光学层叠体及其制造方法与流程

文档序号:36922126发布日期:2024-02-02 21:48阅读:16来源:国知局
光学层叠体及其制造方法与流程

本发明涉及光学层叠体,还涉及其制造方法。


背景技术:

1、在用于图像显示装置等的圆偏振板中,提出了将拉伸高分子膜而形成的相位差膜与由包含聚合性液晶化合物和二色性色素的偏振层形成用组合物形成的偏振层组合使用(专利文献1)。

2、现有技术文献

3、专利文献

4、专利文献1:日本特开2013-228706号公报


技术实现思路

1、发明要解决的课题

2、在现有的圆偏振板中,存在从正面观察时的防反射特性降低的情况。

3、本发明的目的在于提供抑制了从正面观察光学层叠体时的防反射特性降低的光学层叠体。

4、用于解决课题的手段

5、本发明提供以下的光学层叠体、图像显示装置和光学层叠体的制造方法。

6、[1]一种光学层叠体,其依次层叠有保护膜a、粘接剂层a、偏振片、粘接剂层b和保护膜b,

7、上述光学层叠体具有取向膜、相位差膜a和相位差膜b,

8、上述偏振片是二色性色素在聚乙烯醇系树脂膜中取向而成的膜,

9、上述取向膜配置于上述保护膜b的单侧,

10、上述相位差膜a配置于上述取向膜的与上述保护膜b侧相反的一侧,是聚合性液晶化合物在取向的状态下固化而成的膜,

11、上述相位差膜b配置于上述保护膜b的与上述取向膜侧相反的一侧、或配置于相位差膜a的与上述取向膜侧相反的一侧,是聚合性液晶化合物在取向的状态下固化而成的膜。

12、[2]根据[1]中记载的光学层叠体,其中,上述相位差膜b借由贴合层而层叠于上述相位差膜a或上述保护膜b。

13、[3]根据[1]或[2]中记载的光学层叠体,其中,上述取向膜为光取向膜。

14、[4]根据[1]~[3]中任一项记载的光学层叠体,其中,形成上述相位差膜a和上述相位差膜b中的至少任一者的聚合性液晶化合物为圆盘状聚合性液晶化合物。

15、[5]根据[1]~[4]中任一项记载的光学层叠体,其中,形成上述相位差膜a和上述相位差膜b的聚合性液晶化合物均具有正波长色散性。

16、[6]根据[1]~[5]中任一项记载的光学层叠体,其中,上述保护膜b含有包含三乙酰纤维素的树脂膜,

17、上述保护膜b满足以下的式:

18、-40nm≤rth[550]≤-5nm

19、(式中,rth[550]表示温度23℃、波长550nm处的树脂膜的厚度方向的相位差值)。

20、[7]一种图像显示装置,其具有[1]~[6]中任一项记载的光学层叠体。

21、[8]一种光学层叠体的制造方法,其为[1]~[6]中任一项记载的光学层叠体的制造方法,所述制造方法包括:

22、在上述保护膜b上形成上述取向膜的工序;

23、在上述取向膜上涂布包含聚合性液晶化合物的相位差膜形成用组合物,形成涂膜的工序;以及

24、使上述涂膜固化而形成相位差膜a的工序。

25、发明效果

26、根据本发明,能够提供抑制了从正面观察光学层叠体时的防反射特性降低的光学层叠体。



技术特征:

1.一种光学层叠体,其依次层叠有保护膜a、粘接剂层a、偏振片、粘接剂层b和保护膜b,

2.根据权利要求1所述的光学层叠体,其中,所述相位差膜b借由贴合层而层叠于所述相位差膜a或所述保护膜b。

3.根据权利要求1或2所述的光学层叠体,其中,所述取向膜为光取向膜。

4.根据权利要求1或2所述的光学层叠体,其中,形成所述相位差膜a和所述相位差膜b中的至少任一者的聚合性液晶化合物为圆盘状聚合性液晶化合物。

5.根据权利要求1或2所述的光学层叠体,其中,形成所述相位差膜a和所述相位差膜b的聚合性液晶化合物均具有正波长色散性。

6.根据权利要求1或2所述的光学层叠体,其中,所述保护膜b含有包含三乙酰纤维素的树脂膜,

7.根据权利要求1或2所述的光学层叠体,其中,所述保护膜a和所述保护膜b中的至少一者的透湿度为800g/m2·24hr以上。

8.一种图像显示装置,其具有权利要求1或2所述的光学层叠体。

9.一种光学层叠体的制造方法,其为权利要求1所述的光学层叠体的制造方法,所述制造方法包括:


技术总结
本发明提供抑制了从正面观察光学层叠体时的防反射特性降低的光学层叠体。一种光学层叠体,其依次层叠有保护膜A、粘接剂层A、偏振片、粘接剂层B和保护膜B,上述光学层叠体具有取向膜、相位差膜A和相位差膜B,上述偏振片是二色性色素在聚乙烯醇系树脂膜中取向而成的膜,上述取向膜配置于上述保护膜B的单侧,上述相位差膜A配置于上述取向膜的与上述保护膜B侧相反的一侧,是聚合性液晶化合物在取向的状态下固化而成的膜,上述保护膜B配置于上述保护膜B的与上述取向膜侧相反的一侧、或上述相位差膜B的与上述取向膜侧相反的一侧,是聚合性液晶化合物在取向的状态下固化而成的膜。

技术研发人员:伊藤丰,幡中伸行
受保护的技术使用者:住友化学株式会社
技术研发日:
技术公布日:2024/2/1
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