一种阵列波导片表面纳米级凸起的处理方法与流程

本发明属于阵列波导片，具体涉及一种阵列波导片表面纳米级凸起的处理方法，可以去除阵列波导片上抛光后的残留膜。

背景技术：

1、阵列光波导是一种光学器件，它由许多平行的波导组成，可以在空间中分布光信号。其工作原理基于波导的全内反射，在波导中传输的光信号可被阵列中的波导分布和耦合。阵列光波导器件应用范围广泛，包括光通信、光电子学、生物医学等领域。

2、目前光波导技术已经在一些可穿戴ar设备应用。光波导技术包括耦入、波导、耦出三部分，可将光线耦合进入玻璃基地，并通过“全反射”原理传输至眼前方释放，实现视场折叠和复原，保证光线无损传输。光波导的无漏损传输和高穿透性在实现了轻薄光学镜片的同时，亦可为用户提供较大的fov，保证眼镜成像清晰。此外,光波导是独立于成像系统而存在的单独元件,可将显示屏和成像系统移到额头顶部或其他位置,减少对用户的视线阻挡,优化设备佩戴感受。本发明需要解决的是抛光无法抛除的膜层，形成的凸起，这个凸起大概有100nm，这个凸起会影响ar眼镜在显示画像上会产生拖影的情况。

技术实现思路

1、为了解决上面阵列波导片表面微小凸起(纳米级)的问题。本发明提供一种阵列波导片表面纳米级凸起的处理方法。

2、本发明提供一种阵列波导片表面纳米级凸起的处理方法，其包括以下步骤，对cnc加工后的阵列波导片抛光，对抛光后的阵列波导片进行修平和/或修频即可；

3、修平时，通过铣磨机第一磨轮与玻片区域接触，磨轮目数为80-120目，第二磨轮与功能性膜层区域接触，磨轮目数为180-240目；所述铣磨机，控制机器工作台10-50r/min，磨轮1000-2000r/min，进给速度0.001-0.01mm/min；

4、修频时，对抛光后的阵列波导片曝光显影，利用保护胶遮挡不需要修频部分，根据阵列波导片表面需要修频处理的厚度，物理溅射控制电子束功率10v-350v，电子束电压50v-5000v，加速器电压50v-5000v，发射电流10ma-150ma，离子电流1ma-100ma。

5、优选的，铣磨机磨轮硬度采用新国标k-n范围内。

6、优选的，阵列波导片为偏振分光膜，材料包括氧化硅、氧化钽、铝酸镧中的一种或几种。

7、优选的，阵列波导片为偏振分光膜，材料依次为氧化硅、氧化钽、铝酸镧。

8、优选的，修平或修频前，凸起部分80-120nm，修平后凸起部分为0nm，修平后或修频去除保护胶后，可作斜面用于ar眼镜制作。

9、本发明还提供一种阵列波导片表面纳米级凸起的处理系统，其包括依次工艺连接的以下设备：

10、用于对波导片进行双面抛光的抛光设备；

11、用于对波导片进行镀膜的镀膜设备；

12、用于数个镀膜片组合成阵列产品的胶合设备，以及平面磨粗加工设备；

13、线切割设备及研磨设备；

14、cnc设备；

15、用于对cnc加工后研磨面进行抛光的第二抛光设备；

16、修平设备和/或修频设备。

17、优选的，所述胶合设备包括带有uv灯的uv胶胶合设备、光胶压合及烘烤设备中的一种或几种。

18、优选的，所述修频设备为磁控溅射设备，所述磁控溅射设备使用之前先利用曝光显影设备进行曝光显影处理，在阵列波导片表面形成保护胶层。

19、本发明的有益效果如下：

20、本发明实现了将抛光后的波导片表面纳米级凸起的去除，波导片可实现精准的光折射控制，显著优化成像效果，尤其是ar眼镜需要跟踪眼球视线轨迹的动态过程，减少图像变化时的变动差异，尤其是解决拖影的问题，提高图像清晰度和变化响应准确。

技术特征：

1.一种阵列波导片表面纳米级凸起的处理方法，其特征在于：包括以下步骤，对cnc加工后的阵列波导片抛光，对抛光后的阵列波导片进行修平和/或修频即可；

2.根据权利要求1所述的阵列波导片表面纳米级凸起的处理方法，其特征在于：铣磨机磨轮硬度采用新国标k-n范围内。

3.根据权利要求1所述的阵列波导片表面纳米级凸起的处理方法，其特征在于：阵列波导片为偏振分光膜，材料包括氧化硅、氧化钽、铝酸镧中的一种或几种。

4.根据权利要求1所述的阵列波导片表面纳米级凸起的处理方法，其特征在于：阵列波导片为偏振分光膜，材料依次为氧化硅、氧化钽、铝酸镧。

5.根据权利要求1所述的阵列波导片表面纳米级凸起的处理方法，其特征在于：修平或修频前，凸起部分80-120nm，修平后凸起部分为0nm，修平后或修频去除保护胶后，可作斜面用于ar眼镜制作。

6.根据权利要求1所述的阵列波导片表面纳米级凸起的处理方法，其特征在于：所述阵列波导片的表面具有纳米级凸起，修平时所述阵列波导片粘在硬质载板平台上。

7.根据权利要求6所述的阵列波导片的表面结构修平设备，其特征在于：磨轮为树脂磨轮，硬质载板平台材质为不锈钢。

8.一种阵列波导片表面纳米级凸起的处理系统，其特征在于：包括依次工艺连接的以下设备：

9.根据权利要求8所述的阵列波导片表面纳米级凸起的处理系统，其特征在于：所述胶合设备包括带有uv灯的uv胶胶合设备、光胶压合及烘烤设备中的一种或几种。

10.根据权利要求8所述的阵列波导片表面纳米级凸起的处理系统，其特征在于：所述修频设备为磁控溅射设备，所述磁控溅射设备使用之前先利用曝光显影设备进行曝光显影处理，在阵列波导片表面形成保护胶层。

技术总结
本发明提供一种阵列波导片表面纳米级凸起的处理方法，对CNC加工后的阵列波导片抛光，对抛光后的阵列波导片进行修平和/或修频即可，本发明实现了将抛光后的波导片表面纳米级凸起的去除，波导片可实现精准的光折射控制，显著优化成像效果，尤其是AR眼镜需要跟踪眼球视线轨迹的动态过程，减少图像变化时的变动差异，提高图像清晰度和变化响应准确。

技术研发人员：韩巍巍,纪枭,韩威风,王刚,葛文琴
受保护的技术使用者：浙江美迪凯光学半导体有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/5