光刻平台及光刻设备的制作方法

本技术涉及激光直写式曝光，特别是涉及一种光刻平台及光刻设备。

背景技术：

1、随着科技的不断发展，越来越多的电子设备被使用，而电子设备中最主要之一就是电路板，因此，电路板的生产也是电子设备生产中极为重要的一环，相比于传统的掩膜版和菲林底片的曝光方式，激光直写式曝光技术是通过对曝光激光进行调制以在基板上形成具有特征的构图，激光直写技术产能高，步骤简单，对位精度高，在半导体以及pcb生产领域有非常重要的作用。

2、但现有的激光直写光刻设备的光刻平台为了提高曝光效率，减少曝光等待时长，常装备双台面的平台设备，两个平台交替做曝光操作，但是交替曝光的平台结构为上下交错的悬臂梁结构，两个平台不仅能够相对光学引擎设备做升降运动，还能够沿着平台的y轴方向移动，因此在运动的过程中，由于平台在沿y轴移动的导轨跨距较小，若在移动的过程中发生略微摆动，则会使的台面发生较大的摆幅，因此会对待加工的基板的加工精度造成较大的影响。

技术实现思路

1、有鉴于此，本实用新型提供一种光刻平台及光刻设备，该光刻平台通过在平台的底部设置跨距较大的导轨，减少因底座的震动而造成平台较大的摆幅，从而提高了基板的加工精度。

2、本实用新型提供一种光刻平台，包括底座与平台组件，所述底座表面沿第一方向布设有多个导轨，多个所述第一导轨设置在所述底座的不同高度的位置处，所述平台组件对接安装于所述第一导轨，并能够沿着所述第一导轨的布设方向滑动。

3、可以理解的是，通过将导轨设置在底座的不同高度的位置处，从而提高导轨之间的跨距，减少阿贝误差，避免平台组件在移动过程中使得台面产生较大的摆幅。

4、在本实用新型的一个实施例中，所所述底座的两侧凸设有加强部，多个所述第一导轨分别设置在所述加强部的内壁以及所述底座的表面，所述平台组件的底部对接所述底座表面的所述第一导轨，所述平台组件的侧壁抵接所述加强部内部的所述第一导轨，所述平台组件能够沿所述第一导轨相对所述底座滑动。

5、可以理解的是，通过将第一导轨分别设置在底座的表面和加强部的内壁，即能够提高导轨之间的跨距，减少阿贝误差，也能够通过稳定平台组件。

6、进一步地，所述平台组件对应两个所述第一导轨，其中一个设置在所述底座的表面，另一个设置在所述加强部内壁，所述平台组件分别抵接两个所述第一导轨，并能够相对所述底座滑动。

7、在本实用新型的一个实施例中，所述底座表面凸设有不同高度的抵接部，且所述平台组件的底部对应所述抵接部凹陷形成对接部，多个所述第一导轨设置于不同高度的所述抵接部，所述平台组件对接所述第一导轨并能够沿着所述第一导轨滑动。

8、可以理解的是，通过在底座上设置不同的高度的抵接部，并在抵接部上设置第一导轨，使得第一导轨之间的直线跨距增大，减少阿贝误差。

9、进一步地，每组所述平台组件对应的所述第一导轨的数量设置为两个，两个所述第一导轨分别设置于不同高度的所述抵接部，所述平台组件通过两个所述第一导轨安装至所述底座，并能够相对所述底座滑动。

10、在本实用新型的一个实施例中，所述平台组件包括支撑平台以及吸附台面，所述吸附台面安装于所述支撑平台，所述支撑平台对接所述第一导轨，所述吸附台面随所述支撑平台沿所述第一导轨滑动。

11、可以理解的是，通过设置支撑平台与吸附平台，从而能够对待加工的基板气道支撑作用，且通过吸附平台对基板起到吸附固定的作用。

12、在本实用新型的一个实施例中，所述支撑平台包括第一支撑件与第二支撑件，所述吸附平台固定安装于所述第一支撑件，所述第二支撑件抵接所述第一导轨，所述第二支撑件设有垂直于所述底座的第二导轨，所述第一支撑件安装于所述第二导轨，并能够沿着所述第二导轨相对靠近或远离所述底座；或，所述第一支撑件与所述第二支撑件固定连接。

13、可以理解的是，通过设置第一支撑件及第二支撑件，当需要吸附平台上下运动时，可使得第一支撑件通过第二导轨相对靠近或远离所述底座；当需要固定连接时，所述第一支撑件与第二支撑件固定连接。

