

8、所述薄膜组件为pi镀铝薄膜。

9、在一些可能的实施方式中，

10、所述pi镀铝薄膜包括设置在吸光胶层上的pi膜、设置在pi膜上的铝膜；所述光栅图案设置在铝膜上。

11、在一些可能的实施方式中，为了使得pi膜具有良好的强度；

12、所述pi膜的厚度为0.1-0.25mm。

13、在一些可能的实施方式中，

14、所述胶层为吸光胶层。

15、在一些可能的实施方式中，

16、所述吸光胶层内填充有色光吸收剂、染料中的一种或多种。

17、在一些可能的实施方式中，

18、所述基板采用铝板或钢板制成。

19、与现有技术相比，本实用新型的有益效果：

20、本实用新型采用在pi镀铝薄膜蚀刻光栅图案，由于pi基材具有稳定的化学特性，在蚀刻工艺环境无须进行专门的考虑，试剂选择范围较广，降低了工艺复杂度，提高了产品成品率；

21、本实用新型中pi膜具有极好的平面度；基板也可以采用成熟加工工艺保证平面度；解决了传统铝薄板材形变后难以恢复的问题；

22、本实用新型在使用时装配后，无脆性，具有极高的抗冲击能力；

23、本实用新型结构简单、实用性强。

技术特征：

1.一种高分子基材反射式光栅盘，其特征在于，包括由上至下依次层叠设置的薄膜组件、胶层、基板；

2.根据权利要求1所述的一种高分子基材反射式光栅盘，其特征在于，所述pi膜的厚度为0.1-0.25mm。

3.根据权利要求1所述的一种高分子基材反射式光栅盘，其特征在于，所述胶层为吸光胶层。

4.根据权利要求1-3任一项所述的一种高分子基材反射式光栅盘，其特征在于，所述基板采用铝板或钢板制成。

技术总结
本技术涉及光栅盘技术领域，具体公开了一种高分子基材反射式光栅盘，包括由上至下依次层叠设置的薄膜组件、胶层、基板；所述薄膜组件远离吸光胶层的一侧设置有形成光发射取和光吸收区的光栅图案。本技术避免了直接在基板上蚀刻出现较大粗糙度，造成光形成漫反射，从而降低光反射区和光吸收区的对比度，影响测量精度的问题出现。

技术研发人员：王德麾,姜世平,谢伟民,张宜文,钟勇
受保护的技术使用者：四川云盾光电科技有限公司
技术研发日：20221222
技术公布日：2024/1/13