本技术涉及刻蚀,具体为一种紫外光刻胶刻蚀装置。
背景技术:
1、刻蚀是与光刻相联系的图形化(pattern)处理的一种主要工艺。所谓刻蚀,实际上狭义理解就是光刻腐蚀,先通过光刻将光刻胶进行光刻曝光处理,然后通过其它方式实现腐蚀处理掉所需除去的部分。刻蚀是用化学或物理方法有选择地从硅片表面去除不需要的材料的过程,其基本目标是在涂胶的硅片上正确地复制掩模图形。
2、对于一些产品的刻蚀时,会产生一些刻蚀胶碎屑、烟尘等物质,若不清理,其会落在产品上,影响产品的刻蚀和整体质量。
技术实现思路
1、本实用新型的目的在于提供一种紫外光刻胶刻蚀装置,以解决上述背景技术中提出的问题。
2、为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种紫外光刻胶刻蚀装置,包括:
3、机体,所述机体为柜体状,所述机体的中部设置隔板,隔板将机体上下侧分隔为操控空间和电控室;
4、承载台,所述承载台置于操控空间的内部下侧;
5、驱动机构,所述驱动机构安装在操控空间的内壁上,且驱动机构上安装有紫外光发生设备,所述紫外光发生设备位于承载台的上侧;
6、所述操控空间内上侧设置有空气净化系统。
7、进一步地,所述操控空间的前部通过合页转动连接有开合门。
8、进一步地,所述驱动机构包括连接在操控空间的内壁上的第一伺服滑台,所述第一伺服滑台的滑鞍下侧连接有第二伺服滑台,所述第一伺服滑台的移动方向与第二伺服滑台的移动方向垂直,所述紫外光发生设备安装在第二伺服滑台的滑鞍下侧。
9、进一步地,所述承载台的下表面设置有支架,所述承载台通过支架与操控空间的内部底端连接。
10、进一步地,所述承载台的上表面设置有夹持机构。
11、进一步地,所述空气净化系统包括设置在操控空间的内部上侧抽吸管,所述抽吸管的管路上设置有抽吸风机,所述抽吸管的一端连接有吸尘罩,所述吸尘罩位于驱动机构的上侧,所述抽吸管的另一端延伸至机体的外部。
12、与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:
13、通过空气净化系统的设置,在刻蚀操作的同时,对操控空间抽吸净化空气,避免空气内含有过多的烟尘而影响被刻蚀产品的质量。
1.一种紫外光刻胶刻蚀装置,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的一种紫外光刻胶刻蚀装置,其特征在于:所述操控空间(2)的前部通过合页转动连接有开合门(3)。
3.根据权利要求1所述的一种紫外光刻胶刻蚀装置,其特征在于:所述驱动机构包括连接在操控空间(2)的内壁上的第一伺服滑台(6),所述第一伺服滑台(6)的滑鞍下侧连接有第二伺服滑台(7),所述第一伺服滑台(6)的移动方向与第二伺服滑台(7)的移动方向垂直,所述紫外光发生设备(8)安装在第二伺服滑台(7)的滑鞍下侧。
4.根据权利要求1所述的一种紫外光刻胶刻蚀装置,其特征在于:所述承载台(4)的下表面设置有支架,所述承载台(4)通过支架与操控空间(2)的内部底端连接。
5.根据权利要求1所述的一种紫外光刻胶刻蚀装置,其特征在于:所述承载台(4)的上表面设置有夹持机构(5)。
6.根据权利要求1所述的一种紫外光刻胶刻蚀装置,其特征在于:所述空气净化系统包括设置在操控空间(2)的内部上侧抽吸管(9),所述抽吸管(9)的管路上设置有抽吸风机(10),所述抽吸管(9)的一端连接有吸尘罩(11),所述吸尘罩(11)位于驱动机构的上侧,所述抽吸管(9)的另一端延伸至机体(1)的外部。