双面光刻设备的对位方法与流程

本发明涉及光刻领域，特别涉及一种双面光刻设备的对位方法。

背景技术：

1、众所周知，光刻设备的作业过程中，主要是通过激光光源射出激光，并通过激光对芯片进行照射，从而完成对芯片的光刻作业。其中，为了提高光刻的作业效率，存在有同时对芯片的双面进行光刻的情况。在光刻的过程中，芯片的基板和激光之间的对准尤为重要，目前主要通过红外对准、四物镜对准、双掩膜对准及光栅相位对准等方式进行定位。然而，这些定位方式不仅普遍具有对准速度慢和生产率低等问题，并且通常还需要使用精密扫描工作台等额外的对位用的设备，导致光刻作业的成本居高不下。

技术实现思路

1、本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本发明提出一种双面光刻设备的对位方法，能够便利、低成本地完成对位作业。

2、根据本发明的第一方面实施例的双面光刻设备的对位方法，包括遮挡机构、夹持机构和光刻对象，光刻对象的一侧设置有第一激光光源、第一引射系统和第一成像系统，另一侧设置有第二激光光源、第二引射系统和第二成像系统，所述夹持机构用于对所述光刻对象进行夹持固定，所述夹持机构设置有感应部件，以及以下步骤：

3、s1，第一激光光源和第二激光光源分别射出激光；

4、s2，第一引射系统对第一激光光源所发出的激光进行引射，使得激光被划分为检测用光和蚀刻用光，其中检测用光射入于感应部件，蚀刻用光射入第一成像系统；第二引射系统对第二激光光源所发出的激光进行引射，使得激光被划分为检测用光和蚀刻用光，其中检测用光射入于感应部件，蚀刻用光射入第二成像系统；

5、s3，感应部件与遮挡机构电连接，夹持机构上的感应部件对受到激光照射与否进行判断，当且仅当感应部件判断第一引射系统和第二引射系统均将激光引射入感应部件时，感应部件传递电信号至遮挡机构；

6、s4a，遮挡机构接收到感应部件传递至的电信号时，运动离开光刻对象，并使得第一引射系统和第二引射系统所引射的蚀刻用光均能够照射于光刻对象；

7、s4b，遮挡机构未接收到感应部件传递至的电信号时，保持对光刻对象的遮挡效果，并使得第一引射系统和第二引射系统所引射的蚀刻用光无法照射于光刻对象。

8、根据本发明实施例的双面光刻设备的对位方法，至少具有如下有益效果：第一激光光源和第二激光光源发出激光后，激光将会在第一引射系统和第二引射系统的作用下，在光刻对象的两侧形成检测用光和蚀刻用光。当且仅当光刻对象两侧的检测用光均射入至感应部件时，遮挡机构会收到来自感应部件的电信号，并撤销对光刻对象的遮挡，从而使得蚀刻用光可以顺利地照射至光刻对象处并进行光刻作业。若是光刻对象存在有至少一侧的检测用光未射入至感应部件，则遮挡机构将会保持对光刻对象的遮挡效果，并使得蚀刻用光无法对光刻对象进行光刻作业，进而避免在未对位准确的情况下进行错误的光刻工作，以保证作业后成品的良品率。

9、利用对第一激光光源和第二激光光源所射出的激光一并进行光刻作业和对位检测作业，因此无需采用额外的部件再进行对位信号的发射，从而可以有效地节省对位作业所需的部件量和作业量，并有效地提高了作业的效率，进而有效地提升产品的竞争力。

10、根据本发明的一些实施例，所述第一引射系统包括第一入射透镜组、第一反光镜组和第一空间光调制器，所述第一入射透镜组用于将所述第一激光光源产生的激光折射为平行光，所述第一反光镜组用于将所述第一入射透镜组射出的光线反射入所述第一空间光调制器，所述第一空间光调制器用于调制光线并将光线引导至所述第一成像系统和所述感应部件。

