可自动清洗的旋涂单元的制作方法

本技术涉及半导体晶片加工，具体涉及一种可自动清洗的旋涂单元。

背景技术：

1、led芯片制备主要包括光刻，镀膜，刻蚀，清洗等工艺流程。其中光刻工艺对于led芯片的制备又是一个重要环节，对后期芯片制备的良率及光电性有至关重要的作用。光刻工艺一般分为匀胶、曝光、显影三步。匀胶主要是在晶圆上均匀涂布一层光刻胶，一般采用旋涂的方式，胶膜的均匀性是评价匀胶设备好坏的一个重要标准。但现在匀胶单元经过旋涂后，光刻胶会粘附在设备的上胶盘及下胶盘上，特别是下胶盘的平底设计，会因为时间的推迟积累过多的光刻胶难以清理。依靠人工清洗保持上下胶盘干净整洁，该工作耗费大量的人力，物料以及时间；同时光刻胶对身体有害，容易对清洁人员健康产生影响。

技术实现思路

1、本实用新型要解决的技术问题是：克服现有技术的不足，提供一种可自动清洗的旋涂单元，通过弧形设置的上下胶盘，以及位于上下胶盘之间的清洗组件，实现了上下胶盘上光刻胶的自动清洗。

2、本实用新型的技术方案为：

3、一种可自动清洗的旋涂单元，包括如下单元：

4、匀胶单元，包括机械手臂以及安装于机械手臂末端的匀胶胶管；机械手臂带动匀胶胶管上下升降并驱动匀胶胶管旋转至载盘正上方，自匀胶胶管朝向载盘上的晶圆边缘喷涂胶水；

5、下胶盘单元，包括弧形设置的下胶盘、与下胶盘榫卯连接的旋转支臂、以及驱动旋转支臂动作的旋转电机；旋转电机带动旋转支臂旋转从而同步带动下胶盘旋转；

6、上胶盘单元，包括弧形设置的上胶盘、以及位于上胶盘底部的动力模块；动力模块驱动位于其上的上胶盘旋转；

7、载盘单元，包括载盘以及销轴；载盘设置有吸附圆晶的真空孔，载盘通过销轴与旋转支臂相连，载盘在旋转电机驱动下旋转；

8、清洗单元，包括位于下胶盘与上胶盘之间缝隙处的清洗组件；清洗组件呈弧形条状设置，且清洗组件上开设有若干喷头；间隔设置的清洗组件至少分为清洗件ⅰ和清洗件ⅱ；

9、其中，上胶盘位于下胶盘上方，下胶盘与上胶盘底部设置有倒梯形的导流槽。

10、优选地，所述下胶盘包括弧形设置的上壳体、以及位于上壳体下方的底壳；上壳体与底壳中部开设有通孔，沿通孔处上壳体与底壳均设置有与旋转支臂相配合的榫卯节点。

11、优选地，所述下胶盘的底壳的外缘底部设置有滑轮ⅰ，底壳下方设置有支撑模块，支撑模块上铺设与滑轮ⅰ相配合的轨道。

12、优选地，所述上胶盘包括弧形的壳体，壳体下方设置有与动力模块相配合的滑轮ⅱ。

13、优选地，所述支撑模块的外侧面、动力模块的内侧面分别为构成导流槽的斜面之一。

14、优选地，所述载盘的真空孔通过供真空管与抽真空装置连接，圆晶通过真空孔吸附于载盘上。

15、优选地，所述下胶盘与上胶盘同向同速进行旋转，旋涂时产生的残留光刻胶自导流槽排出。

16、优选地，所述清洗组件内的清洗液包括丙酮、异丙醇、pgmea、nmp去胶液、酒精。

17、本实用新型与现有技术相比，具有以下有益效果：

18、通过改进上下胶盘形状，由平底设计改为弧形设置，方便光刻胶的自由滑落；在上下胶盘之间的增加了清洗组件，利用带有喷头的清洗组件实现上下胶盘上光刻胶的自动清洗；本实用新型不但节省物料，人力及时间，更能保证清洁人员的身体健康。

技术特征：

1.一种可自动清洗的旋涂单元，其特征在于，包括如下单元：

2.如权利要求1所述的可自动清洗的旋涂单元，其特征在于，所述下胶盘(2)包括弧形设置的上壳体、以及位于上壳体下方的底壳；上壳体与底壳中部开设有通孔，沿通孔处上壳体与底壳均设置有与旋转支臂(13)相配合的榫卯节点(21)。

3.如权利要求2所述的可自动清洗的旋涂单元，其特征在于，所述下胶盘(2)的底壳的外缘底部设置有滑轮ⅰ(22)，底壳下方设置有支撑模块(23)，支撑模块(23)上铺设与滑轮ⅰ(22)相配合的轨道。

4.如权利要求3所述的可自动清洗的旋涂单元，其特征在于，所述上胶盘(3)包括弧形的壳体，壳体下方设置有与动力模块(32)相配合的滑轮ⅱ(31)。

5.如权利要求3所述的可自动清洗的旋涂单元，其特征在于，所述支撑模块(23)的外侧面、动力模块(32)的内侧面分别为构成导流槽(4)的斜面之一。

6.如权利要求1所述的可自动清洗的旋涂单元，其特征在于，所述载盘(1)的真空孔通过供真空管与抽真空装置连接，圆晶通过真空孔吸附于载盘(1)上。

7.如权利要求1或4所述的可自动清洗的旋涂单元，其特征在于，所述下胶盘(2)与上胶盘(3)同向同速进行旋转，旋涂时产生的残留光刻胶自导流槽(4)排出。

技术总结
本技术涉及半导体晶片加工技术领域，具体涉及一种可自动清洗的旋涂单元。其通过弧形设置的上下胶盘，以及位于上下胶盘之间的清洗组件，实现了上下胶盘上光刻胶的自动清洗。本技术包括如下单元：匀胶单元包括机械手臂以及安装于机械手臂末端的匀胶胶管；下胶盘单元包括弧形设置的下胶盘、与下胶盘榫卯连接的旋转支臂、以及驱动旋转支臂动作的旋转电机；上胶盘单元包括弧形设置的上胶盘、以及位于上胶盘底部的动力模块；载盘单元包括载盘以及销轴；清洗单元包括位于下胶盘与上胶盘之间缝隙处的清洗组件；上胶盘位于下胶盘上方，下胶盘与上胶盘底部设置有倒梯形的导流槽。本技术不但节省物料，人力及时间，更能保证清洁人员的身体健康。

技术研发人员：朱帅,康志杰
受保护的技术使用者：青岛融合微电子科技有限公司
技术研发日：20230302
技术公布日：2024/1/14