一种新型的感光蚀刻膏及使用方法与流程

本发明涉及蚀刻，具体为一种新型的感光蚀刻膏及使用方法。

背景技术：

1、导电材料实现器件的电气导通，在触摸屏、液晶面板、半导体、太阳能领域应用广泛，导电材料一般为ito(氧化铟锡)、fto(掺杂氟的sno2)、金属铜、纳米银等，为了蚀刻出不同的线路，常规蚀刻方式为黄光蚀刻以及蚀刻膏蚀刻；

2、黄光蚀刻，需要先涂感光胶，再经过显影、曝光、蚀刻、退膜等工艺，工艺流程复杂，成本较高；蚀刻膏蚀刻需先将耐酸油墨、耐酸胶通过网版涂布在导电材料上，再涂布蚀刻膏，然后再用碱将耐酸油墨去除，蚀刻膏用量较大，浪费材料，且网版精度较低。

技术实现思路

1、本发明的目的在于提供一种新型的感光蚀刻膏及使用方法，以解决上述背景技术中提出的问题。

2、为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种新型的感光蚀刻膏，包括主要成分、添加成分和溶剂，所述添加成分包括感光剂、聚合剂和助剂，所述主要成分与导电材料相匹配；

3、当导电材料为氧化铟锡时，所述主要成分包括有机增稠剂和酸；

4、当导电材料为铜时，所述主要成分包括可溶性铜盐、铵盐。

5、所述溶剂为芳香醇类溶剂或水。

6、所述酸为有机酸或无机酸。

7、一种新型的感光蚀刻膏的使用方法，该方法包括以下步骤：

8、步骤一：将感光蚀刻膏涂布在基板上；

9、步骤二：整面涂布后基板经过曝光，曝光出图形后，再经过显影，将感光蚀刻膏的线路制备完成；

10、步骤三：制备好线路的蚀刻膏基板，可覆盖在导电材料上进行蚀刻，一定时间后，将蚀刻膏基板拿开，对导电材料进行清洗以及烘干，完成导电材料线路的制备。

11、所述基板为硬板或膜材。

12、所述硬板为fr4、玻璃、pc板或硅基板。

13、所述膜材为pet或cpi。

14、所述导电材料为氧化铟锡、fto、金属铜或纳米银。

15、所述蚀刻时间不超过1分钟。

16、所述导电材料的清洗采用喷淋清洗。

17、与现有技术相比，本发明的有益效果是：

18、本发明感光蚀刻膏通过在蚀刻膏中添加感光剂，通过曝光、显影，可在基板上形成有图形的蚀刻膏，从而使得制成的有图形的蚀刻膏基板，可多次用作导电材料的蚀刻，且图形由于是黄光制程制备而来，精密程度与黄光蚀刻相同。

技术特征：

1.一种新型的感光蚀刻膏，其特征在于，包括主要成分、添加成分和溶剂，所述添加成分包括感光剂、聚合剂和助剂，所述主要成分与导电材料相匹配；

2.根据权利要求1所述的一种新型的感光蚀刻膏，其特征在于：所述溶剂为芳香醇类溶剂或水。

3.根据权利要求1所述的一种新型的感光蚀刻膏，其特征在于：所述酸为有机酸或无机酸。

4.一种权利要求1-3任一项所述的一种新型的感光蚀刻膏的使用方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：

5.根据权利要求4所述的一种新型的感光蚀刻膏的使用方法，其特征在于：所述基板为硬板或膜材。

6.根据权利要求5所述的一种新型的感光蚀刻膏的使用方法，其特征在于：所述硬板为fr4、玻璃、pc板或硅基板。

7.根据权利要求5所述的一种新型的感光蚀刻膏的使用方法，其特征在于：所述膜材为pet或cpi。

8.根据权利要求4所述的一种新型的感光蚀刻膏的使用方法，其特征在于：所述导电材料为氧化铟锡、fto、金属铜或纳米银。

9.根据权利要求4所述的一种新型的感光蚀刻膏的使用方法，其特征在于：所述蚀刻时间不超过1分钟。

10.根据权利要求4所述的一种新型的感光蚀刻膏的使用方法，其特征在于：所述导电材料的清洗采用喷淋清洗。

技术总结
本发明涉及蚀刻技术领域，具体为一种新型的感光蚀刻膏及使用方法，包括主要成分、添加成分和溶剂，所述添加成分包括感光剂、聚合剂和助剂，所述主要成分与导电材料相匹配；当导电材料为氧化铟锡时，所述主要成分包括有机增稠剂和酸；当导电材料为铜时，所述主要成分包括可溶性铜盐、铵盐，所述溶剂为芳香醇类溶剂或水，所述酸为有机酸或无机酸；本发明感光蚀刻膏通过在蚀刻膏中添加感光剂，通过曝光、显影，可在基板上形成有图形的蚀刻膏，从而使得制成的有图形的蚀刻膏基板，可多次用作导电材料的蚀刻，且图形由于是黄光制程制备而来，精密程度与黄光蚀刻一样。

技术研发人员：苏伟,刘洁
受保护的技术使用者：深圳市志凌伟业技术股份有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/16