曝光装置、曝光方法及电子组件的制造方法与流程

本发明是关于曝光装置、曝光方法及电子组件的制造方法。本案主张基于2021年7月5日提出申请的日本特愿2021-111770号的优先权，并将其内容引用至此。

背景技术：

1、以往，作为经由光学系统对基板照射照明光的曝光装置，已知有如下曝光装置：将利用空间光调变器调变的光通入投影光学系统，使由该光形成的像成像于涂布在基板的光阻上并进行曝光(例如参照专利文献1)。

2、[现有技术文献]

3、[专利文献]

4、[专利文献1]日本特开2005-266779号公报

技术实现思路

1、根据本发明的第一态样，提供一种曝光装置，其具备：照明光学系统；空间光调变器，被来自上述照明光学系统的光所照明；投影光学系统，将自上述空间光调变器射出的光照射至曝光对象；载台，载置曝光对象，使上述曝光对象与上述投影光学系统于既定的扫描方向相对移动；及控制部，控制空间光调变器，上述空间光调变器具有多个镜面，该多个镜面能够切换为：on状态，调整倾斜而使光能够向上述投影光学系统射出；及off状态，使光不向上述投影光学系统射出，上述控制部以将上述多个镜面切换为第一状态与第二状态的方式控制上述空间光调变器，上述第一状态与上述第二状态是成为上述on状态的上述镜面的至少一者互不相同，自上述第一状态的上述空间光调变器射出的光与自上述第二状态的上述空间光调变器射出的光形成相同形状的曝光图案。

2、根据本发明的第二态样，提供一种使用上述曝光装置对上述曝光对象进行曝光的曝光方法。

3、根据本发明的第三态样，提供一种包括藉由上述曝光方法对上述曝光对象进行曝光的电子组件的制造方法。

技术特征：

1.一种曝光装置，其具备：

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其中上述控制部切换上述第一状态与上述第二状态，并且根据上述on状态的上述镜面的位置的变更而调整上述载台的位置，藉此进行上述曝光对象上的曝光位置对准。

3.根据权利要求1所述的曝光装置，其中上述控制部切换上述第一状态与上述第二状态，并且根据上述on状态的上述镜面的位置的变更而调整上述空间光调变器的位置，藉此进行上述曝光对象上的曝光位置对准。

4.根据权利要求1所述的曝光装置，其中上述控制部切换上述第一状态与上述第二状态，并且根据上述on状态的上述镜面的位置的变更而调整上述投影光学系统的光的照射位置，藉此进行上述曝光对象上的曝光位置对准。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的曝光装置，其中上述控制部每进行一次扫描曝光即切换上述第一状态与上述第二状态。

6.根据权利要求1至4中任一项所述的曝光装置，其中上述控制部于上述曝光对象的曝光结束至开始下一曝光对象的曝光之间切换上述第一状态与上述第二状态。

7.根据权利要求1至4中任一项所述的曝光装置，其中上述控制部于预先设定的时机切换上述第一状态与上述第二状态。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的曝光装置，其中上述控制部于曝光处理时以外的时间切换上述多个镜面的上述on状态与上述off状态。

9.根据权利要求8所述的曝光装置，其中上述on状态的时间与上述off状态的时间的时间比率为1：2～2：1。

10.根据权利要求8所述的曝光装置，其中上述on状态与上述off状态的切换和扫描曝光时所进行的上述on状态与上述off状态的切换为相反相位。

11.根据权利要求1至7中任一项所述的曝光装置，其中上述控制部于曝光处理时以外的时间将上述多个镜面维持为上述on状态与上述off状态之间的中立状态。

12.根据权利要求1至11中任一项所述的曝光装置，其进一步具备：遮光构件，遮挡入射至上述空间光调变器的光的至少一部分。

13.根据权利要求1至12中任一项所述的曝光装置，其进一步具备：遮光构件，遮挡自上述空间光调变器射出的光的至少一部分。

14.根据权利要求1至13中任一项所述的曝光装置，其具备多个上述投影光学系统。

15.一种曝光方法，其是使用根据权利要求1至14中任一项所述的曝光装置将曝光对象进行曝光。

16.一种电子组件的制造方法，其包括藉由根据权利要求15的曝光方法将曝光对象进行曝光。

技术总结
本发明的曝光装置具备：照明光学系统；空间光调变器，被来自照明光学系统的光所照明；投影光学系统，将自空间光调变器射出的光照射至曝光对象；载台，载置曝光对象，使曝光对象与投影光学系统于既定的扫描方向相对移动；及控制部，控制空间光调变器。空间光调变器具备多个镜面，该多个镜面可切换为：ON状态，调整倾斜而能够向投影光学系统射出光；及OFF状态，不向投影光学系统射出光。控制部以将多个镜面切换第一状态与第二状态的方式控制空间光调变器。第一状态与第二状态是成为ON状态的镜面的至少一者互不相同，自第一状态的空间光调变器射出的光与自第二状态的空间光调变器射出的光形成形状相同的曝光图案。

技术研发人员：加藤正纪,水野仁,水野恭志
受保护的技术使用者：株式会社尼康
技术研发日：
技术公布日：2024/2/19