层叠体、光学膜、偏振片及图像显示装置的制作方法

文档序号:35290947发布日期:2023-09-01 13:11阅读:33来源:国知局
层叠体、光学膜、偏振片及图像显示装置的制作方法

本发明涉及层叠体、光学膜、偏振片及图像显示装置。


背景技术:

1、使用液晶化合物形成的液晶层用于显示器领域中使用的光学膜的用途。

2、在专利文献1中,公开了具有基材及在基材上相邻设置的液晶层的光学膜,其中不设置取向膜而形成液晶层。更具体而言,专利文献1中公开了通过使用能够在基材界面不均匀分布的聚合物,能够在不设置取向膜的情况下实现液晶层中的液晶化合物的高取向性,并且容易地从基材剥离液晶层的意思。

3、专利文献1:国际公开第2018/174194号

4、另一方面,近年来,在将液晶层贴合于各种部件时,有时使用在液晶层的两面配置有剥离性基材的层叠体。具体而言,有时在将上述层叠体的一方的基材(轻剥离基材)剥离后,将剥离面贴合在被贴合物上,然后将另一方的基材(重剥离基材)剥离,在被贴合物上贴合液晶层。在使用这样的层叠体的情况下,优选在轻剥离基材的剥离时抑制重剥离基材的剥离,并且2片基材的剥离性优异。即,优选能够以规定的顺序容易地剥离层叠体中所含的2片基材。

5、本发明人等发现,在将专利文献1中记载的包含基材及液晶层的光学膜用作如上所述的层叠体的一部分时,一方的基材难以剥离,需要进一步改良。


技术实现思路

1、鉴于上述实际情况,本发明的课题在于提供一种包含液晶层及2片基材,且能够以规定的顺序容易地剥离2片基材的层叠体。

2、并且,本发明的课题还在于提供一种光学膜、偏振片及图像显示装置。

3、本发明人等为了解决上述课题反复进行了深入研究,结果完成了以下结构的本发明。

4、(1)一种层叠体,其依次具有第1有机基材、第1液晶层、第2液晶层以及第2有机基材,

5、第1有机基材与第1液晶层之间的剥离力p1和第2有机基材与第2液晶层之间的剥离力p2满足后述式(a)的关系,

6、第2液晶层包含聚合物,

7、通过后述的不均匀度计算方法求出的不均匀度为3.0以上。

8、(2)根据(1)所述的层叠体,其中,不均匀度为100以下。

9、(3)根据(1)或(2)所述的层叠体,其中,剥离力p1和剥离力p2满足后述式(b)的关系。

10、(4)根据(1)至(3)中任一项所述的层叠体,其中,第2液晶层与第2有机基材直接接触。

11、(5)根据(1)至(4)中任一项所述的层叠体,其中,在第1液晶层与第2液晶层之间具有粘接剂层或粘合剂层。

12、(6)根据(1)至(5)中任一项所述的层叠体,其中,在第1液晶层与第2液晶层之间具有第3液晶层,

13、第2液晶层与第3液晶层直接接触。

14、(7)根据(1)至(6)中任一项所述的层叠体,其中,聚合物的弹性模量为0.01~0.30gpa。

15、(8)根据(1)至(7)中任一项所述的层叠体,其中,聚合物含有后述式(1)所表示的重复单元。

16、(9)根据(8)所述的层叠体,其中,式(1)所表示的重复单元为后述式(2)所表示的重复单元。

17、(10)一种光学膜,其是从(1)至(9)中任一项所述的层叠体剥离第1有机基材和第2有机基材而得到的。

18、(11)一种偏振片,其具有(10)所述的光学膜。

19、(12)一种图像显示装置,其具有(11)所述的偏振片。

20、发明效果

21、根据本发明,能够提供一种包含液晶层及2片基材,且能够以规定的顺序容易地剥离2片基材的层叠体。

22、并且,根据本发明,能够提供光学膜、偏振片及图像显示装置。



技术特征:

1.一种层叠体,其依次具有第1有机基材、第1液晶层、第2液晶层以及第2有机基材,

2.根据权利要求1所述的层叠体,其中,

3.根据权利要求1或2所述的层叠体,其中,

4.根据权利要求1或2所述的层叠体,其中,

5.根据权利要求1或2所述的层叠体,其中,

6.根据权利要求1或2所述的层叠体,其中,

7.根据权利要求1或2所述的层叠体,其中,

8.根据权利要求1或2所述的层叠体,其中,

9.根据权利要求8所述的层叠体,其中,

10.一种光学膜,其是从权利要求1至9中任一项所述的层叠体剥离所述第1有机基材和所述第2有机基材而得到的。

11.一种偏振片,其具有权利要求10所述的光学膜。

12.一种图像显示装置,其具有权利要求11所述的偏振片。


技术总结
本发明提供一种包含液晶层和2片基材且能够以规定的顺序容易地剥离2片基材的层叠体、光学膜、偏振片及图像显示装置。一种层叠体,其依次具有第1有机基材、第1液晶层、第2液晶层以及第2有机基材,第1有机基材与第1液晶层之间的剥离力P1和第2有机基材与第2液晶层之间的剥离力P2满足规定的关系,第2液晶层包含聚合物,通过不均匀度计算方法求出的不均匀度为3.0以上。

技术研发人员:中川一茂
受保护的技术使用者:富士胶片株式会社
技术研发日:
技术公布日:2024/1/14
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