微透镜制作方法与流程

本公开涉及光学，特别涉及一种微透镜制作方法。

背景技术：

1、微纳级别的微透镜通常应用在有机发光二极管(organic light emittingdiode，oled)显示器上，主要的作用是聚焦、成像及光束变换等功能。

2、相关技术中提供了一种微透镜制作方法，该方法包括：在oled器件上旋涂光刻胶，然后对光刻胶进行显影曝光，形成微透镜结构。

3、在显影中引入的无论是呈强碱性的显影液还是呈弱碱性的剥离液，长时间浸泡会对oled器件中的有机发光材料产生一定程度的腐蚀，对oled器件的寿命会产生直接致命的影响。

技术实现思路

1、本公开实施例提供了一种微透镜制作方法，该方法能够避免显影液或剥离液浸泡造成的腐蚀，避免微透镜制作对oled器件的寿命产生致命影响。所述技术方案如下：

2、本公开实施例提供了一种微透镜制作方法，所述微透镜制作方法包括：

3、在金属衬底上制作绝缘层；

4、对所述绝缘层进行图形化处理，得到第一微型结构，所述第一微型结构包括阵列排布的多个第一单元；

5、利用所述金属衬底作为阴极进行电镀，在所述微型结构上形成金属模板，所述金属模板具有阵列排布的微型凹槽；

6、在所述金属模板的微型凹槽内注入光刻胶，并覆盖基板结构；

7、移除所述金属模板，在所述基板结构上形成第二微型结构，所述第二微型结构包括阵列排布的多个第二单元；

8、对所述第二微型结构进行加热，以使所述第二微型结构的各个第二单元的表面软化成球面；

9、在所述第二微型结构上覆盖一层透明填平层，得到微透镜，所述透明填平层的透过率大于所述第二微型结构的透过率。

10、可选地，所述绝缘层为紫外固化胶层，所述绝缘层的厚度为3-5微米。

11、可选地，所述对所述绝缘层进行图形化处理，包括：

12、采用x射线作为光源，通过掩膜板对所述紫外固化胶层进行曝光和显影。

13、可选地，所述第一单元为长方体，所述长方体的长度为9-10微米，所述长方体的宽度为3-4微米。

14、可选地，所述金属衬底为钛衬底；所述方法还包括：

15、在形成所述绝缘层之前，采用臭氧对所述金属衬底进行处理，使所述金属衬底表面形成一层氧化钛。

16、可选地，所述电镀的电镀时长为9-10小时。

17、可选地，所述对所述第二微型结构进行加热，包括：

18、将所述第二微型结构加热到105-125摄氏度，持续2-5分钟。

19、可选地，所述方法还包括：

20、在对所述第二微型结构加热之后，进行退火处理，退火温度为130-160摄氏度。

21、可选地，所述方法还包括：

22、在制作所述透明填平层之后，对所述透明填平层进行烘烤，烘烤温度为65-85摄氏度，烘烤时长为3-4小时。

23、可选地，软化后相邻的所述第二单元的间距为1-2微米，软化后的所述第二单元的底面宽度为3-5微米，软化后的所述第二单元的高度为2-4微米。

24、本公开实施例提供的技术方案带来的有益效果是：

25、在本公开实施例中，通过图形化处理和电镀工艺先制作一个能够反复使用的金属模板，使得该金属模板制作步骤只需进行一次，后续无需重复执行金属模板制作步骤，后续也无需进行光刻制程，从而大大简化了制作流程，能够实现微透镜的批量生产。在金属模板制作完成后，通过进入光刻胶并覆盖基板结构，得到具有多个第二单元的结构，然后通过加热软化形成半球形，再覆盖透明填平层得到形成在基板结构上的微透镜；该方法无需对基板结构上的光刻胶进行显影曝光，避免了显影液或剥离液浸泡基板结构造成的腐蚀，避免了微透镜制作对基板结构的寿命产生致命影响。

技术特征：

1.一种微透镜制作方法，其特征在于，所述微透镜制作方法包括：

2.根据权利要求1所述的微透镜制作方法，其特征在于，所述绝缘层为紫外固化胶层，所述绝缘层的厚度为3-5微米。

3.根据权利要求2所述的微透镜制作方法，其特征在于，所述对所述绝缘层进行图形化处理，包括：

4.根据权利要求1至3任一项所述的微透镜制作方法，其特征在于，所述第一单元为长方体，所述长方体的长度为9-10微米，所述长方体的宽度为3-4微米。

5.根据权利要求1至3任一项所述的微透镜制作方法，其特征在于，所述金属衬底为钛衬底；所述方法还包括：

6.根据权利要求1至3任一项所述的微透镜制作方法，其特征在于，所述电镀的电镀时长为9-10小时。

7.根据权利要求1至3任一项所述的微透镜制作方法，其特征在于，所述对所述第二微型结构进行加热，包括：

8.根据权利要求1至3任一项所述的微透镜制作方法，其特征在于，所述方法还包括：

9.根据权利要求1至3任一项所述的微透镜制作方法，其特征在于，所述方法还包括：

10.根据权利要求1至3任一项所述的微透镜制作方法，其特征在于，软化后相邻的所述第二单元的间距为1-2微米，软化后的所述第二单元的底面宽度为3-5微米，软化后的所述第二单元的高度为2-4微米。

技术总结
本公开公开了一种微透镜制作方法，属于光学技术领域。微透镜制作方法包括：在金属衬底上制作绝缘层；对绝缘层进行图形化处理，得到第一微型结构，第一微型结构包括阵列排布的多个第一单元；利用金属衬底作为阴极进行电镀，在微型结构上形成金属模板，金属模板具有阵列排布的微型凹槽；在金属模板的微型凹槽内注入光刻胶，并覆盖基板结构；移除金属模板，在盖板上形成第二微型结构，第二微型结构包括阵列排布的多个第二单元；对第二微型结构进行加热，以使第二微型结构的各个第二单元的表面软化成球面；在第二微型结构上覆盖一层透明填平层，得到微透镜，透明填平层的透过率大于第二微型结构的透过率。

技术研发人员：吴康敬,颜艳霜,孙阳,李德权
受保护的技术使用者：浙江宏禧科技有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/2/8