一种掩模版保护装置及光刻机的制作方法

本技术涉及一种掩模版保护装置及光刻机。

背景技术：

1、现有的接近接触式光刻机，掩模版上载完成后被吸附在掩模版吸附件下端，当出现意外情况(如意外断电断气)时，吸附件无法再吸附掩模版，掩模版将直接向下掉落，通常情况下，掩模版距离光刻机底部是有一段距离的，若任由掩模版掉落，掩模版极大可能损坏，因此需要一种保护机制，在掩模版意外掉落时避免其摔落损坏，但现有的光刻机吸附件并没有这种保护机制。

技术实现思路

1、本实用新型提出一种掩模版保护装置及光刻机，能够防止掩模版因意外掉落而损坏。

2、本实用新型通过以下技术方案实现：

3、一种掩模版保护装置，包括具有通孔的固定件、由上至下设置在固定件上并封闭通孔的吸附件、设置在固定件下端的多个保护件和与各保护件连接的电磁阀，掩模版被吸附件下端所吸附，保护件具有可水平伸缩的承托部，承托部可伸出至掩模版下方以在掩模版掉落时将其接住，电磁阀使保护件在突发情况时保持住当前状态，吸附件由上至下设置在固定件上，拆装都更方便；当掩模版意外掉落时，承托部能够保持位于掩模版下方的状态，以接住掩模版，避免其直接跌落损坏，吸附件上可吸附不同尺寸的掩模版，对于不同尺寸的掩模版，保护件承托部伸出不同长度即可，使本装置使用范围更广，保护件通过电磁阀控制，能够使得保护组件在断气断电的情况下也能保持当前状态，从而实现接住掉落的掩模版的作用。

4、进一步的，所述承托部包括第一端部和通过连接机构可拆卸设置在第一端部上的第二端部，第一端部和第二端部分别对应于不同尺寸的掩模版，如此对于不同尺寸的掩模版，通过拆卸第二端部即可实现保护，方便可靠。

5、进一步的，所述连接机构包括设置在第一端部前端的磁吸件和连接孔、设置在第二端部后端以插入连接孔的连接杆和供磁吸件插入的磁吸槽，由磁吸和连接杆进行双重固定，既保证了可靠性又使得第二端部的拆装更为方便快速。

6、进一步的，所述保护件还包括驱动机构，驱动机构输出端与承托部连接以驱动其伸缩，电磁阀与驱动机构连接，结构合理。

7、进一步的，所述第一端部和第二端部均具有用于接住掩模版的水平面。

8、进一步的，所述第二端部下端具有水平延伸至第一端部下端的延伸部，安装时，该延伸部可以起到辅助定位作用，使第二端部能够更快地安装在第一端部上，另外，当掩模版掉落时，第二端部受到垂直向下的力，而第二端部与第一端部之间是通过水平的连接杆和磁吸件固定的，且连接孔在加工时为了使连接杆能够插入抽出，是留有公差间隙的，如此在接住掩模版时会存在一定的颠簸，而延伸部水平延伸至第一端部下端，即能够有效降低该颠簸程度，从而使掉落的掩模版能够更稳地被接住，避免掩模版因该颠簸而损坏。

9、进一步的，还包括支撑框架，固定件设置在支撑框架上，固定件与支撑框架之间设置有第一定位销，方便固定件的安装，且在更换同尺寸的掩模版时，可将固定件拆下直接更换，从而无需拆下吸附件以及与吸附件连接的真空管等，减少操作步骤，更为方便。

10、进一步的，所述吸附件与固定件之间设置有定位机构，所述通孔内侧具有向内延伸的安装板，所述吸附件相对的两边具有与安装板对应的凸出板，定位机构包括分别设置在相对的两安装板上的第二定位销和第三定位销、设置在吸附件凸出板上的两第二定位孔，两第二定位孔分别与第二定位销与第三定位销对应，如此能够使得吸附件的安装精度更高。

11、进一步的，所述通孔的各角均设置有弧形孔，方便取出吸附件。

12、本实用新型还通过以下技术方案实现：

13、一种光刻机，包括如上任一所述的掩模版固定装置。

技术特征：

1.一种掩模版保护装置，其特征在于：包括具有通孔的固定件、由上至下设置在固定件上并封闭通孔的吸附件、设置在固定件下端的多个保护件和与各保护件连接的电磁阀，掩模版被吸附件下端所吸附，保护件具有可水平伸缩的承托部，承托部可伸出至掩模版下方以在掩模版掉落时将其接住，电磁阀使保护件在突发情况时保持住当前状态。

2.根据权利要求1所述的一种掩模版保护装置，其特征在于：所述承托部包括第一端部和通过连接机构可拆卸设置在第一端部上的第二端部，第一端部和第二端部分别对应于不同尺寸的掩模版。

3.根据权利要求2所述的一种掩模版保护装置，其特征在于：所述连接机构包括设置在第一端部前端的磁吸件和连接孔、设置在第二端部后端以插入连接孔的连接杆和供磁吸件插入的磁吸槽。

4.根据权利要求2或3所述的一种掩模版保护装置，其特征在于：所述保护件还包括驱动机构，驱动机构输出端与承托部连接以驱动其伸缩，电磁阀与驱动机构连接。

5.根据权利要求2或3所述的一种掩模版保护装置，其特征在于：所述第一端部和第二端部均具有用于接住掩模版的水平面。

6.根据权利要求2或3所述的一种掩模版保护装置，其特征在于：所述第二端部下端具有水平延伸至第一端部下端的延伸部。

7.根据权利要求1或2或3所述的一种掩模版保护装置，其特征在于：还包括支撑框架，固定件设置在支撑框架上，固定件与支撑框架之间设置有第一定位销。

8.根据权利要求1或2或3所述的一种掩模版保护装置，其特征在于：所述吸附件与固定件之间设置有定位机构，所述通孔内侧具有向内延伸的安装板，所述吸附件相对的两边具有与安装板对应的凸出板，定位机构包括分别设置在相对的两安装板上的第二定位销和第三定位销、设置在吸附件凸出板上的两第二定位孔，两第二定位孔分别与第二定位销与第三定位销对应。

9.根据权利要求1或2或3所述的一种掩模版保护装置，其特征在于：所述通孔的各角均设置有弧形孔。

10.一种光刻机，其特征在于：包括如权利要求1-9任一所述的掩模版保护装置。

技术总结
本技术提供一种掩模版保护装置及光刻机，固定装置包括具有通孔的固定件、由上至下设置在固定件上并封闭通孔的吸附件、设置在固定件下端的多个保护件和与各保护件连接的电磁阀，掩模版被吸附件下端所吸附，保护件具有可水平伸缩的承托部，承托部可伸出至掩模版下方以在掩模版掉落时将其接住，电磁阀使保护件在突发情况时保持住当前状态。本技术能够防止掩模版因意外掉落而损坏。

技术研发人员：陈庆生,高建,李中秋,马玉彪
受保护的技术使用者：苏州盛拓半导体科技有限公司
技术研发日：20230321
技术公布日：2024/1/15