光源均匀度调节装置、包括所述光源均匀度调节装置的光学装置和光源均匀度调节方法与流程

本公开的实施例涉及一种光源均匀度调节装置、包括该光源均匀度调节装置的光学装置和光源均匀度调节方法。

背景技术：

1、随着半导体制造工艺被高度集成，已经开发了用于半导体精细图形和复杂结构的三维轮廓测量技术。最近，在存储器和逻辑产品的情况下，已经使用具有20nm或更小线宽的精细工艺技术来制造晶片，并且已经需要高速精细图案工艺监控技术来改善晶片产量和质量。工艺缺陷检查和轮廓测量技术可以大致分类为光学方法和使用电子束的方法，并且光学方法在检查速度方面是优选的。然而，由于最近制造的图案具有光学分辨率或更小的线宽，因此常规光学方法在测量三维(3d)轮廓时存在局限性。为了解决这个问题，光学临界尺寸(ocd)技术已经被开发并用于3d轮廓分析，ocd技术是一种通过对从精细图案散射的光进行电磁分析的轮廓提取技术。

2、同时，在光学方法中使用的光可以通过光纤传输。光纤可以被分类为内芯直径相对较大的多模光纤和内芯直径相对较小的单模光纤。当使用多模光纤时，由于各种模式的光在有效区域内通过，因此光的均匀度可能不是恒定的。

3、为了获得均匀的光，可能需要在多模光纤内部路由光纤，这被称为卷绕任务。即，可以通过将多模光纤的形状改变为o型、u型等来诱导均匀光。然而，卷绕任务的质量取决于工人的技能水平，并且任务时间的变化也很大。

技术实现思路

1、根据本公开的实施例，提供了一种用于轻松且准确地执行光纤的卷绕任务的光源均匀度调节装置。

2、根据本公开的实施例，提供了一种用于轻松且准确地执行光纤的卷绕任务的光源装置。

3、根据本公开的实施例，提供了一种用于轻松且准确地执行光纤的卷绕任务的光源均匀度调节方法。

4、根据本发明实施例，提供了一种光源均匀度调节装置。光源均匀度调节装置包括：基板，包括位于其中的多个孔；在基板的一侧上的第一固定部分，用于固定光纤的第一部分；设置在基板的另一侧上的第二固定部分，用于固定光纤的第二部分；以及插入多个孔中的至少一个孔的柱状部分，该柱状部分在基板上路由光纤，使得光纤在第一部分和第二部分之间具有至少一种弯曲形状。

5、根据本公开的实施例，提供了一种光学装置。该光学装置包括：光源，被配置为向基底提供入射光；以及检测器，被配置为检测通过从基底反射入射光而产生的反射光，并且检测器还被配置为产生光谱图像。光源包括被配置为产生入射光的光发生器、被配置为传输入射光的光纤、以及被配置为卷绕光纤的调节装置。该调节装置包括：基板，包括位于其中的多个孔；在基板的一侧上的第一固定部分，用于固定光纤的第一部分；设置在基板的另一侧上的第二固定部分，用于固定光纤的第二部分；以及插入多个孔中的至少一个孔内的柱状部分，该柱状部分在基板上路由光纤，使得光纤在第一部分和第二部分之间具有至少一个弯曲形状。

6、根据本公开的实施例，提供了一种光源均匀度调节方法。光源均匀度调节方法包括：提供光源均匀度调节装置，该光源均匀度调节装置包括：在其中包括多个孔的基板、在基板的一侧上的第一固定部分、在基板的另一侧上的第二固定部分；将光纤的第二部分固定到第二固定部分；将柱状部分插入多个孔中的至少一个孔，以在基板上路由光纤，使得光纤包括至少一个弯曲形状；将光纤的第一部分置于第一固定部分中；检查所产生的图像的均匀度，该图像使用已经穿过光纤的光来产生；以及根据检查均匀度的结果，将光纤的第一部分固定到第一固定部分。

7、本公开的各方面不限于上面提及那些方面，并且本领域的技术人员将根据本公开的以下描述清楚地理解本公开的本文未提及的附加方面。

8、其他实施例的细节包括在详细的说明书和附图中。

技术特征：

1.一种光源均匀度调节装置，包括：

2.根据权利要求1所述的光源均匀度调节装置，其中，所述第一固定部分包括预加载装置。

3.根据权利要求2所述的光源均匀度调节装置，其中，所述预加载装置包括：

4.根据权利要求3所述的光源均匀度调节装置，其中，所述固定块包括具有第一强度的底座以及具有小于所述第一强度的第二强度的盖部，并且

5.根据权利要求1所述的光源均匀度调节装置，其中，所述光纤的第一部分连接到光发生器。

6.根据权利要求1所述的光源均匀度调节装置，其中，所述基板包括固定区，所述固定区包括所述多个孔，并且所述基板还包括围绕所述固定区的边缘区，

7.根据权利要求6所述的光源均匀度调节装置，其中，轨道沿着所述第一边缘，并且

8.根据权利要求6所述的光源均匀度调节装置，还包括设置在所述第一边缘处的第三固定部分以及设置在所述第二边缘处的第四固定部分，

9.根据权利要求1所述的光源均匀度调节装置，其中，所述多个孔呈矩阵状。

10.根据权利要求1所述的光源均匀度调节装置，其中，所述多个孔包括多个参考孔以及被设置为与所述多个参考孔相邻的至少一个调节孔。

11.根据权利要求1所述的光源均匀度调节装置，其中，所述柱状部分包括：

12.根据权利要求1所述的光源均匀度调节装置，其中，所述光纤的所述至少一个弯曲形状包括：

13.根据权利要求12所述的光源均匀度调节装置，其中，所述第二弯曲形状的形状被配置为进行改变以改善通过使用穿过所述光纤的光而产生的图像的侧向阴影。

14.根据权利要求12所述的光源均匀度调节装置，其中，所述第一弯曲形状的形状被配置为进行改变以改善通过使用穿过所述光纤的光而产生的图像的中心阴影。

15.一种光学装置，包括：

16.根据权利要求15所述的光学装置，其中，所述第一固定部分包括预加载装置，并且所述预加载装置包括：

17.根据权利要求15所述的光学装置，还包括：

18.根据权利要求17所述的光学装置，其中，所述检测器被配置为根据所述反射光产生所述光谱图像，

19.一种光源均匀度调节方法，包括：

20.根据权利要求19所述的光源均匀度调节方法，还包括：基于确定所述图像的均匀度不合适，通过改变所述柱状部分相对于所述多个孔的插入位置来修改所述光纤的形状。

技术总结
提供了一种可以轻松且准确地执行光纤的卷绕任务的光源均匀度调节装置。光源均匀度调节装置包括：基板，包括位于其中的多个孔；在基板的一侧上的第一固定部分，用于固定光纤的第一部分；设置在基板的另一侧上的第二固定部分，用于固定光纤的第二部分；以及插入多个孔中的至少一个孔内的柱状部分，该柱状部分在基板上路由光纤，使得光纤在第一部分和第二部分之间具有至少一个弯曲形状。

技术研发人员：崔成一,金亨俊,任种九,金京范,柳成润,朴美罗,李精汉,李政熙
受保护的技术使用者：三星电子株式会社
技术研发日：
技术公布日：2024/1/16