检查装置、模板的制造方法及检查方法与流程

本发明的实施方式涉及一种检查装置、模板的制造方法及检查方法。

背景技术：

1、在制造半导体装置时，有时要对具有不同高度的多个图案的模板、以及转印有该模板的图案的半导体装置等进行缺陷检查。在缺陷检查中，有时采用如下方法，即，从上方拍摄检查对象物的既定范围，将拍摄到的图像内所包含的多个图案彼此进行比较。

2、然而，由于多个图案具有不同的高度，因此，存在焦点难以对准于图像内的所有图案的情况。对于焦点偏移的图像部分的图案来说，检查精度会降低。

技术实现思路

1、一实施方式提供一种能够高精度地进行高度不同的多个图案的缺陷检查的检查装置、模板的制造方法及检查方法。

2、实施方式的检查装置是进行试样的缺陷检查的检查装置，所述试样具有包含在第1方向上从基准面起的高度不同的多个图案的区域，所述检查装置具备：摄像部，拍摄所述区域；透镜；焦点确定部，基于与所述高度相关的高度信息，确定所述基准面与所述透镜的相对位置相关的多个目标值；图像获取部，基于所述多个目标值分别来调整所述基准面与所述透镜的相对位置，并且使所述摄像部从所述第1方向拍摄包含所述区域整体的多个图像；图像合成部，所述多个图案包含第1图案及所述高度与所述第1图案不同的第2图案，所述图像合成部从所述多个图像中的第1图像撷取包含所述第1图案的第1部分，从所述多个图像中的第2图像撷取包含所述第2图案的第2部分，生成包含所述第1部分及所述第2部分的合成图像；及缺陷判定部，根据所述合成图像来执行与所述试样有无缺陷相关的判定；所述第1图像是基于所述多个目标值中的第1目标值而拍摄，所述第2图像是基于所述多个目标值中的第2目标值而拍摄，所述第1目标值是基于所述高度信息中与所述第1图案相关的第1高度信息而确定，所述第2目标值是基于所述高度信息中与所述第2图案相关的第2高度信息而确定。

3、根据所述构成，可提供一种能够高精度地进行高度不同的多个图案的缺陷检查的检查装置、模板的制造方法及检查方法。

技术特征：

1.一种检查装置，进行试样的缺陷检查，所述试样具有包含在第1方向上从基准面起的高度不同的多个图案的区域；所述检查装置具备：

2.根据权利要求1所述的检查装置，其中

3.根据权利要求1所述的检查装置，还具备获取所述高度信息的数据获取部。

4.根据权利要求3所述的检查装置，其中

5.根据权利要求4所述的检查装置，其中

6.一种模板的制造方法，所述模板具有包含在第1方向上从基准面起的高度不同的多个图案的区域，

7.根据权利要求6所述的模板的制造方法，其中

8.根据权利要求7所述的模板的制造方法，其中

9.根据权利要求8所述的模板的制造方法，其中

10.一种模板的检查方法，所述模板具有包含在第1方向上从基准面起的高度不同的多个图案的区域，

11.根据权利要求10所述的模板的检查方法，其中

12.根据权利要求11所述的模板的检查方法，其中

13.根据权利要求12所述的模板的检查方法，其中

技术总结
本发明的实施方式涉及一种检查装置、膜板的制造方法及检查方法。实施方式的检查装置是进行试样的缺陷检查的检查装置，试样具有包含在第1方向上高度不同的多个图案的区域，检查装置具备：摄像部、透镜、焦点确定部、图像获取部及图像合成部，多个图案包含第1图案及第2图案，图像合成部从多个图像中的第1图像撷取包含第1图案的第1部分，从多个图像中的第2图像撷取包含第2图案的第2部分，生成包含第1部分及第2部分的合成图像；以及缺陷判定部；第1图像是基于第1目标值而拍摄，第2图像是基于第2目标值而拍摄，第1目标值是基于与第1图案相关的第1高度信息而确定，第2目标值是基于与第2图案相关的第2高度信息而确定。

技术研发人员：千葉啓介,吉川绫司
受保护的技术使用者：铠侠股份有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/15