晶圆聚焦区域的选择方法及操作界面系统与流程

本发明涉及半导体，尤其涉及一种晶圆聚焦区域的选择方法及操作界面系统。

背景技术：

1、晶圆经过涂胶和烘烤后被传送到光刻机，放置在晶圆工作台上，然后根据指定的曝光程式进行曝光，实现将掩膜版上的图案转移至晶圆上。为了精确地将图案转移到晶圆上，需要测量晶圆表面的曝光聚焦信息(包括水平信息)，以确定在对晶圆进行曝光时的最佳曝光焦距。而受芯片尺寸、晶圆上曝光区域排布和光刻机尺寸限制，光刻机对晶圆边缘区域的曝光聚焦信息难以检测及控制，晶圆边缘区域本身的形貌一般是起伏不平的且具有一定的倾斜值，在设置晶圆的曝光区域时，至少一曝光区域包括部分晶圆边缘区域，光刻机在进行聚焦时，由于无法获得晶圆边缘区域的曝光聚焦信息或是获得晶圆边缘区域错误的曝光聚焦信息，曝光时会导致晶圆边缘散焦，晶圆边缘的图形变形，影响最终光刻产品电性能和良率。

技术实现思路

1、本发明的目的在于提供一种晶圆聚焦区域的选择方法及操作界面系统，通过选择设定第三聚焦区域和第四聚焦区域，从而避免曝光时晶圆边缘散焦。

2、为了达到上述目的，本发明提供了一种晶圆聚焦区域的选择方法，包括：

3、提供晶圆版图，所述晶圆版图包括图形定义区和非图形定义区，所述图形定义区和所述非图形定义区设置在晶圆上且所述非图形定义区环绕所述图形定义区；

4、根据所述图形定义区和所述非图形定义区设置多个曝光区域，其中至少一所述曝光区域包括部分所述图形定义区和部分所述非图形定义区；

5、模拟检测所述图形定义区的曝光聚焦信息，获得所述图形定义区中不具有曝光聚焦信息的区域作为第一聚焦区域；

6、获得所述第一聚焦区域对应的曝光区域；

7、选择位于所述第一聚焦区域对应的曝光区域内的至少部分所述非图形定义区并设定为第二聚焦区域；

8、合并所述图形定义区和所述第二聚焦区域以产生第三聚焦区域；

9、扣除所述非图形定义区内的所述第二聚焦区域以产生第四聚焦区域；以及，

10、输出所述第三聚焦区域和所述第四聚焦区域至所述晶圆上。

11、可选的，所述图形定义区呈圆形，所述非图形定义区呈环形，所述图形定义区和所述非图形定义区相接。

12、可选的，所述非图形定义区的宽度为1mm～3mm。

13、可选的，选择位于所述第一聚焦区域对应的曝光区域内的至少部分所述非图形定义区并设定为第二聚焦区域包括：

14、选择位于所述第一聚焦区域对应的曝光区域内的全部所述非图形定义区并设定为所述第二聚焦区域。

15、可选的，所述第二聚焦区域的宽度与所述非图形定义区的宽度相同。

16、可选的，选择位于所述第一聚焦区域对应的曝光区域内的至少部分所述非图形定义区并设定为第二聚焦区域包括：

17、沿所述非图形定义区的径向自所述图形定义区向外，选择所述第一聚焦区域对应的曝光区域内的部分所述非图形定义区并设定为所述第二聚焦区域，所述第二聚焦区域的宽度小于所述非图形定义区的宽度。

18、可选的，所述第二聚焦区域与所述图形定义区相接。

19、可选的，所述第三聚焦区域和所述第四聚焦区域分别具有一不规则边界。

20、本发明还提供了一种晶圆聚焦区域的选择方法，其中，包括：

21、提供晶圆版图，所述晶圆版图包括图形定义区和非图形定义区，所述图形定义区和所述非图形定义区设置在晶圆上且所述非图形定义区环绕所述图形定义区；

22、根据所述图形定义区和所述非图形定义区设置多个曝光区域，其中至少一所述曝光区域包括部分所述图形定义区和部分所述非图形定义区；

23、模拟检测所述晶圆版图的曝光聚焦信息；

24、过滤所述非图形定义区的曝光聚焦信息；

25、获得所述图形定义区中不具有曝光聚焦信息对应的曝光区域；

26、保留位于所述图形定义区中不具有曝光聚焦信息对应的曝光区域内被过滤的至少部分所述非图形定义区。

27、可选的，保留位于所述图形定义区中不具有曝光聚焦信息对应的曝光区域内被过滤的至少部分所述非图形定义区包括：

28、保留位于所述图形定义区中不具有曝光聚焦信息对应的曝光区域内被过滤的全部所述非图形定义区。

29、可选的，保留位于所述图形定义区中不具有曝光聚焦信息对应的曝光区域内被过滤的至少部分所述非图形定义区包括：

30、保留位于所述图形定义区中不具有曝光聚焦信息对应的曝光区域内被过滤的部分所述非图形定义区，且位于所述图形定义区中不具有曝光聚焦信息对应的不同曝光区域内保留的所述非图形定义区的面积相同或不同。