11、根据本发明的一些实施例，所述第一成像系统包括第一成像透镜组，所述第一成像透镜组的横截面积小于所述第一空间光调制器所射出的光线面积，第一空间光调制器所射出的光线中的部分射入于所述第一成像透镜组。

12、根据本发明的一些实施例，所述第一成像系统还包括用于配合所述第一成像透镜组进行成像的第二成像透镜组，所述第二成像透镜组位于所述第一成像透镜组和所述遮挡机构之间。

13、根据本发明的一些实施例，所述夹持机构包括固定架，所述固定架上具有固定夹爪，所述固定夹爪用于夹紧所述光刻对象的边缘并使得所述光刻对象的上下两侧外露。

14、根据本发明的一些实施例，所述遮挡机构包括活动连接于所述固定架的挡板，所述挡板连接有活动气缸，所述活动气缸能够带动所述挡板运动覆盖所述光刻对象或者运动离开所述光刻对象。

15、根据本发明的一些实施例，所述活动气缸通过锥齿轮副连接有转轴，所述挡板套于所述转轴的外周并能够跟随所述转轴翻转，所述挡板能够翻转覆盖所述光刻对象或远离所述光刻对象。

16、根据本发明的一些实施例，所述固定架具有限位部，所述转轴带动所述挡板翻转远离所述光刻对象时，所述限位部能够抵接所述挡板并阻碍其翻转；所述挡板与所述限位部抵接时，所述挡板位于所述检测用光和所述蚀刻用光之间。

17、根据本发明的一些实施例，所述固定架为两个且分别位于所述光刻对象的两侧，两个所述固定架能够从所述光刻对象的两侧通过所述固定夹爪对所述光刻对象进行固定，两个所述固定架的朝向相反。

18、根据本发明的一些实施例，所述感应部件为设置于所述固定架的光线传感器，所述光线传感器用于感应是否有激光照射至其自身。

19、本发明的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本发明的实践了解到。

技术特征：

1.一种双面光刻设备的对位方法，其特征在于，包括遮挡机构(200)、夹持机构(600)和光刻对象(500)，光刻对象(500)的一侧设置有第一激光光源(100)、第一引射系统(300)和第一成像系统(400)，另一侧设置有第二激光光源(900)、第二引射系统(800)和第二成像系统(700)，所述夹持机构(600)用于对所述光刻对象(500)进行夹持固定，所述夹持机构(600)设置有感应部件(650)，以及以下步骤：

2.如权利要求1所述的双面光刻设备的对位方法，其特征在于：

3.如权利要求2所述的双面光刻设备的对位方法，其特征在于：

4.如权利要求3所述的双面光刻设备的对位方法，其特征在于：

5.如权利要求1所述的双面光刻设备的对位方法，其特征在于：

6.如权利要求5所述的双面光刻设备的对位方法，其特征在于：

7.如权利要求6所述的双面光刻设备的对位方法，其特征在于：

8.如权利要求7所述的双面光刻设备的对位方法，其特征在于：

9.如权利要求5所述的双面光刻设备的对位方法，其特征在于：

10.如权利要求5所述的双面光刻设备的对位方法，其特征在于：

技术总结
本发明公开了一种双面光刻设备的对位方法，其包括：遮挡机构、夹持机构和光刻对象，光刻对象的一侧设置有第一激光光源、第一引射系统和第一成像系统，另一侧设置有第二激光光源、第二引射系统和第二成像系统，所述夹持机构用于对所述光刻对象进行夹持固定，且仅当感应部件判断第一引射系统和第二引射系统均将激光引射入感应部件时，感应部件传递电信号至遮挡机构；所述夹持机构设置有感应部件，利用对第一激光光源和第二激光光源所射出的激光一并进行光刻作业和对位检测作业，因此无需采用额外的部件再进行对位信号的发射，从而可以有效地节省对位作业所需的部件量和作业量，并有效地提高了作业的效率，进而有效地提升产品的竞争力。

技术研发人员：陈超,涂先勤,零萍,姜尧,陈锡媛,王鹏,唐战备,尚小兵,何景宜
受保护的技术使用者：中山新诺科技股份有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/16