掩膜版及其制备方法与流程

本公开涉及掩膜版，尤其涉及一种掩膜版及其制备方法。

背景技术：

1、现有的掩膜版是由石英玻璃和金属膜层构成，通过结构设计实现了0％和100％两种透光率。

2、另外通过添加狭缝图案(slit pattern)或变更金属膜层的材质能够拥有两种及以上的透光率，但这种方式制作掩膜版的成本高昂，需要较高的曝光功率，而且以上两种及两种以上的透光率均未超过100％。

3、需要说明的是，在上述背景技术部分公开的信息仅用于加强对本公开的背景的理解，因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。

技术实现思路

1、本公开提供一种掩膜版及其制备方法，至少在一定程度上克服透光率无法超过100％的问题。

2、本公开的其他特性和优点将通过下面的详细描述变得显然，或部分地通过本公开的实践而习得。

3、根据本公开的一个方面，提供了一种掩膜版，包括：

4、透光层，所述透光层具有第一表面，所述第一表面具有透光区和非透光区，所述透光区的厚度与所述非透光区的厚度不同；

5、遮光层，位于所述透光层的第一表面的一侧，所述遮光层对应所述透光层的透光区具有开口区。

6、在一些实施例中，所述透光区的厚度小于所述非透光区的厚度。

7、在一些实施例中，所述透光区的厚度为第一厚度值时，所述透光区对曝光光线具有增透效果。

8、在一些实施例中，所述第一厚度值，按如下方式确定：

9、

10、其中，d1为第一厚度值；*为曝光光线的波长；n2为透光层的折射率。

11、在一些实施例中，所述透光区的厚度为第二厚度值时，所述透光区对曝光光线具有增反效果。

12、在一些实施例中，所述第二厚度值，按如下方式确定：

13、2d2n2+λ/2＝kλ (k＝0，±1，±2，±3……)

14、其中，d2为第二厚度值；λ为曝光光线的波长；n2为透光层的折射率。

15、在一些实施例中，所述遮光层还具有遮光区，所述遮光区在所述透光层的正投影与所述非透光区重叠。

16、在一些实施例中，所述透光层的透光区为孔型透光区和/或线型透光区。

17、在一些实施例中，所述遮光层的开口区在所述透光层的正投影与所述透光层的透光区重叠。

18、在一些实施例中，所述透光区的厚度大于或小于所述非透光区的厚度。

19、在一些实施例中，所述透光层还具有第二表面，所述第二表面为平面；

20、在所述透光区的厚度大于所述非透光区的厚度时，所述透光区为凸透镜；

21、在所述透光区的厚度小于所述非透光区的厚度时，所述透光区为凹透镜。

22、在一些实施例中，还包括：抗反射层，位于所述遮光层背离所述透光层的一侧。

23、根据本公开的另一个方面，还提供了一种掩膜版制备方法，包括：

24、在透光层的第一表面形成透光区和非透光区，所述透光区的厚度与所述非透光区的厚度不同；

25、在所述透光层的第一表面的一侧形成遮光层，所述遮光层对应所述透光层的透光区具有开口区。

26、本公开的实施例中提供的一种掩膜版及其制备方法，在透光层设置透光区与非透光区，通过控制透光区的厚度实现了透光区的增透或增反的功能，实现了聚光效果或散光效果，曝光光线在经过具有增透功能的透光区时，透光区的透光率可以大于100％，而曝光光线在经过具有增反功能的透光区时，透光区的透光率小于100％；通过控制透光区的厚度实现了同一曝光功率下的多种透光率，且透光率能大于100％，可以使得曝光功率降低，延长曝光灯寿命，又提高效率，而且改变透光区厚度的方式工艺简单，节省成本。

27、应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本公开。

技术特征：

1.一种掩膜版，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述透光区的厚度小于所述非透光区的厚度。

3.根据权利要求2所述的掩膜版，其特征在于，所述透光区的厚度为第一厚度值时，所述透光区对曝光光线具有增透效果。

4.根据权利要求3所述的掩膜版，其特征在于，所述第一厚度值，按如下方式确定：

5.根据权利要求2所述的掩膜版，其特征在于，所述透光区的厚度为第二厚度值时，所述透光区对曝光光线具有增反效果。

6.根据权利要求5所述的掩膜版，其特征在于，所述第二厚度值，按如下方式确定：

7.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述遮光层还具有遮光区，所述遮光区在所述透光层的正投影与所述非透光区重叠。

8.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述透光层的透光区为孔型透光区和/或线型透光区。

9.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述遮光层的开口区在所述透光层的正投影与所述透光层的透光区重叠。

10.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述透光区的厚度大于或小于所述非透光区的厚度。

11.根据权利要求10所述的掩膜版，其特征在于，所述透光层还具有第二表面，所述第二表面为平面；

12.根据权利要求1或10所述的掩膜版，其特征在于，还包括：

13.一种掩膜版制备方法，其特征在于，包括：

技术总结
本公开提供了一种掩膜版及其制备方法，涉及掩膜版技术领域。所述掩膜版，包括：透光层，所述透光层具有第一表面，所述第一表面具有透光区和非透光区，所述透光区的厚度与所述非透光区的厚度不同；遮光层，位于所述透光层的第一表面的一侧，所述遮光层对应所述透光层的透光区具有开口区。通过控制透光区的厚度实现了透光区的增透或增反的功能，曝光光线在经过增透的透光区时，透光区的透光率大于100％，而曝光光线在经过增反的透光区时，透光区的透光率小于100％；通过控制透光区的厚度实现了同一曝光功率下的多种透光率，可以使得曝光功率降低，延长曝光灯寿命，又提高效率，而且改变透光区厚度的方式工艺简单，节省成本。

技术研发人员：吉如意,王云,王小龙,李文杰,何宝生
受保护的技术使用者：京东方科技集团股份有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/2/8