31、本发明还提供了一种用于选择晶圆聚焦区域的操作界面系统，其中，包括：

32、数据库存储系统，存储有晶圆版图及所述晶圆版图的曝光信息；

33、与晶圆曝光相关的操作界面，所述操作界面直接或间接地与所述数据库存储系统通讯；

34、其中，通过所述操作界面获得所述晶圆版图及所述晶圆版图的曝光信息，并根据上述的晶圆聚焦区域的选择方法修改所述晶圆版图的曝光信息。

35、可选的，所述操作界面包括用于选中不同的曝光区域。

36、本发明还提供了一种用于选择晶圆聚焦区域的操作界面系统，其中，包括：

37、数据库存储系统，存储有晶圆版图及所述晶圆版图的曝光信息；

38、与晶圆曝光相关的操作界面，所述操作界面直接或间接地与所述数据库存储系统通讯；

39、其中，通过所述操作界面获得所述晶圆版图及所述晶圆版图的曝光信息，并根据上述的晶圆聚焦区域的选择方法修改所述晶圆版图的曝光信息。

40、可选的，所述操作界面包括用于选中不同的曝光区域。

41、在本发明提供的晶圆聚焦区域的选择方法及操作界面系统中，通过模拟检测图形定义区的曝光聚焦信息，获得图形定义区中不具有曝光聚焦信息的区域作为第一聚焦区域，然后获得第一聚焦区域对应的曝光区域，选择位于第一聚焦区域对应的曝光区域内的至少部分非图形定义区并设定为第二聚焦区域，进而合并图形定义区和第二聚焦区域以产生第三聚焦区域，扣除非图形定义区内的第二聚焦区域以产生第四聚焦区域，通过选择设定第三聚焦区域和第四聚焦区域，将图形定义区扩大设定为第三聚焦区域，第三聚焦区域相当于新的图形定义区，在对晶圆进行检测时，能够检测获得整个第三聚焦区域的曝光聚焦信息，第三聚焦区域中不会存在不具有曝光聚焦信息的区域，从而避免曝光时晶圆边缘散焦。

技术特征：

1.一种晶圆聚焦区域的选择方法，其中，包括：

2.如权利要求1所述的晶圆聚焦区域的选择方法，其特征在于，所述图形定义区呈圆形，所述非图形定义区呈环形，所述图形定义区和所述非图形定义区相接。

3.如权利要求2所述的晶圆聚焦区域的选择方法，其特征在于，所述非图形定义区的宽度为1mm～3mm。

4.如权利要求1所述的晶圆聚焦区域的选择方法，其特征在于，选择位于所述第一聚焦区域对应的曝光区域内的至少部分所述非图形定义区并设定为第二聚焦区域包括：

5.如权利要求4所述的晶圆聚焦区域的选择方法，其特征在于，所述第二聚焦区域的宽度与所述非图形定义区的宽度相同。

6.如权利要求1所述的晶圆聚焦区域的选择方法，其特征在于，选择位于所述第一聚焦区域对应的曝光区域内的至少部分所述非图形定义区并设定为第二聚焦区域包括：

7.如权利要求6所述的晶圆聚焦区域的选择方法，其特征在于，所述第二聚焦区域与所述图形定义区相接。

8.如权利要求1所述的晶圆聚焦区域的选择方法，其特征在于，所述第三聚焦区域和所述第四聚焦区域分别具有一不规则边界。

9.一种晶圆聚焦区域的选择方法，其中，包括：

10.如权利要求9所述的晶圆聚焦区域的选择方法，其特征在于，保留位于所述图形定义区中不具有曝光聚焦信息对应的曝光区域内被过滤的至少部分所述非图形定义区包括：

11.如权利要求9所述的晶圆聚焦区域的选择方法，其特征在于，保留位于所述图形定义区中不具有曝光聚焦信息对应的曝光区域内被过滤的至少部分所述非图形定义区包括：

12.一种用于选择晶圆聚焦区域的操作界面系统，其中，包括：

13.如权利要求12所述的用于选择晶圆聚焦区域的操作界面系统，其特征在于，所述操作界面包括用于选中不同的曝光区域。

14.一种用于选择晶圆聚焦区域的操作界面系统，其中，包括：

15.如权利要求14所述的用于选择晶圆聚焦区域的操作界面系统，其特征在于，所述操作界面包括用于选中不同的曝光区域。

技术总结
本发明提供了一种晶圆聚焦区域的选择方法及操作界面系统，包括：提供晶圆版图，晶圆版图包括图形定义区和非图形定义区；根据图形定义区和非图形定义区设置多个曝光区域；模拟检测图形定义区的曝光聚焦信息，获得图形定义区中不具有曝光聚焦信息的区域作为第一聚焦区域；获得第一聚焦区域对应的曝光区域；选择位于第一聚焦区域对应的曝光区域内的至少部分非图形定义区并设定为第二聚焦区域；合并图形定义区和第二聚焦区域以产生第三聚焦区域；扣除非图形定义区内的第二聚焦区域以产生第四聚焦区域；输出第三聚焦区域和第四聚焦区域至晶圆上。本发明通过选择设定第三聚焦区域和第四聚焦区域，从而避免曝光时晶圆边缘散焦。

技术研发人员：刘越,夏忠平
受保护的技术使用者：福建省晋华集成电路有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/4/7