附膜构件和光学器件的制作方法

本发明涉及附膜构件和使用了该附膜构件的光学器件。

背景技术：

1、近年来，在显示器、投影仪和汽车前照灯等用途中，使用了装载有ld(激光二极管)和led(发光二极管)等光学元件的光学器件。在光学器件中，光学元件等构件使用焊料膜固定在安装基板上。其中，作为焊料膜，已知有含有au和sn的焊料膜。

2、例如，在下述专利文献1中，公开了一种使用au层和sn层交替叠层而成的ausn多层焊料将光学半导体元件接合在安装基板上的方法。在专利文献1的ausn多层焊料中，合计叠层有7层au层和sn层。

3、现有技术文献

4、专利文献

5、专利文献1：日本特开平10-006073号公报

技术实现思路

1、发明所要解决的技术问题

2、近年来，在使用了光学元件等构件的封装件中，一个封装件中安装多个构件的情形越来越多。但是，在这些构件的安装采用专利文献1那样的焊料膜的情况下，在多次进行伴随加热熔融的构件安装时，第一次已安装的构件的焊料膜在第二次以后的安装中也会发生熔解。因此会出现第一次已安装的构件发生错位，光学器件的可靠性无法得到充分提高的问题。

3、需要说明的是，为了解决这个问题，也考虑过使用熔点不同的焊料膜，从熔点高的焊料膜依次使用这样的方法，但存在材料设计复杂、光学器件的生产率低这样的问题。

4、本发明的目的在于提供一种多次进行伴随加热熔融的构件安装时，先安装的构件不易发生错位的附膜构件、和使用了该附膜构件的光学器件。

5、用于解决技术问题的技术方案

6、以下对能够解决上述问题的附膜构件和使用了该附膜构件的光学器件的各方式进行说明。

7、本发明的方式1的附膜构件的特征在于，具有：具有主表面的构件主体；和设置在上述构件主体的上述主表面上的密接膜，上述密接膜具有：直接地或间接地叠层在上述构件主体的上述主表面上，且含有ni的ni层；设置在上述ni层上的扩散抑制层；和设置在上述扩散抑制层上，且含有au和sn中的至少一种的焊料层。

8、方式2的附膜构件优选在方案1中，上述ni层的厚度相对于上述扩散抑制层的厚度比(ni层的厚度/扩散抑制层的厚度)为1以上、600以下。

9、方式3的附膜构件优选在方式1或方式2中，上述扩散抑制层含有选自ru、rh、pd、os、ir和pt中的至少一种。

10、方式4的附膜构件更优选在方式1～3中的任一方式中，上述扩散抑制层含有pt。

11、方式5的附膜构件优选在方式1～4中的任一方式中，上述扩散抑制层的厚度为1000nm以下。

12、方式6的附膜构件优选在方式1～5中的任一方式中，上述焊料层与接合对象部件接合而构成接合焊料层，在上述接合焊料层的厚度方向上，上述接合焊料层的上述扩散抑制层一侧的部分的au与sn的质量比(au﹕sn)为40﹕60～71﹕29，在上述接合焊料层的厚度方向上，上述接合焊料层的中央侧的部分的au与sn的质量比(au﹕sn)为84﹕16～94﹕6。

13、方式7的附膜构件优选在方式1～6中的任一方式中，上述焊料层与接合对象部件接合而构成接合焊料层，在上述接合焊料层的厚度方向上，从上述接合对象部件一侧起，依次具有以au和sn为主要成分的区域、以pt为主要成分的区域、以及以ni为主要成分的区域。需要说明的是，“主要成分”是指该材料在该区域含有80质量％以上。当然，该材料在该区域也可以含有100质量％。即，以au和sn为主要成分的区域是指au含量和sn含量的合计为80质量％以上的区域。对于以pt为主要成分的区域和以ni为主要成分的区域同样如此。此外，虽然还存在接合焊料层中熔入了接合对象部件中的成分的情形，但不考虑此情形。

14、方式8的附膜构件优选在方式1～6中的任一方式中，上述焊料层与接合对象部件接合而构成接合焊料层，ni扩散到上述接合焊料层中。

15、方式9的附膜构件优选在方式7或8中，上述焊料层与接合对象部件接合而构成接合焊料层，在上述接合焊料层的厚度方向上，ni的含量存在浓度梯度。需要说明的是，“ni的含量存在浓度梯度”是指在ni所存在的区域，其含量存在着连续的增减。此外，虽然还存在接合焊料层中熔入了接合对象部件中的成分的情形，但不考虑此情形。

16、方式10的附膜构件优选在方式1～9中的任一方式中，上述附膜构件为选自棱镜、透镜、光学元件、用于装载上述光学元件的基座(submount)、用于装载上述光学元件的封装件、以及盖体中的至少一种。

17、本发明的方式11所涉及的光学器件的特征在于，具有：棱镜；向上述棱镜发射光或从上述棱镜接收光的光学元件；装载上述棱镜和上述光学元件的封装件；和设置在上述光学元件和上述封装件之间的基座，上述棱镜和上述基座中的至少一者为方式1～10中的任一方式的附膜构件。

18、发明效果

19、根据本发明，能够提供一种多次进行伴随加热熔融的构件安装时，先安装的构件不易发生错位的附膜构件、和使用了该附膜构件的光学器件。

技术特征：

1.一种附膜构件，其特征在于，

2.如权利要求1所述的附膜构件，其特征在于，

3.如权利要求1或2所述的附膜构件，其特征在于，

4.如权利要求1或2所述的附膜构件，其特征在于，

5.如权利要求1或2所述的附膜构件，其特征在于，

6.如权利要求1或2所述的附膜构件，其特征在于，

7.如权利要求1或2所述的附膜构件，其特征在于，

8.如权利要求1或2所述的附膜构件，其特征在于，

9.如权利要求8所述的附膜构件，其特征在于，

10.如权利要求1或2所述的附膜构件，其特征在于，

11.一种光学器件，其特征在于，

技术总结
本发明提供一种多次进行伴随加热熔融的构件安装时，先安装的构件不易发生错位的附膜构件。本发明的附膜构件(1)具有：构件主体(2)；和设置在构件主体(2)的主表面(2a)上的密接膜(3)，密接膜(3)具有：直接地或间接地叠层在构件主体(2)的主表面(2a)上，且含有Ni的Ni层(6)；设置在Ni层(6)上的扩散抑制层(7)；和设置在扩散抑制层(7)上，且含有Au和Sn中的至少一种的焊料层(8)。

技术研发人员：藤田浩辉,田中宏和,山口义正
受保护的技术使用者：日本电气硝子株式会社
技术研发日：
技术公布日：2024/4/24