14、本实用新型的一个实施例中，所述平台组件的数量设置为两个，且两个所述平台组件关于所述底座的中心轴线对称设置。

15、如此设置，通过设置对称设置的平台组件，从而能够提高光刻设备的效率。

16、实用新型的一个实施例中，对称设置的所述平台组件中的所述吸附台面上下交错设置。

17、可以理解的是，通过将吸附台面上下交错设置，在保证加工稳定性的同时，减少设备的空间占用率。

18、本实用新型还提供一种光刻设备，包括光学引擎以及如上述任意一项所述的光刻平台，所述光刻平台对应所述光学引擎设置。

19、可以理解的是，通过设置该光刻平台的光刻设配，减少了阿贝误差，提高了基板的加工精准度。

20、本实用新型提供一种光刻平台及光刻设备，该光刻平台通过在平台的底部设置跨距较大的导轨，减少因底座的震动而造成平台较大的摆幅，降低了阿贝误差，从而提高了基板的加工精度。

技术特征：

1.一种光刻平台，其特征在于，包括底座（10）与平台组件（20），所述底座（10）表面沿第一方向布设有多个第一导轨（30），多个所述第一导轨（30）设置在所述底座（10）的不同高度的位置处，所述平台组件（20）对接安装于所述第一导轨（30），并能够沿着所述第一导轨（30）的布设方向滑动。

2.如权利要求1所述的光刻平台，其特征在于，所述底座（10）的两侧凸设有加强部（11），多个所述第一导轨（30）分别设置在所述加强部（11）的内壁以及所述底座（10）的表面，所述平台组件（20）的底部对接所述底座（10）表面的所述第一导轨（30），所述平台组件（20）的侧壁抵接所述加强部（11）内部的所述第一导轨（30），所述平台组件（20）能够沿所述第一导轨（30）相对所述底座（10）滑动。

3.如权利要求2所述的光刻平台，其特征在于，所述平台组件（20）对应两个所述第一导轨（30），其中一个设置在所述底座（10）的表面，另一个设置在所述加强部（11）内壁，所述平台组件（20）分别抵接两个所述第一导轨 （30），并能够相对所述底座（10）滑动。

4.如权利要求1所述的光刻平台，其特征在于，所述底座（10）表面凸设有不同高度的抵接部（12），且所述平台组件（20）的底部对应所述抵接部（12）凹陷形成对接部，多个所述第一导轨（30）设置于不同高度的所述抵接部（12）， 所述平台组件（20）对接所述第一导轨（30）并能够沿着所述第一导轨（30）滑动。

5.如权利要求4所述的光刻平台，其特征在于，每组所述平台组件（20）对应的所述第一导轨（30）的数量设置为两个，两个所述第一导轨（30）分别设置于不同高度的所述抵接部（12），所述平台组件（20）通过两个所述第一导轨（30）安装至所述底座（10），并能够相对所述底座（10）滑动。

6.如权利要求1所述的光刻平台，其特征在于，所述平台组件（20）包括支撑平台（21）以及吸附台面（22），所述吸附台面（22）安装于所述支撑平台（21），所述支撑平台（21）对接所述第一导轨（30），所述吸附台面（22）随所述支撑平台（21）沿所述第一导轨（30）滑动。

7.如权利要求6所述的光刻平台，其特征在于，所述支撑平台（21）包括第一支撑件（212）与第二支撑件（211），所述吸附台面（22）固定安装于所述第一支撑件（212），所述第二支撑件（211）抵接所述第一导轨（30），所述第二支撑件（211）设有垂直于所述底座（10）的第二导轨，所述第一支撑件（212）安装于所述第二导轨，并能够沿着所述第二导轨相对靠近或远离所述底座（10）；或所述第一支撑件（212）与所述第二支撑件（211）固定连接。

8.如权利要求6所述的光刻平台，其特征在于，所述平台组件（20）的数量设置为两个，且两个所述平台组件（20）关于所述底座（10）的中心轴线对称设置。

9.如权利要求8所述的光刻平台，其特征在于，对称设置的所述平台组件（20）中的所述吸附台面（22）上下交错设置。

10.一种光刻设备，其特征在于，包括光学引擎以及如上述权利要求 1 至 9 任意一项所述的光刻平台，所述光刻平台对应所述光学引擎设置。

技术总结
本技术提供一种光刻平台及光刻设备，包括底座与平台组件，所述底座表面沿第一方向布设有多个导轨，多个所述第一导轨设置在所述底座的不同高度的位置处，所述平台组件对接安装于所述第一导轨，并能够沿着所述第一导轨的布设方向滑动；通过将导轨设置在底座的不同高度的位置处，从而提高导轨之间的跨距，减少阿贝误差，避免平台组件在移动过程中使得台面产生较大的摆幅。

技术研发人员：汪益立,王珺,韩晓圆,陈超,零萍
受保护的技术使用者：杭州新诺微电子有限公司
技术研发日：20230303
技术公布日：2024/1/15