本发明涉及光掩模板，尤其涉及一种解决图形缺陷的光掩模板制造方法。
背景技术：
1、如图1所示，i c光掩模板设计图形大致可分为两种，一种是曝光区域图形，其主要分布在光掩模板的中间位置，另一种是边框图形，主要包括光刻机对位标识图形、条形码、扫描盘等，这些图形分布在曝光区域图形区域外。
2、相移光掩模板制作需使用电子束曝光机，制作流程一般需要经过两次光阻图形流程。如图2所示，第一次光阻图形流程利用电子束曝光机对光掩模板空白板进行曝光，再通过烘烤、显影、蚀刻、去光阻，将光掩模板的所有图形都制作出来，包括曝光区域图形和边框图形。还需要把曝光区域图形表层的铬去除，而保留边框图形表层的铬，因此需要二次光阻图形流程。如图3所示，先将光阻液均匀涂在一次光阻图形流程得到的光掩模板表面，固化成膜后，进行曝光，通过显影蚀刻选择性的将曝光区域图形区的铬蚀刻掉。
3、使用电子束曝光机时，在一次光阻图形流程存在禁止曝光区，目前有两种电子束曝光机。如图4所示，禁止曝光区域位于光掩模板距边缘几毫米范围内。整个光掩模板的尺寸是152*152mm，电子束曝光机禁止曝光区-1包含距边缘1mm及3个4*7mm的位置。电子束曝光机禁止曝光区-2包含边缘1mm区域。
4、在上述电子束曝光机禁止曝光区域内，由于电子束被遮挡而无法达到光掩模空白板表面进行曝光反应，当设计的图形(一般指靠近光掩模板边缘的边框图形)落在禁止曝光区时，此图形将无法制作出来，从而造成图形缺陷，如图5所示，影响客户端使用。
技术实现思路
1、为解决现有技术中的上述问题，本发明提供了一种解决图形缺陷的光掩模板制造方法，包括：
2、在经过一次光阻图形流程的相移光掩模板上布置第二光阻，其中经过一次光阻图形流程的相移光掩模板具有曝光区域图形；
3、通过激光曝光方式对相移光掩模板的边框图形区的第二光阻进行第二次曝光；
4、进行第二次显影去除被曝光的第二光阻，露出铬层；
5、通过蚀刻去除未被第二光阻覆盖的铬层及铬层之下的硅化钼层，得到边框图形。
6、进一步地，其特征在于，还包括：
7、通过激光曝光方式对相移光掩模板的曝光区域图形区的第二光阻进行第三次曝光；
8、对经过第三次曝光的第二光阻进行显影，去除被曝光的第二光阻，露出铬层；
9、通过湿法蚀刻去除曝光区域图形的铬层。
10、进一步地，还包括去除第二光阻，得到相移光掩模板。
11、进一步地，还包括：
12、利用电子束曝光方式对附有第一光阻的相移光掩模板空白板的曝光区域图形区进行第一次曝光，其中所述相移光掩模板空白板包括曝光区域图形区和边框图形区，曝光区域图形区位于相移光掩模板空白板的中部，边框图形区位于曝光区域图形区的四周
13、进一步地，所述相移光掩模板空白板包括石英玻璃基板、布置在石英玻璃基板之上的硅化钼层以及布置在硅化钼层之上的铬层。
14、进一步地，还包括：
15、对第一次曝光后的相移光掩模板空白板进行烘烤；
16、对烘烤后的相移光掩模板空白板进行第一次显影，去除被曝光的第一光阻，露出铬层；
17、通过干法蚀刻去除未被第一光阻覆盖的铬层和硅化钼层，形成曝光区域图形。
18、进一步地，还包括去除第一光阻，得到经过一次光阻图形流程的相移光掩模板。
19、进一步地，所述边框图形包括光刻机对位标识图形、条形码及扫描盘中的一种或多种。
20、进一步地，所述边框图形有部分位于电子束曝光机的禁止曝光区域。
21、本发明至少具有下列有益效果：本发明公开的一种解决图形缺陷的光掩模板制造方法，在曝光区域图形区进行一次光阻流程得到曝光区域图形，针对边框图形区，利用激光曝光方式进行第二次曝光，之后经过第二次显影和蚀刻得到完整的边框图形。对于激光曝光不存在禁止曝光区，激光能量可到达光掩模板任何位置，因此可将边缘处的边框图形完整的做出来，避免图形缺陷，解决了由于设计的图形落在电子束曝光机禁止曝光区造成的光掩模板图形缺陷问题。
1.一种解决图形缺陷的光掩模板制造方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的解决图形缺陷的光掩模板制造方法，其特征在于，还包括：
3.根据权利要求1所述的解决图形缺陷的光掩模板制造方法，其特征在于，还包括去除第二光阻，得到相移光掩模板。
4.根据权利要求1所述的解决图形缺陷的光掩模板制造方法，其特征在于，还包括：
5.根据权利要求4所述的解决图形缺陷的光掩模板制造方法，其特征在于，所述相移光掩模板空白板包括石英玻璃基板、布置在石英玻璃基板之上的硅化钼层以及布置在硅化钼层之上的铬层。
6.根据权利要求5所述的解决图形缺陷的光掩模板制造方法，其特征在于，还包括：
7.根据权利要求6所述的解决图形缺陷的光掩模板制造方法，其特征在于，还包括去除第一光阻，得到经过一次光阻图形流程的相移光掩模板。
8.根据权利要求1所述的解决图形缺陷的光掩模板制造方法，其特征在于，所述边框图形包括光刻机对位标识图形、条形码及扫描盘中的一种或多种。
9.根据权利要求8所述的解决图形缺陷的光掩模板制造方法，其特征在于，所述边框图形有部分位于电子束曝光机的禁止曝光区域。